「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(645ページ目) - Weblio英語例文検索

Print layers 2, 3 containing character information and/or picture information are disposed on the surface and the back surface of a surface substrate 1 comprising a white or milk white film, and the novelty information is printed and the back surface substrate 5 is strippably stuck on the print layer of the back surface.例文帳に追加

白又は乳白色フィルムからなる表面基材１の表面及び裏面に文字情報及び又は画像情報を含む印刷層２、３が設けられ、該裏面の印刷層にはノベルティー情報が印刷されると共に裏面基材５が剥離可能に貼り付けられていることを特徴とする印刷ラベル。 - 特許庁

A method of forming a nitride system semiconductor device includes a step in which a plurality of columns 1a made of Si are formed on an upper surface of an Si substrate 1 by machining the upper surface of the Si substrate 1, and a step in which an n-type GaN layer 5 is made to grow on the plurality of columns 1a.例文帳に追加

この窒化物系半導体の形成方法は、Ｓｉ基板１の上面を加工することによって、Ｓｉ基板１の上面に、Ｓｉからなる複数の円柱状部１ａを形成する工程と、その複数の円柱状部１ａ上に、ｎ型ＧａＮ層５を成長させる工程とを備えている。 - 特許庁

The insulating film is subjected to overetching, to make its surface lower than that of the semiconductor substrate, a gate spacer is formed on the side of the gate stack, then an epitaxial layer is selectively grown on the side and base of the semiconductor substrate which are exposed by overetching, and first source/drain region 112 and second source/drain regions 114 are formed.例文帳に追加

半導体基板表面以下にエッチングされるように絶縁膜をオーバーエッチングしながらゲートスタックの側面にゲートスペーサを形成した後、オーバーエッチングにより露出した半導体基板の側面及び底面で同時に選択的なエピタキシャル層を成長させ、第１及び第２ソース／ドレイン領域１１２、１１４を形成する。 - 特許庁

To provide glossy paper for ink-jet recording which is good in ink absorbency, high in gloss, and excellent in strength of the surface of a gloss development layer, has image quality equivalent to a medium produced by using a photographic paper substrate or a film substrate and a uniform feel of gloss, and is useful as a recyclable recording medium.例文帳に追加

良好なインク吸収性を持ちながら、高光沢であり、更に光沢発現層表面の表面強度にも優れ、印画紙基材あるいはフィルム基材を用いて製造された媒体に匹敵する画質と均一な光沢感を有しかつリサイクル可能な記録媒体としてのインクジェット記録用光沢紙の提供。 - 特許庁

To provide a substrate for an electronic device, equipped with an inorganic alignment layer which is excellent in durability (light resistance) and excellent, for example, in a function to control an alignment state of liquid crystal molecules, a method for manufacturing the substrate for the electronic device, a highly reliable liquid crystal panel and a highly reliable electronic apparatus.例文帳に追加

耐久性（耐光性）に優れるとともに、例えば、液晶分子の配向状態を規制する機能に優れる無機配向膜を備える電子デバイス用基板、かかる電子デバイス用基板を製造する電子デバイス用基板の製造方法、信頼性の高い液晶パネルおよび電子機器を提供すること。 - 特許庁

A second wiring section 37 along the inclined inner-surface 45 ranges at an obtuse angle to a direction B1, where the first wiring section 36 along one surface 36 of the semiconductor substrate 31 is extended in the wiring layer 33, and a direction B3 where a third wiring section 38 is extended along the thickness direction T of the semiconductor substrate 31.例文帳に追加

この傾斜する内周面４５に沿う第２配線部３７は、配線層３３のうち半導体基板３１の一表面３６に沿う第１配線部３６の延びる方向Ｂ１、半導体基板３１の厚み方向Ｔに沿って第３配線部３８の延びる方向Ｂ３に対して鈍角に連なる。 - 特許庁

The optical fiber array 10 is provided with a substrate 30 on which storage grooves 34 which stores an optical fiber 24 are formed, a cover plate 12 which covers the optical fiber 24 stored in the storage grooves 34 and an adhesive layer which joins the substrate 30 on which the optical fiber 24 is stored in the storage grooves 34 and the cover plate 12.例文帳に追加

光ファイバアレイ１０は、光ファイバ２４を収容する収容溝３４が形成されている基板３０と、収容溝３４に収容された光ファイバ２４を覆う蓋板１２と、光ファイバ２４を収容溝３４に収容した基板３０と蓋板１２とを接合する接着層とを備えている。 - 特許庁

To provide the subject method comprising such a process as to subject a reaction chamber with a substrate set inside to the feed of both adsorption gas and reactant gas and their purges alternately to effect atomic layer growth by reaction between the adsorption gas and reactant gas to form a thin film on one side of the substrate; wherein impurities left in the thin film are diminished during film formation.例文帳に追加

基板が設置された反応室に対して、吸着ガス及び反応ガスの供給、及びパージを交互に行い、吸着ガスと反応ガスとの反応によって原子層成長を行わせることにより、基板の一面上に形成された薄膜において、成膜の際に、膜中に残存する不純物を低減する。 - 特許庁

Each reflecting mirror 23 is composed of the facet face of the nitride semiconductor grown obliquely to the substrate 22 by selective growth, and is constituted to upwardly change the emitting direction of laser light emitted from the semiconductor layer 21 against the main bearing face of the substrate 22 by reflecting the laser light.例文帳に追加

反射鏡２３は、選択成長により基板に対して斜めに成長した窒化物半導体のファセット面からなり、半導体レーザ２１から発せられたレーザ光を反射することにより、レーザ光の出射方向を基板２２の主方位面に対して上方向に変えるように構成されている。 - 特許庁

In a position facing a discharge space S between a front glass substrate 1 and a back glass substrate 6, a magnesium oxide layer 5 containing crystalline powder wherein magnesium oxide crystalline performing cathode luminescence emission with a peak within a wave range of 200-300 nm excited by an electron beam is selected is provided.例文帳に追加

前面ガラス基板１と背面ガラス基板６の間の放電空間Ｓに面する位置に、電子線によって励起されて波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体が選別された結晶体粉末を含む酸化マグネシウム層５が設けられている。 - 特許庁

This method for forming the glare shielding layer is characterized by arranging a substrate between opposite electrodes, applying a high-frequency voltage at ≥100 and <150 Hz frequency across the electrodes, generating a discharge plasma and carrying out the glare shielding processing of the substrate surface.例文帳に追加

対向する電極間に基材を配置し、大気圧または大気圧近傍の圧力で、該電極間に１００ｋＨｚ以上１５０ＭＨｚ未満の周波数を有する高周波電圧を印加して放電プラズマを発生させ、該基材表面に防眩加工を施すことを特徴とする防眩層の形成方法。 - 特許庁

An MIS transistor includes: a gate insulating film 101 formed on the principal surface of an MIS semiconductor substrate 100; a gate electrode 102 formed on the gate insulating film 101; and a P-type channel doped layer 103 formed beneath the gate electrode 102 in the semiconductor substrate 100.例文帳に追加

ＭＩＳ型トランジスタは、ＭＩＳ型の半導体基板１００の主面に形成されたゲート絶縁膜１０１と、該ゲート絶縁膜１０１の上に形成されたゲート電極１０２と、半導体基板１００におけるゲート電極１０２の下方に形成されたＰ型のチャネル拡散層１０３とを有している。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electro-optic device, which is capable of surely forming a photosensitive resin layer in a prescribed region of an electro-optic device substrate even when using the electro-optic device substrate having an inclined end surface formed at an edge thereof, and to provide an electro-optic device manufactured by this method.例文帳に追加

端縁に傾斜端面が形成されている電気光学装置用基板を用いた場合でも、電気光学装置用基板の所定領域に感光性樹脂層を確実に形成することのできる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造された電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

By setting the thickness of the mask layer 15 thinner than the implanted depth of the impurity, a high dose region 12 is formed in a region, not covered by the mask, of the upper part of the SiC substrate 11, while low-dose regions 13 are formed in regions, covered by the mask, of the upper part of the SiC substrate 11.例文帳に追加

マスク層１５の厚さを不純物注入深さよりも浅く設定しておくことにより、ＳｉＣ基板１１の上部のうちマスクにより覆われていない部分には多量ドーズ領域１２を形成し、ＳｉＣ基板１１の上部のうちマスクにより覆われている部分には低量ドーズ領域１３を形成する。 - 特許庁

In a wiring board is provided, where an opening part is provided at the prescribed position of an insulating substrate and a wiring comprising a terminal part to cover the opening part is provided on one main surface of the insulating substrate, the wiring the wiring board, where a protruding conductor layer is provided in a region to which an external terminal of a semiconductor chip is connected.例文帳に追加

絶縁基板の所定位置に開口部を設け、前記絶縁基板の一主面上に、前記開口部を覆う端子部を有する配線を設けた配線基板において、前記配線は、半導体チップの外部端子が接続される領域に突起状の導体層を設けられている配線基板である。 - 特許庁

The polymer dispersion type liq. crystal layer 4 is irradiated with a UV ray from the counter substrate 3 side and after then irradiated with a UV ray from the array substrate 2 side, and by polymerizing the polymer precursor in a mixed soln. contg. liq. crystal material and the polymer precursor arranged between the substrates 2 and 3, the liq. crystal is separated from the polymer in phase.例文帳に追加

高分子分散型液晶層４は、対向基板側３から紫外線を照射し、その後にアレイ基板２側から紫外線を照射し、前記基板間に配置された液晶材料と高分子前駆体を含む混合溶液のうちの高分子前駆体を重合させて液晶と高分子を相分離させる。 - 特許庁

In the chip resistor 10 where a filmlike resistor 14 is formed on the insulating surface of a substrate 12 and coated with a protective layer 16 and an external electrode 18 is provided, arithmetic average roughness Ra on the surface of the substrate 12 for forming the resistor film 14 is set at 0.02 μm or less.例文帳に追加

基板１２の絶縁性の表面上に膜状の抵抗体１４を形成し、この抵抗体膜１４を保護層１６で被覆し、外部電極１８を設けたチップ抵抗器１０において、抵抗体膜１４を形成する基板１２表面の算術平均粗さＲａを０．０２μｍ以下とする。 - 特許庁

Further, it comprises a gate insulating film consisting of the laminated insulating film 2 formed on the silicon substrate 1 for discretely storing the charges, a gate electrode 4, and a pair of diffusion regions 5 for functioning as a source or a drain formed in the surface layer of the substrate 1 such that they seem to hold the gate electrode 4 between them.例文帳に追加

また、シリコン基板１上に形成された離散的に電荷を蓄積する積層絶縁膜２よりなるゲート絶縁膜と、ゲート電極４と、基板１の表面層にゲート電極４を挟持するように形成されたソース又はドレインとして機能する一対の拡散領域５とを有する。 - 特許庁

In the blade application apparatus 100, a coating liquid layer corresponding to an opening 27 of a mask 25 on a flat substrate D is formed by lapping the mask 25 having the opening 27 on the flat substrate D, supplying the coating liquid 49 on the mask 25 and applying the coating liquid 49 with a blade 51 moving relatively to the mask.例文帳に追加

開口２７を有するマスク２５を平面基板Ｄ上に重ね合わせ、マスク２５上に塗布液４９を供給して、マスク２５に対して相対移動するブレード５１により塗布液４９を塗布して、平面基板Ｄ上にマスク２５の開口２７に応じた塗布液層を形成するブレード塗布装置１００である。 - 特許庁

After a mask film 12B having a plurality of openings 12a in a stripe shape and made of a material on which substantially no nitride semiconductor grows is formed on a main surface of a base substrate 11, a semiconductor layer 13 of nitride is selectively grown through the mask film 12B on the base substrate 11.例文帳に追加

母材基板１１の主面上に、窒化物半導体が実質的に成長しない材料からなり、ストライプ状に開口する複数の開口部１２ａを有するマスク膜１２Ｂを形成した後、母材基板１１上に、マスク膜１２Ｂを介して窒化物からなる半導体層１３を選択的に成長させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic circuit substrate which can reduce burning strain smaller while preventing problems of stamping unnecessary ruggedness on a front layer conductor or a passive element, causing a foreign matter adhesion, or decreasing a plating property and solder wettability in the method of manufacturing the ceramic circuit substrate by a simultaneously burning step using a restricted sheet.例文帳に追加

拘束シートを用いた同時焼成工程によるセラミック回路基板の製造方法において、表層導体や受動素子に不必要な凹凸をスタンプ（stamp）したり、異物付着を起こしたり、メッキ性や半田濡れ性の低下といった問題の発生を防ぎつつ、焼成ひずみをより小さくできる方法を提供する。 - 特許庁

Each spacers has a first spacer 30a erected and installed on the fluorescent face of the first substrate and a second spacer 30b erected and installed on the second substrate in line with the first spacer, and the first spacer and the second spacer are joined to each other via a height moderating layer 32 deformable in the height direction of the spacer.例文帳に追加

各スペーサは、第１基板の蛍光面上に立設された第１スペーサ３０ａと、第１スペーサと整列して第２基板上に立設され第２スペーサ３０ｂと、を有し、第１スペーサおよび第２スペーサはスペーサの高さ方向に変形可能な高さ緩和層３２を介して互いに接合されている。 - 特許庁

Further, a through hole 5 reaching the transparent electrode 3 piercing through the p-type semiconductor substrate 1 and the n-type semiconductor layer 2 is formed, so that a current can be extracted from a rear surface by a metal electrode 7a as a rear electrode formed on the second main surface side of the p-type semiconductor substrate 1.例文帳に追加

さらにｐ型半導体基板１およびｎ型半導体層２を貫通して透明電極３に至るスルーホール５を形成し、ｐ型半導体基板１の第２主面側に形成された裏面電極である金属電極７ａによって電流を裏面から取り出すことができるようにする。 - 特許庁

The pattern forming method includes exposing and developing a photosensitive resist material 13B to form a patterned layer 15, wherein before a step of applying the photosensitive resist material 13B on a substrate 11, an underlayer 13A comprising the same or another photosensitive resist material is formed on the substrate.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、感光性レジスト材料１３Ｂを露光、現像してパターン層１５を形成する方法において、基板１１の上に感光性レジスト材料１３Ｂを塗布する工程の前に、基板の上に同一又は他の感光性レジスト材料からなる下地層１３Ａを形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus for liquid phase growth equipped with a mechanism stirring a raw material solution in a cooling process, by which the temperature of the raw material solution is homogenized and the difference of the film thickness of the epitaxial layer grown on a substrate, even on a substrate with a large area, between its periphery and center is minimized.例文帳に追加

冷却過程において原料溶液を撹拌する機構を備えることによって原料溶液の温度を均質化し、これにより、大面積の基板上でも、その上に成長されるエピタキシャル層の膜厚が周辺と中央とで差が生じないようにした液相成長装置を提供することにある。 - 特許庁

A resin containing inorganic particles is applied to the surface of a transparent substrate such as a triacetylcellulose film to impart ruggedness to the surface of the transparent substrate and a layer of a liquid crystal compound such as a cholesteric liquid crystal compound, a nematic liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound is formed on the rugged surface.例文帳に追加

トリアセチルセルロースフィルムなどの透明基材表面に、無機粒子を含有する樹脂を塗工することにより、前記透明基材表面に凹凸を形成した後、この凹凸形成面に、コレステリック液晶化合物、ネマティック液晶化合物およびディスコティック液晶化合物などの液晶化合物層を形成した。 - 特許庁

The second concept prevents anti-phase domains from growing due to the growth of a polar material on a non-polar material using an off-cut corner Si substrate, this solving the problem of the diffusion between dissimilar atoms during growing a usual ZnSe layer on the Si substrate.例文帳に追加

第２のコンセプトは、オフカット角Ｓｉ基板を用いた非極性材料上に極性材料を成長させることに起因する反位相領域が生じないようにすることであり、それによってＳｉ基板上に一般的なＺｎＳｅ層を成長している間に異種原子間の拡散の問題が解決される。 - 特許庁

To provide a peeling method, with the use of a substrate of high translucency is indispensable and irradiation with a laser beam of relatively high intensity is necessary for making the substrate pass through and to further give sufficient energy to amorphous silicon, to release the hydrogen contained therein, and which will not damage the layer to be peeled off.例文帳に追加

透光性の高い基板を使用することが必須であり、基板を通過させ、さらに非晶質シリコンに含まれる水素を放出させるに十分なエネルギーを与えるため、比較的大きなレーザー光の照射が必要とされ、被剥離層に損傷を与えることなく剥離する方法を提供する。 - 特許庁

This friction material contains a substrate comprising a fibrous material and a binder of an organic and inorganic composite material impregnated into the substrate, and the ratio of an organic component and an inorganic component in the surface layer is controlled to increase the ratio of the inorganic component toward the surface in the direction of the thickness of the friction material.例文帳に追加

繊維質材料からなる基材と、この基材に含浸された有機無機複合材のバインダを含む摩擦材料において、その表層部における前記有機無機複合材の有機成分と無機成分の比を、この摩擦材料の厚み方向において表面に向かって無機成分の比率を高くする。 - 特許庁

In the decorative material for the floor obtained by laminating a decorative thermoplastic resin sheet on a woody substrate, an intermediate metal layer is formed between the substrate and the decorative sheet, and the depression of the decorative material after a DuPont impact falling test (JIS K 5400-1990) is made 0.7 mm or below.例文帳に追加

木質系基材上に熱可塑性樹脂化粧シートを積層してなる床用化粧材において、前記木質系基材と熱可塑性樹脂化粧シートとの間に、金属中間層を設け、床用化粧材のデュポン式衝撃落下試験（ＪＩＳ Ｋ５４００−１９９０）後の凹みを０．７ｍｍ以下としたことを特徴とする。 - 特許庁

The film deposition method for depositing a film on a substrate to be treated includes a first process wherein a first film is deposited by ALD method on an insulation layer formed on the substrate to be treated, and a second process wherein a second film is deposited by CVD method uninterruptedly after the first process.例文帳に追加

被処理基板上に成膜を行う成膜方法であって、前記被処理基板上に形成された絶縁層上にＡＬＤ法で第１の成膜を行う第１の工程と、当該第１の工程と連続して、ＣＶＤ法で第２の成膜を行う第２の工程と、を有することを特徴とする成膜方法。 - 特許庁

To provide a method and equipment for evaluating the life time and process damage of a semiconductor substrate on the basis of the intensity of haze light by aiming at the haze light being scattering light emitted from an area in which strong scattering body does not exit when the crystal defect of a semiconductor substrate surface layer is evaluated by light scattering.例文帳に追加

半導体基板表層の結晶欠陥を光散乱で評価する際、強い散乱体が存在しない領域から発せられる散乱光であるヘイズ光に着目し、このヘイズ光の強度に基づいて半導体基板のライフタイムおよびプロセスダメージを評価する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The insulating support substrate and the sensor IC are bonded with a spacer layer 101 in a region except the sensor region and the fuse region, and a gap 120a or 120b are formed between the insulating support and sensor region or the insulating support substrate and fuse region to reduce stress propagation from mold resin 401.例文帳に追加

絶縁支持基板とセンサＩＣとは、センサ領域とフューズ領域を除く領域においてスペーサー層１０１にて接合し、絶縁支持基板とセンサ領域、あるいは絶縁支持基板とフューズ領域との間には空隙１２０ａ，１２０ｂを有するようにしてモールド樹脂４０１からの応力伝播を緩和した。 - 特許庁

The DRAW type optical disk substrate has ≥20 mN/m and ≤40 mN/m critical surface tension measured on a signal surface before a dyestuff recording layer is formed, in a molded substrate formed by injection molding of aromatic polycarbonate having a viscosity-average molecular weight of 10,000-23,000 and forming grooves in the signal surface.例文帳に追加

粘度平均分子量１０，０００〜２３，０００の芳香族ポリカーボネートを射出成形して、信号面にグルーブを形成した成形基板において、色素記録層形成前の信号面で測定される臨界表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする追記型光ディスク基板。 - 特許庁

The liquid crystal display device has a first substrate 110a on which a first electrode 111 is formed, a second substrate 110b on which a second electrode 131 opposite to the first electrode 111 is formed, and a homeotropic alignment type liquid crystal layer 120 interposed between the first electrode 111 and the second electrode 131.例文帳に追加

液晶表示装置は、第１電極１１１が形成された第１基板１１０ａと、第１電極１１１に対向する第２電極１３１が形成された第２基板１１０ｂと、第１電極１１１と第２電極１３１との間に介在する垂直配向型の液晶層１２０とを有する。 - 特許庁

The gas sensor comprises the substrate, the reference electrode provided on the surface of the solid electrolyte, the detection electrode provided on the surface of the electrolyte, and the reaction layer which is provided between the substrate and solid electrolyte.例文帳に追加

基材、前記基材上に設けた固体電解質、前記固体電解質の表面に設けた基準極、及び前記固体電解質の表面に設けた検知極を有するガスセンサであって、前記基材と前記固体電解質の間に、前記基材と前記固体電解質の反応層を設けたことを特徴とするガスセンサ。 - 特許庁

This recordable optical disk substrate is 77 to 85° in the water drop contact angle measured by a signal surface prior to formation of a dyestuff recording layer of a molded substrate formed with grooves on the signal surface by injection molding an aromatic polycarbonate having a viscosity average molecular weight of 10,000 to 23,000.例文帳に追加

粘度平均分子量１０，０００〜２３，０００の芳香族ポリカーボネートを射出成形して、信号面にグルーブを形成した成形基板において、色素記録層形成前の信号面で測定される水滴接触角が７７°以上８５°以下であることを特徴とする追記型光ディスク基板。 - 特許庁

In the method for manufacturing a mask blank, at least one layer of a light-absorbing film having the property to absorb laser light is formed on a transparent substrate 14, and the transparent substrate 14 with the light-absorbing film is irradiated with laser light 12 of the wavelength at which the light-absorbing film shows absorption.例文帳に追加

マスクブランクの製造方法において、透明基板１４上に少なくとも１層のレーザ光を吸収する性質を有する光吸収膜を形成し、この光吸収膜を形成した透明基板１４に前記光吸収膜が吸収を有する波長のレーザ光１２を照射することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an aqueous hydrophilic coating composition capable of coating even on a substrate with poor resistance to organic solvents without forming a primer layer, giving a coated film which is hardly recognizable of interference patterns even when coated on a substrate high in transparency or glossiness, and capable of using in a place giving importance to appearances.例文帳に追加

プライマー層を形成させることなく耐有機溶剤性の低い基材に対しても塗布することができ、かつ、透明性や光沢性の高い基材に塗布しても塗膜の干渉模様が視認しにくく、外観を重視する場所での使用をも可能とする、水系親水性塗料組成物を提供する。 - 特許庁

A first substrate 100 has a TFT 110 as a switch element provided for each pixel, and a reflective layer 44, which is insulated from the TFT 110 and reflects light made incident from the side of a second substrate 200 through a second electrode 250 made of ITO etc., formed on an insulating film covering the TFT 110.例文帳に追加

第１基板１００には、画素毎に設けられたスイッチ素子であるＴＦＴ１１０、ＴＦＴ１１０を覆う絶縁膜の上にＴＦＴ１１０と絶縁され、第２基板２００側からＩＴＯ等からなる第２電極２５０を透過して入射される光を反射する反射層４４を形成する。 - 特許庁

In the Fabry-Perot filter apparatus, the method for manufacturing the Fabry-Perot filter apparatus, and the method for operating the Fabry- Perot filter apparatus, a Fabry-Perot filter and at least one color filter layer are used, both of them are assembled on a substrate, and at least two optical transducer elements formed in the substrate are covered.例文帳に追加

ファブリーペローフィルタ装置、前記ファブリーペローフィルタ装置を製造する方法および、前記ファブリーペローフィルタ装置を操作する方法においては、ファブリーペローフィルタと少なくとも１つの色フィルタ層を用いて、その双方を、基板上で組み立てて、その基板中に形成された少なくとも２つの光トランスデューサエレメントを覆う。 - 特許庁

To enhance the inspection efficiency and precision of a flaw by simply and readily detecting the flaws in the lower layer of the respective layers of a substrate, even when the flaws formed in the previous manufacturing process have been detected in the inspection of flaws in the respective layers of the substrate, in a flaw inspection system and a flaw inspection method.例文帳に追加

欠陥検査システムおよび方法において、基板の各レイヤーでの欠陥検査で、それより下層レイヤー、すなわち前の製造工程で形成された欠陥が検出される場合でも、下層レイヤーの欠陥を簡素かつ容易に除去し、欠陥検査の効率、精度を向上することができるようにする。 - 特許庁

A metal mold after release processing is coated with ultraviolet-ray setting resin 16, and a light-transmissive product substrate 2 after silane coupling processing is pressed against the resin; and the reverse surface side of the product substrate 2 is irradiated with uniform ultraviolet rays to set the ultraviolet-ray setting type resin layer 16 and then the metal mold is released.例文帳に追加

離型処理した金型上に紫外線硬化型樹脂１６を塗布し、その上にシランカップリング処理した光透過性の製品基板２を押し当て、製品基板２の裏面側から均一な紫外線光を照射して紫外線硬化型樹脂層１６を硬化させた後、金型を剥離する。 - 特許庁

A recess, such as a hole and a microchannel, is formed on the surface of the crystal substrate 20 in the SOI substrate thus obtained, machining required as a DNA chip and a micro fluidics chip is performed, and a silicon semiconductor element for analyzing and evaluating the sample adhered to and held by the recess is formed on the SOI layer 12.例文帳に追加

このようにして得られたＳＯＩ基板の石英基板２０の表面にホールやマイクロ流路などの凹部を形成してＤＮＡチップやマイクロフルイディスクチップとして必要な加工を施し、ＳＯＩ層１２にはこの凹部に付着・保持された試料を分析・評価するためのシリコン半導体素子を形成する。 - 特許庁

Namely, a dummy common electrode 310', first insulating film 309, dummy drain electrode 311', dummy pixel electrode 312' and second insulating film 308 are formed in the peripheral part of the TFT substrate, and a dummy light-shielding film 302', dummy color filter layer 303' and flattening film 304 are formed in the peripheral part of the counter substrate.例文帳に追加

即ち、ＴＦＴ基板の基板周辺部に、ダミー共通電極３１０′、第１の絶縁膜３０９、ダミードレイン電極３１１′、ダミー画素電極３１２′、第２の絶縁膜３０８を形成し、対向基板の基板周辺部に、ダミー遮光膜３０２′、ダミーカラーフィルタ層３０３′、平坦化膜３０４を形成する。 - 特許庁