「semiconductor processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD OF MANUFACTURING GALLIUM NITRIDE TRANSISTOR, METHOD OF PROCESSING GALLIUM NITRIDE SEMICONDUCTOR REGION, AND METHOD OF ELIMINATING RESIST例文帳に追加

窒化ガリウム系トランジスタを作製する方法、窒化ガリウム系半導体領域を加工する方法、およびレジストを除去する方法 - 特許庁

The number of defects in the manufacturing of the semiconductor device is reduced by using the processing solution including one kind or more surfactants.例文帳に追加

１種以上の界面活性剤を含む処理溶液を使用して、半導体デバイス製造時の欠陥数を低減する。 - 特許庁

Before the semiconductor substrate is processed in the processing chamber 10, a zero point of the pressure gauge 30 and the MFC 20 is adjusted.例文帳に追加

処理室１０で半導体基板が処理される前に圧力計３０およびＭＦＣ２０のゼロ点が調整される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which signal processing circuits are integrated inside a high dielectric floating block.例文帳に追加

高耐圧フローティングブロック内に信号処理回路を集積化した半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method that prevents the occurrence of chipping or cracking of a substrate during handling or during device processing.例文帳に追加

ハンドリング時やデバイスプロセス時に基板の欠けや割れが発生し難い半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing device, capable of simultaneously driving two liquid crystal panels having different drive systems.例文帳に追加

駆動方式が異なる２つの液晶パネルを同時に駆動することが可能な半導体処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a substrate processing apparatus, wherein the quality of a silicon nitride film can be improved.例文帳に追加

シリコン窒化膜の膜質の向上が図れる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The composition for cleaning a residue and a cleaning method in a semiconductor wafer processing step are provided.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェハ加工工程において、残渣物を洗浄するための組成物及び洗浄方法に関する。 - 特許庁

An adhesive tape 100 for processing semiconductor wafers and the like is provided with a base layer 200 and an adhesive layer 300.例文帳に追加

本発明に係る半導体ウエハ等加工用粘着テープ１００は、基層２００と、粘着層３００とを備える。 - 特許庁

To realize a semiconductor device for processing video signal in which power consumption can be reduced sharply during slew operation.例文帳に追加

本発明は、スルー動作時に電力消費を大幅に低減できる映像信号処理用半導体装置を実現する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor substrate capable of suppressing disconnection of a wire and decrease in processing speed.例文帳に追加

ワイヤの断線を抑制するとともに、加工速度の低下を抑制する、半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To shorten processing time in a computer by reducing timing errors in logic circuits in the design of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の設計におけるロジック回路のタイミングエラーの発生を低減し、コンピュータの処理時間を短縮する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device not falling into a deadlock state even when a data processing part runs away during power-on resetting.例文帳に追加

パワーオンリセットの途中でデータ処理部が暴走してもデッドロック状態に陥ることのない半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a data processing method restricting access contents of a server device, etc., to a semiconductor circuit according to their rights.例文帳に追加

サーバ装置などの半導体回路へのアクセス内容をその権限に応じて規制できるデータ処理方法を提供する。 - 特許庁

To shorten the calculation processing time of each cell delay time in a semiconductor integrated circuit without increasing processor speed.例文帳に追加

プロセッサの高速化を行うことなく、半導体集積回路の各セル遅延時間の計算処理時間を短縮化する。 - 特許庁

This edge profile prevents the re-deposition of residual particles during semiconductor processing steps.例文帳に追加

このようなエッジプロファイルは、また半導体工程段階間に残余粒子の再付着を抑制できるように構成される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing semiconductor wafers which reduces polishing allowance, shortens processing time and improves flatness.例文帳に追加

研磨取代が小さく加工時間が短縮でき、高平坦化が図れる半導体ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

REACTION FORCE PROCESSING MECHANISM, STAGE APPARATUS PROVIDED WITH THE SAME, AND SEMICONDUCTOR INSPECTION APPARATUS PROVIDED WITH THE STAGE APPARATUS例文帳に追加

反力処理機構、その反力処理機構を備えたステージ装置、及びそのステージ装置を備えた半導体検査装置 - 特許庁

To provide a method for processing a semiconductor device which can compensate or control an undesirable change in threshold voltage.例文帳に追加

望ましくない閾値電圧変化を補償又は抑制することが可能な半導体素子の処理方法を提供する。 - 特許庁

DICING OPERATION DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE COMPONENT CONSTITUTING METHOD, AND METHOD FOR RECOGNIZING LEVEL DIFFERENCE FORMED WITH OBJECT OF DICING PROCESSING例文帳に追加

ダイシング作業装置と半導体装置部品構成方法、並びにダイシング処理対象物との段差認識方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can increase a film thickness uniformity, and also a substrate processing device.例文帳に追加

膜厚均一性を向上させることができる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the degradation of mounting yield of a semiconductor module when warpage is caused in a module substrate by a reflow processing.例文帳に追加

リフロー処理によりモジュール基板に反りが発生した場合での半導体モジュールの実装歩留の低下を抑制する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, which includes a display portion capable of accurately performing input processing from a display screen at high speed.例文帳に追加

表示画面からの入力処理を高速で正確に行える表示部を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

The processing machine using a laser beam is provided with laser beam machining means (64, 164) to execute irradiation of the laser beam to a workpiece (the semiconductor wafer 34).例文帳に追加

被加工物（半導体ウエーハ３４）にレーザビームを照射するレーザビーム加工手段（６４、１６４）を具備する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor device which can optionally adjust a desired stand-off height and perform lead processing.例文帳に追加

所望のスタンドオフ高さを任意に調節し、リード加工をすることができる半導体装置の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit device capable of eliminating the enlargement of program codes, and speeding up a data processing.例文帳に追加

プログラムコードの肥大化をなくし、データ処理を高速化することができる半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

IMAGE GENERATOR, METHOD FOR SWITCHING GEOMETRY PROCESSING FORM IN THE SAME, RECORDING MEDIUM, COMPUTER PROGRAM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

画像生成装置、画像生成装置におけるジオメトリ処理形態の切換方法、記録媒体、コンピュータプログラム、半導体デバイス - 特許庁

To provide a signal processing processor and a semiconductor device in which the increase of types or word length of data operation instructions is suppressed.例文帳に追加

データ演算命令の種類の増加や語長を抑制した、信号処理プロセッサ及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

For example, immediately after the trench processing, the semiconductor substrate is subjected to plasma ashing treatment, after subjecting it to heat treatment within a temperature scope of 300-500°C.例文帳に追加

例えば、トレンチ加工処理直後に、３００〜５００［℃］の温度範囲内で加熱処理した後、プラズマアッシング処理する。 - 特許庁

To provide a lead frame positioning mechanism and semiconductor manufacturing device which is capable of cutting down the investment cost of a lead processing mold.例文帳に追加

リード加工金型の投資費用を削減可能なリードフレーム位置決め機構及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To decrease the frequency of refreshing operation to expand a band for data processing in a semiconductor device having memory units.例文帳に追加

記憶装置を備えた半導体装置において、リフレッシュ動作の回数を減らし、データ処理の帯域を広げるようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device which is less complicated in the circuit configuration and processing and a memory cell recovery method.例文帳に追加

回路構成または処理の煩雑化が低減された半導体記憶装置およびメモリセルの救済方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing thermoelectric semiconductor composition for improving conversion efficiency, using a multiple-level heat treatment processing.例文帳に追加

多段階熱処理により変換効率を改良する新規な熱電半導体組成物の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor element having an SOI MOS transistor and a signal processing device, whose operating characteristics are improved.例文帳に追加

ＳＯＩ ＭＯＳトランジスタを備えた半導体素子及び作動特性が改善された信号処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a spin processing apparatus which can preferably process the lower surface of a semiconductor wafer.例文帳に追加

この発明は半導体ウエハの下面を良好に処理できるようにしたスピン処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

FIB equipment cuts copper wiring 19 formed on a semiconductor substrate 18 by the processing of a focused ion beam.例文帳に追加

ＦＩＢ装置は、半導体基板１８に形成されている銅配線１９を集束イオンビームの加工により切断する。 - 特許庁

TRACKING ERROR GENERATING DEVICE AND METHOD, SEMICONDUCTOR FOR GENERATING TRACKING ERROR, COMPUTER PROGRAM PERFORMING TRACKING ERROR GENERATION PROCESSING例文帳に追加

トラッキングエラー生成装置および方法、トラッキングエラー生成用半導体、トラッキングエラー生成処理を実行するコンピュータプログラム - 特許庁

To provide a silicon part of a semiconductor processing apparatus containing low levels of metal impurities having high mobility in silicon.例文帳に追加

シリコン内で高い移動度を有する低レベルの金属不純物を含む半導体処理装置のシリコン部品を提供する。 - 特許庁

An installation stand device for semiconductor processing includes the installation stand 5 having an installation face 7 for supporting a substrate to be processed L.例文帳に追加

半導体処理用の載置台装置は、被処理基板Ｌを支持するための載置面７を有する載置台５を含む。 - 特許庁

It is preferred that the at least sidewalls of the etched semiconductor film are subjected to an oxidation processing, before performing the dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングを行う前に、少なくともエッチングされた半導体膜の側壁を酸化処理することが好ましい。 - 特許庁

The semiconductor substrate 2 is subject to surface reforming treatment through plasma processing by using a gas containing nitrogen, ammonia or the like.例文帳に追加

半導体基板２は、窒素、アンモニア等を含むガスを用いて、プラズマ処理により表面改質処理されている。 - 特許庁

SURFACE PROCESSING METHOD OF AlN CRYSTAL, AlN CRYSTAL SUBSTRATE THE AlN CRYSTAL SUBSTRATE WITH EPITAXIAL LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＡｌＮ結晶の表面処理方法、ＡｌＮ結晶基板、エピタキシャル層付ＡｌＮ結晶基板および半導体デバイス - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can wash a semiconductor wafer with high cleanliness.例文帳に追加

この発明は半導体ウエハを高い清浄度で洗浄することができるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory capable of continuously reading data at high speed, and a signal processing system.例文帳に追加

高速かつ連続的にデータを読み出すことが可能な半導体記憶装置および信号処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an insulating gate type semiconductor element with high processing precision without degrading productivity.例文帳に追加

生産性を低下させることなく、高い加工精度を有する絶縁ゲート型半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁