| 意味 | 例文 |
second-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21455件
For signal wiring formed on each different wiring layer in order to interconnect a first logic element and a second logic element arranged on a semiconductor integrated circuit and interconnected through vias, timing analysis is performed between the first logic element and the second logic element (S02), an a decision is made whether a signal propagation delay time satisfies a specified reference value or not (S03, S04).例文帳に追加
半導体集積回路に配置される第1論理素子と第2論理素子を互いに接続するために、異なる配線層にそれぞれ形成され、且つビアを通して互いに接続する信号配線に対して、前記第1論理素子と前記第2論理素子間のタイミング解析をおこない(S02)、信号伝播遅延時間が所定の基準値を満たすか否かを判定する(S03、S04)。 - 特許庁
The scanning electrode substrate is provided with an alignment layer provided in a first region of a transparent substrate and subjected to alignment treatment in a prescribed direction, the alignment marks 4 provided in a second region S2 on the outer side of the first region of the transparent substrate and dummy patterns provided in a region S3 other than the first and the second regions of the transparent substrate.例文帳に追加
走査電極基板は、透明基板の上の第1の領域に設けられ、所定方向に配向処理が施された配向膜と、透明基板における第1の領域の外側の第2の領域S2に設けられたアライメントマーク4と、透明基板における第1の領域及び第2の領域S2以外の領域S3に設けられたダミーパターンとを備えている。 - 特許庁
A semiconductor memory device includes: bit lines BL and /BL provided in a layer of the same level above a semiconductor substrate 30; a first variable-resistance element 10 and a first MOSFET 20 which are provided below the bit line BL and are connected in series; and a second variable-resistance element 10 and a second MOSFET 20 which are provided below the bit line /BL and are connected in series.例文帳に追加
半導体記憶装置は、半導体基板30の上方の同一レベル層に設けられたビット線BL,/BLと、ビット線BLの下方に設けられかつ直列に接続された第1の抵抗変化素子10及び第1のMOSFET20と、ビット線/BLの下方に設けられかつ直列に接続された第2の抵抗変化素子10及び第2のMOSFET20とを含む。 - 特許庁
A resin molding apparatus is provided with: a first mold; a second mold movably arranged freely forwards and backwards to the first mold and facing thereto; a transfer plate 24 with the transfer face formed of an irregular pattern, attached to one of the first and second molds toward cavity spaces C1, C2; and a heat insulating layer formed of metallic glass disposed between one of the molds and transfer plate 24.例文帳に追加
第1の金型と、第1の金型に進退自在に、かつ、対向させて配設された第2の金型と、凹凸のパターンから成る転写面をキャビティ空間C1、C2に向けて第1、第2の金型のうちの一方の金型に取り付けられた転写プレート24と、一方の金型と転写プレート24との間に配設され、金属ガラスから成る断熱材層とを有する。 - 特許庁
This package 1 is constituted mainly of the pressure sensor 11 joined with the first substrate 11a having a fixed electrode, and the second substrate 11b having a movable electrode arranged with the prescribed space with respect to the fixed electrode, a support substrate 12 having an opening part 12a capable of storing the second substrate 11b, and a resin layer 13 for fixing the pressure sensor 11 and the support substrate 12.例文帳に追加
パッケージ1は、固定電極を有する第1基板11aと、この固定電極と所定の間隔をおいて配置された可動電極を有する第2基板11bとを接合してなる圧力センサ11と、第2基板11bを収容可能な開口部12aを有する支持基板12と、圧力センサ11及び支持基板12を固定する樹脂層13とから主に構成されている。 - 特許庁
The linear structure bodies are arranged in parallel to each other so that they are electrically insulated from each other through a first insulation line, and a second linear conductor intersects the linear structure bodies, and are brought into electrical contact with the luminous layer structure at intersecting points arranged in matrix, and the linear conductors are electrically insulated from each other through a second insulation part.例文帳に追加
この線状構造体は、互いに電気的に第1の絶縁線で絶縁され、第2の導電体が線状構造体に対して交差するように互いに並列して配置され、マトリックス状に配置された交差位置において前記発光層構造に電気的に接触され、この線状の導電体は、互いに第2の絶縁部によって電気的に絶縁されている。 - 特許庁
The second electrode is a platy conductive base material with at least a part covered by a nonconductive film 25, and the first electrode is in a linear shape and is composed of a first wire rod 11 having at least conductivity and a porous oxide semiconductor layer 12 arranged on an outer periphery of the first wire rod and carrying a colorant, and moreover is arranged so as to encircle the outer side of the second electrode.例文帳に追加
第二電極は、少なくとも一部が非導電性の膜25で覆われた板状の導電性基材であり、第一電極は、線状をなし、少なくとも導電性を有する第一線材11と、該第一線材の外周に配され色素を担持した多孔質酸化物半導体層12とから構成され、かつ、第二電極の外側を巡るように配される。 - 特許庁
The semiconductor photodetector SP includes: a silicon substrate 21 that includes a first conductivity type semiconductor and has first and second main surfaces 21a, 21b opposing to each other and a second conductivity type semiconductor layer 23 formed at the side of the first main surface 21a; and a charge transfer electrode 25 that is provided on the first main surface 21a and transfers generated charges.例文帳に追加
半導体光検出素子SPは、第1導電型の半導体からなり、互いに対向する第1主面21a及び第2主面21bを有すると共に第1主面21a側に第2導電型の半導体層23が形成されたシリコン基板21と、第1主面21a上に設けられ、発生した電荷を転送する電荷転送電極25と、を備えている。 - 特許庁
Such a difference in the radiopacity is caused by the followings: the helical pitch of the coil 6 in the second radiopaque region 72 is smaller than that in the first radiopaque region; and the content of the contrast medium in the coating layer 5 in the second radiopaque region 72 is less than that in the first radiopaque region 71.例文帳に追加
このような造影性の差は、第2の造影領域72におけるコイル6の螺旋のピッチが第1の造影領域におけるコイル6の螺旋のピッチよりも小さく、かつ、第2の造影領域72における被覆層5中の造影剤の含有量が第1の造影領域71における被覆層5中の造影剤の含有量よりも少ないことによりなされている。 - 特許庁
To avoid the discharge breakdown of a first and second stripe electrodes caused when a DC voltage is applied for recording a radiation image in a solid state radiation detector, in which an electrode layer, to which an electromagnetic wave for retrieval is radiated, is formed by alternately arranging the first stripe electrode for transmitting the electromagnetic wave for retrieval and the second stripe electrode for shielding the same.例文帳に追加
読取用の電磁波が照射される電極層が読取用の電磁波を透過する第1ストライプ電極と読取用の電磁波を遮断する第2ストライプ電極とが交互に配列されてなる放射線固体検出器において、放射線画像の記録の際、直流電圧印加による第1ストライプ電極および第2ストライプ電極の放電破壊を回避する。 - 特許庁
The display device 100 has a plurality of first electrodes 11, a plurality of pixel electrodes 14 electrically connected respectively to at least one of the plurality of first electrodes via at least a bidirectional dual electrode element 12, a plurality of second electrodes 17, a display medium layer provided between the plurality of pixel electrodes 14 and the plurality of second electrodes 17.例文帳に追加
表示装置100は、複数の第1電極11と、それぞれが複数の第1電極のいずれか1つに少なくとも1つの双方向二端子素子12を介して電気的に接続された複数の画素電極14と、複数の第2電極17と、複数の画素電極14と複数の第2電極17との間に設けられた表示媒体層とを有する。 - 特許庁
The reflective liquid crystal display device is constructed by arranging a first substrate with an Al reflection pixel electrode 12 formed thereon and a transparent second substrate with an ITO counter transparent electrode 9 formed thereon so as to place the reflection pixel electrode 12 and the counter transparent electrode 9 opposite to each other, and injecting a liquid crystal layer 8 in a gap between the first and second substrates.例文帳に追加
Al反射画素電極12を形成してなる第1の基板と、ITO対向透明電極9を形成してなる透明な第2の基板とを、反射画素電極12と前記対向透明電極9とが対向するように配置し、これら第1の基板と第2の基板との間隙に液晶層8を注入してなる反射型液晶表示装置。 - 特許庁
The cathode has a cathode active material composition containing a conductive agent, a binder, and a cathode active material formed on one surface of a current collector, and the cathode active material contains a first lithium compound with the open potential of 3V or higher and a second lithium compound with potential smaller than 3V based on a lithium metal, and the second lithium compound includes a metal oxide coating layer.例文帳に追加
導電剤、バインダー及びカソード活物質を含むカソード活物質組成物が集電体の一面上に形成され、カソード活物質がリチウム金属を基準に、開放電位が3V以上である第1リチウム化合物と、3V未満である第2リチウム化合物とを含有し、第2リチウム化合物が金属酸化物コーティング層を含むことを特徴とするカソード。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device 1 constituted by joining the second substrate 200 to the first substrate 100 having the element region 110 to seal the element region 110 includes feeding electricity to a heating metal layer 150 when the first substrate 100 and second substrate 200 are joined together with a substrate joining member 160 interposed.例文帳に追加
素子領域110を有する第1基板100に、前記素子領域110を封止するために、第2基板200を接合してなる半導体装置1を製造する方法であって、第1基板100と第2基板200とを基板接合部材160を介して接合させる際に、加熱金属層150に通電させることを特徴とする半導体装置1の製造方法。 - 特許庁
Infrared rays emitted from an inner lid 4 are detected by an infrared sensor 8, it is provided with a sensor base material 20, a first thermal element 22, a second thermal element 23 and an infrared reflecting layer 25 for reflecting the infrared rays facing the second thermal element 23, and the infrared sensor 8 of the configuration is arranged inside a lid equipped with the inner lid 4.例文帳に追加
赤外線センサ8で内蓋4より放射される赤外線を検出するようにし、これはセンサ基材20と、第1の感熱素子22と、第2の感熱素子23と、第2の感熱素子23に相対して赤外線を反射する赤外線反射層25とを有するとともに、これら構成の赤外線センサ8を、内蓋4を装備した蓋内に配置したものである。 - 特許庁
The laminate type dielectric filter comprises a strip line resonator L1 comprising a dielectric 2 composed of a plurality of dielectric layers; at least first and second mutually opposed strip line conductor layers 13, 16 embedded in the dielectric 2; ground conductor layers 22, 25 opposite to the first and second stripline conductor layers 13, 16; and an input/output conductor layer 28.例文帳に追加
積層型誘電体フィルタは、複数の誘電体層から成る誘導体2と該誘導体2に埋設され且つ互いに対向配置された少なくとも第1及び第2のストリップライン導体層13,16と第1及び第2のストリップライン導体層13,16に対向配置されたグランド導体層22,25と入出力導体層28とから成るストリップライン共振器L1を具備している。 - 特許庁
If a first thin and small electrode 41aa and a second thin and small electrode 42aa which are electrically short-circuited via a pin hole P of a highly dielectric material layer 43 are present, the first electrode 41aa has no power supply post 61a nor via hole 61b formed, and the second electrode 42aa has no ground post 62a nor via hole 62b formed.例文帳に追加
高誘電体層43のピンホールPを介して電気的に短絡している第1薄膜小電極41aaと第2薄膜小電極42aaが存在している場合、第1薄膜小電極41aaには電源用ポスト61aやバイアホール61bが形成されておらず、第2薄膜小電極42aaにもグランド用ポスト62aやバイアホール62bが形成されていない。 - 特許庁
The capacitor type storage includes: a first conductive passage 21 and a second conductive passage 22 which are in parallel to each other; and a mixed layer 30 which is provided on the upper surface of the first conductive passage 21 and the upper surface of the second conductive passage 22 while having an insulating first substrate, a first conductive powder or first semiconductor powder dispersed in the first substrate.例文帳に追加
本発明にかかるキャパシタ型蓄電池は、互いに平行である第1導電路21及び第2導電路22と、第1導電路21の上面及び第2導電路22の上面それぞれに設けられ、絶縁性の第1基材と、第1基材中に分散された第1導電粉体または第1半導体粉体とを有する混合層30とを備える。 - 特許庁
In the device chip 100C of the light emitting device 100, the base semiconductor layer 1 of light absorptivity has a body 1m where the inner face of the notch 1j is formed and a brim-like part 1g integrated with a second main surface side end of the body 1m.例文帳に追加
発光素子100の素子チップ100Cにおいて、光吸収性のベース半導体層1が、切り欠き部1jの内側面を形成する本体部1mと、該本体部1mの第二主表面側端部に一体化された鍔状部1gとを有する。 - 特許庁
The protection layer 102 is provided with a first protection film 106 formed by a plasma CVD method without damaging the organic element 101, and a highly adhesive high-density second protection film 107 formed on the first protection film 106 by a sputtering method.例文帳に追加
保護層102は、プラズマCVD法によって有機素子101にダメージを与えることなく成膜された第1の保護膜106と、第1の保護膜106上にスパッタリング法によって成膜された密着性が高く高密度な第2の保護膜107を有する。 - 特許庁
To enhance environmental durability of a composite optical element including a third optical element composed of a resin layer between a first optical element and a second optical element and a shading member for suppressing generation of flare generated at an end of the third optical element.例文帳に追加
第1の光学要素と第2の光学要素の間に樹脂層からなる第3光学要素を備え、かつ、第3の光学素子の端部において発生するフレアの発生を抑える遮光部材を備えた複合光学素子の環境耐久性を高める。 - 特許庁
A p-side electrode 24 is formed on slopes 26 and 28 of the upper clad layer 22 parallel to the first and second slopes 12 and 14 of the GaAs substrate 16, while an n-side electrode 30 is formed on the rear surface of the GaAs substrate 16.例文帳に追加
p側電極24が、GaAs基板16の第1の傾斜面12及び第2の傾斜面14に平行な上クラッド層22の傾斜面26及び傾斜面28上に、また、n側電極30がGaAs基板16に裏面に、それぞれ、形成されている。 - 特許庁
At least one part of the data pads PD23 to PD0 is set into dual-purpose pads PD23, PD22 and first and second signals DP, DM constituting the differential signal are inputted to a receiver circuit 214 of the physical layer circuit via the dual-purpose pads PD23, PD22.例文帳に追加
データパッドPD23〜PD0の少なくとも一部が兼用パッドPD23、PD22に設定され、差動信号を構成する第1、第2の信号DP、DMが、兼用パッドPD23、PD22を介して物理層回路のレシーバ回路214に入力される。 - 特許庁
After crystallization of the oxidized conductive film 26 through heat treatment, the oxidized conductive film 26 is reduced when forming the initial layer 27A of the ferroelectric film 27, thereby forming a second conductive film 26A, whose crystal grain is small and the orientation of the same is regulated.例文帳に追加
酸化導電膜26を熱処理により結晶化した後、強誘電体膜27の初期層27Aの形成時に酸化導電膜26を還元することにより、結晶粒が小さく且つ配向が整った第2の導電膜26Aを形成する。 - 特許庁
In the second step, a light L2 with different transmission is used as a predetermined light L to control the distribution of light intensity, and a micro irregular structure 3a decided beforehand by device designing is precisely formed on a boundary surface from the one surface of the transparent substrate 2 in the semiconductor layer 3.例文帳に追加
第2工程は、所定の光Lとして、異なる透過率の光L2を用いて光の強度分布を制御して、半導体層3の透明基板2の一面との界面に予めデバイス設計にて決めた微細凹凸構造3aを精度良く形成する。 - 特許庁
As a result, if a foreign material 300 is contained in the organic light emitting layer 240 of that pixel, the second electrode 250 is separated into a contact region 250a with the foreign material 300 and a region 250b which is contacted with neither that region 250a nor the foreign material 300.例文帳に追加
その結果、その画素の有機発光層240に異物300が含まれていたら、第2電極250を、異物300との接触領域250aと、その領域250a及び異物3001の双方に接触していない領域250bとに分離する。 - 特許庁
The second layer 11 is positioned on the side coming into contact with the cathode pellets.例文帳に追加
カソードペレット13を挿入するカップ10を、第一層12がニッケル・クロム合金、第二層11がニッケル・マグネシウム合金、ニッケル・マグネシウム・シリコン合金、ニッケル・マグネシウム・タングステン合金、ニッケル・マグネシウム・シリコン・タングステン合金のいずれかである二層の金属板で形成し、第二層11がカソードペレットと接する側とする。 - 特許庁
The undercoat layer 26 is formed of a member having an adhesive feature with an electrode such as the first and second gate electrodes 34 and 41 higher than an adhesive feature between the electrode and the substrate body when forming the electrode on the one surface of the substrate body 25 by the coating method.例文帳に追加
下地層26は、第1および第2ゲート電極34,41などの電極との接着性が、基板本体25の一表面上に塗布法で電極を形成した場合の電極と基板本体との接着性よりも高い部材によって形成される。 - 特許庁
The electrolyte 30 is contained in spaces/a space of the porous oxide semiconductor layer 12 and/or the nonconductive film 25, and the second electrode 20 has a structure for exposing the plate-like nonconductive base material 22, in an angled part which is wound with the first electrode 10.例文帳に追加
電解質30は、多孔質酸化物半導体層12及び/又は非導電性の膜25の空間部に含まれており、第二電極20は、第一電極10を巻き付ける角部において板状の非導電性基材22を露出させている構造を有する。 - 特許庁
The composition contains a mixed solvent containing a first organic solvent A having a surface tension of 37 mN/m or more and a second organic solvent B having a surface tension less than 32 mN/m, and a material for forming the liquid crystal alignment layer dissolved in the mixed solvent.例文帳に追加
表面張力が37mN/m以上の第1有機溶剤Aと、表面張力が32mN/m未満の第2有機溶剤Bとを含む混合溶剤と、この混合溶剤に溶解されてなる液晶配向膜形成用材料と、を含有してなる。 - 特許庁
A detection part 8 consisting of a second conductivity type impurity area to which signal charges accumulated in a charge accumulation area are transferred is provided, corresponding to the charge storage area 7, in the semiconductor layer 1 while spaced apart from the charge storage area 7.例文帳に追加
電荷蓄積領域7に蓄積された信号電荷が転送される、第2導電型の不純物領域からなる検出部8が、電荷蓄積領域7に対応して、電荷蓄積領域7と間隔をおいて半導体層1に設けられている。 - 特許庁
A light-transmitting organic EL display body 5 is formed by stacking a first electrode 5b made of a transparent conductive material, an organic EL luminescent layer 5c, and a second electrode 5e made of a transparent conductive material, in this order, on a transparent substrate 5a, such as, glass substrate.例文帳に追加
光透過型有機EL表示体5は、ガラス基板等の透明基板5a上に、透明な導電性素材による第1電極5b、有機EL発光層5c、透明な導電性素材による第2電極5eが順に積層されて形成される。 - 特許庁
A semiconductor substrate 1 which has a connection electrode 2 and is provided with a first metal film 4 and a second metal film 5, and an electrical connection projection 10 on the connection electrode 2 is provided with a metal protection layer 6 adjacently to an outer circumferential part of the electric connection projection 10.例文帳に追加
接続用電極2を有し、接続用電極2の上に第1金属膜4と第2金属膜5と電気接続突起10を設けた半導体基板1において、電気接続突起10の外周部に隣接するように、金属保護層6を設ける。 - 特許庁
The gas sensor element 100 is constituted so that at least the surfaces of the first and second solid electrolytes 17 and 19 (excepting the parts of a pump electrode 10 and a detection electrode 11) facing the inside of a first measuring chamber 5 are covered with an insulating layer 60.例文帳に追加
ガスセンサ素子100は、少なくとも、第1測定室5内に面する第1固体電解質体17及び第2固体電解質体19の表面(ポンプ用電極10、検知用電極11の部分を除く)が、絶縁層60で被覆されている。 - 特許庁
An insulator 30a which is formed on the side wall of a first trench 34a from the surface of a silicon layer 40b up to the specified depth is formed with a thickness larger than that of the insulator 30b of a second trench 34b from the specified depth up to an oxide film 40a.例文帳に追加
シリコン層40bの表面から所定の深さまでの第一トレンチ34aの側壁に形成されている絶縁体30aを、所定の深さから埋め込み酸化膜40aまでの第二トレンチ34bの絶縁体30bより厚く形成する。 - 特許庁
This semiconductor device 202 is provided with concave portions 118 formed in a first region 104, a second region 106 and separation regions 108 respectively; and a dielectric layer 120 for backing the concave portions 118 so as to have a uniform thickness, on a substrate 102.例文帳に追加
本発明の半導体装置202は、基板102上に、第1領域104、第2領域106、及び分離領域108に形成された凹部118と、上記凹部118を均一な厚さで裏打ちする誘電体層120とを備えた半導体装置。 - 特許庁
The surface layer 3 is solidified by a composition in which a first component capable of forming an alkaline earth carbonate at the normal temperature and a second component capable of forming a solid hydrate at the normal temperature together with the first component or singly are at least mixed.例文帳に追加
表層3は、常温下でアルカリ土類炭酸塩を生成し得る第1成分と、この第1成分とともに又は単独で常温下で固体水和物を生成し得る第2成分とが少なくとも混合されてなる調合物により固化されている。 - 特許庁
In the buffer layer 3, the entire Al composition of one pair of the first buffer region 331 and the adjacent second buffer region 332 at the nitride-based compound semiconductor 4 side is set to be larger than the Al composition of one pair of the regions at the substrate side.例文帳に追加
バッファ層3において窒化物系化合物半導体4側の第1のバッファ領域331とそれに隣接する第2のバッファ領域332との1組の全体のAl組成は基板側の1組のAl組成に対して大きく設定されている。 - 特許庁
After that, the unwanted first substrate 1 is peeled, by mechanically destroying the easily peelable layer 2 between the first substrate 1 and the shaped article 3 (and an electrode 4) and the device, such as a piezoelectric film type elements, is manufactured by transferring the shaped article 3 on the second substrate 5.例文帳に追加
その後に、第一の基板1と造形物3(および電極4)との間の易剥離層2を機械的に破壊することにより不要な第一の基板1を剥離し、第二の基板5上に造形物3を転写して、圧電膜型素子等のデバイスを作製する。 - 特許庁
Further, the barrier forming composite is applied on top of it and dried, then a second barrier 2 is formed using a barrier forming die in the direction crossing at right angles the first barrier, and after forming the protection layer and removing the unnecessary portion and calcination, a barrier of lattice shape is formed.例文帳に追加
更に、その上から隔壁形成用組成物を塗布乾燥後、第1の隔壁と直交する方向に、隔壁形成型を用いて第2の隔壁2を形成し、保護層形成と不要物の除去後に焼成を行って格子状の隔壁を形成する。 - 特許庁
In a third lamination process 101, the silicon steel plate 51 is pressed on the second laminated layer 92, then the I type plates 71 are laminated while being stamped to form the stators 15, and simultaneously the core type plates 72 are laminated while being stamped to form a magnet core 41.例文帳に追加
第3積層工程101にて、珪素鋼板51を第2積層部92上でプレスし、I型プレート71を打ち抜きながら積層してステータ15を形成すると同時に、コア型プレート72を打ち抜きながら積層してマグネットコア41を形成する。 - 特許庁
The electroluminescent device has a functional region to emit light of a first spectrum distribution and a filter layer which is arranged at the light path of the functional region and absorbs a prescribed spectrum portion region of the light of the first spectrum distribution, and thereby, light of a second spectrum distribution is emitted.例文帳に追加
第1のスペクトル分布の光を発光する機能領域と、この機能領域の光路に配置され第1のスペクトル分布の光の所定のスペクトル部分領域を吸収するフィルタ層とを有し、これにより第2のスペクトル分布の光が発光される。 - 特許庁
A flexible printed circuit 100 is formed by performing thermocompression bonding after first and second unit substrates 1 and 2 are disposed so that surfaces 11a and 21b are opposed to each other, and an adhesive layer 30 is formed by applying epoxy-based thermosetting adhesive to between the surfaces 11a and 21b.例文帳に追加
フレキシブルプリント回路100は、第1及び第2の単位基板1,2を、面11aと面21bとが対向するように配置し、間にエポキシ系の熱硬化型接着剤を塗布等して接着剤層30を形成した上で熱圧着して形成される。 - 特許庁
In the pattern forming method in which the surface layer of a substrate 1 is patternwise etched using a resist pattern as a mask, the pattern forming region of the surface of the substrate 1 is divided into a dense first region 2a and a thin second region 2b in accordance with pattern forming density.例文帳に追加
基板1の表面層に対して、レジストパターンをマスクに用いたパターンエッチングを施すパターン形成方法において、基板1表面のパターン形成領域を、パターンの形成密度に応じて密な第1領域2aと疎な第2領域2bとに分割する。 - 特許庁
The first under surface electrode 12 and the second under surface electrode 22 are formed mutually adjacently on the under surface of the solid electrolyte layer 4a, and the shape of an adjacent part in a plan view is a ridged and grooved shape, and the ridged portion is inserted into the grooved portion mutually.例文帳に追加
また、第1下面電極12と第2下面電極22は、固体電解質層4aの下面に互いに隣接して形成され、隣接する部分を平面視したときの形状が凹凸状であって互いに凸部が凹部に入り込んでいるものである。 - 特許庁
The emitter region 6 and the collector region are arranged separately in the width direction of the side wall and the depth direction of the semiconductor substrate 1 through the second conductive type impurity diffusion layer 5, and they are arranged in the closest position in width direction of the side wall.例文帳に追加
前記エミッタ領域6と前記コレクタ領域とは前記第2導電型の不純物拡散層5を介してサイドウオールの幅方向及び半導体基板1の深さ方向に離間して配置され、かつサイドウオールの幅方向において最近接して配置されている。 - 特許庁
The thin film magnetic head is equipped with; a magnetoresistive element 5; first and second reproduction shield layers 3 and 9 which are arranged so as to sandwich the magnetoresistive element 5; and a bias magnetic field impression layer to impress a bias magnetic field to the magnetoresistive element 5.例文帳に追加
薄膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果素子5と、磁気抵抗効果素子5を挟むように配置された第1および第2の再生シールド層3,9と、磁気抵抗効果素子5に対してバイアス磁界を印加するためのバイアス磁界印加層とを備えている。 - 特許庁
A contact hole 12 formed by removing portions of the first insulating film 2, the second insulating film 7 and the organic film 8, and a base layer metal thin film 13 formed so as to cover the contact hole and electrically connected to the first conductive film are provided.例文帳に追加
第1の絶縁膜2、第2の絶縁膜7及び有機膜8の一部を除去することにより設けられたコンタクトホール12と、前記コンタクトホールを覆うように設けられ、第1の導電膜と電気的に接続された下地金属薄膜13とを備えている。 - 特許庁
Since the position of the second insulation case 5b can be changed in two or more steps, the height of the assembly electrode 13 is adjusted, and occurrence of an electrical contact failure between the housed electric double layer capacitor element 12 and the armoring metal case 8 is prevented.例文帳に追加
第2の絶縁ケース5bの位置を2段階以上変化させることができるため、組み立て電極13の高さは調節され、収容される電気二重層コンデンサ素子12と外装金属ケース8との電気的な接触不良の発生が防止される。 - 特許庁
The liquid crystal display panel includes a first substrate provided with a pixel pattern piled up on a display area R and a dummy pattern 41 having two or more kinds of dummy pattern parts of mutually different thicknesses, a second substrate, a liquid crystal layer, and a plurality of spherical spacers 15.例文帳に追加
液晶表示パネルは、表示領域Rに重なった画素パターンと、互いに厚みの異なる複数種類のダミーパターン部を有したダミーパターン41とを具備した第1基板と、第2基板と、液晶層と、複数の球状スペーサ15とを備えている。 - 特許庁
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