「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of an article having a fine pattern which is directly formed on a hard base material and has excellent processing accuracy on a surface.例文帳に追加

硬質基材に直接形成される微細パターンの加工精度が良好である、微細パターンを表面に有する物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an aluminum alloy sheet capable of preventing surface defects caused by abrasive powder without resulting in increase of processing steps.例文帳に追加

工程数の増加を招くことなく摩耗粉による表面疵の発生を防止することができるアルミニウム合金板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To surely remove abrasive grains and burrs without flawing the surface of an un-machined aluminum pipe for a photosensitive drum substrate subjected to processing by spraying with the abrasive grains.例文帳に追加

砥粒吹付け加工後を施した感光ドラム基体用の無切削アルミニウム管に対し、管表面を傷つけることなく砥粒やバリを確実に除去する。 - 特許庁

Then, a second stage image processing is executed only on the selected candidate regions so as to specify a rejection region on the inspection surface.例文帳に追加

その後、選定された不良候補領域に対してのみ、さらに２段階目の画像処理を行なうことで、検査面の不良領域の特定を行なう。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which is capable of monitoring and controlling the state of plasma with high accuracy even when the external surface of the device varies in temperature.例文帳に追加

装置外表面の温度が変化した場合でも、高精度にプラズマ状態をモニタして管理することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The cage element is slightly shrunken by the heat processing, and part of the carbon fiber is exposed from a surface of the finished cage 14.例文帳に追加

この加熱処理に伴って上記保持器素子が少しだけ収縮し、完成後の保持器１４の表面に、上記炭素繊維の一部が露出する。 - 特許庁

To provide a technology which can form appropriate flow and process a substrate, so that a processing liquid is supplied uniformly to the entire main surface of the substrate.例文帳に追加

基板の主面の全体にわたって均一に処理液が供給されるように、適切なフローを形成して基板を処理する技術を提供する。 - 特許庁

In the heat exchanger for food processing, a surface side contacting food is covered by engineering plastic such as PEEK, PP, PET, PVDF, PFA, PTFE or the like.例文帳に追加

食品と接触する表面側を、ＰＥＥＫ、ＰＰ、ＰＥＴ、ＰＶＤＦ、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ等のエンジニアリングプラスチックで被覆した食品プロセス用熱交換器。 - 特許庁

To provide an image processing unit capable of slantingly arranging the image read surface of a scanner, and suppressing an increase in space for installing the unit as much as possible.例文帳に追加

スキャナの画像読取面を傾斜して配置可能で、装置の設置スペースの増加を極力抑えることのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

The ejection opening surface 2 of the recording head 1 which has the plurality of ejection opening arrays to eject the ink is wiped by the wiper 4 by interposing the processing liquid.例文帳に追加

インクを吐出する複数の吐出口列を有する記録ヘッド１の吐出口面２を、処理液を介在させてワイパー４により払拭する。 - 特許庁

Therefore, it is possible to obtain a semiconductor package 10 in which there is substantially no fine processing scratch such as the chipping in the side surface region 15a of the first substrate 11.例文帳に追加

よって、第１基板１１の側面領域１５ａに、チッピングなどの微細な加工傷が殆ど無い半導体パッケージ１０を得ることができる。 - 特許庁

To eliminate an influence of disturbed air flow due to a heat produced in a reaction furnace within a processing chamber and to prevent in advance an adhesion of dust to the surface of a wafer.例文帳に追加

処理室内での反応炉からの熱による気流の乱れの影響を抑えてウエハ表面へのダストの付着を未然に防止すること。 - 特許庁

To prevent a trace amount of scraps chipped off from the surface of a beam-like structure in plasma processing equipment having the beam-like structure for supporting a dielectric board.例文帳に追加

誘電体板を支持する梁状構造物を有するプラズマ処理装置において、梁状構造物表面の微量の削れを高水準で防止する。 - 特許庁

To provide a member for processing a semiconductor, along with a cleaning method therefor, that comprises a surface superior in sticking/holding characteristics for CVD deposits, such as deposited films.例文帳に追加

デポ膜等ＣＶＤ堆積物の付着保持性に優れた表面を有する半導体処理用部材及びその洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a web joining device for splicing a web for processing, particularly a web joining aiding device capable of adhering a joining tape on the rear surface of the web without reversing the web.例文帳に追加

加工用ウェブを継ぐためのウェブ接合装置に関し、特に、ウェブを反転せずにウェブの裏面に接合テープを貼着できるウェブ接合支援装置を得る。 - 特許庁

To provide a laser processing device not requiring to move a lens for a laser beam source even when the distance between a printing plate surface and a writing head is varied.例文帳に追加

版板表面と書き込みヘッド間の距離が変化してもレーザ光源用のレンズを移動する必要がないレーザ製版装置を提供する。 - 特許庁

A device 30 three-dimensionally processing a building forms a box model by depressing a building data included in the three- dimensional map data 24 toward the ground surface.例文帳に追加

建物立体化処理装置３０が、三次元地図データ２４に含まれる建物のデータに対し、その地表面に押し下げた箱形モデルを形成する。 - 特許庁

The alkali treatment liquid B obtained by liquefying and separating the foam D at the processing part 12 is returned to a liquid tank 3 of the surface treatment apparatus 1 to reuse.例文帳に追加

処理部１２で泡Ｄを液化，分離して得られたアルカリ処理液Ｂは、表面処理装置１の液槽３へと戻されて、再使用される。 - 特許庁

Also, when replenishing the washing water, the valve element 102 is separated from the partition wall surface and the washing water flows from the through-hole 100 to the processing chamber on an upstream side.例文帳に追加

なお、水洗水の補充時には、弁体１０２が隔壁面から離れて貫通孔１００から上流側の処理室へ水洗水が流れる。 - 特許庁

To provide a floor carpet for an automobile capable of performing melting processing without separating a surface fiber layer and a backing material and excellent in recyclability.例文帳に追加

表層繊維層と裏打ち材とを分離することなく溶融処理を行うことができる、リサイクル性に優れた自動車用フロアカーペットを提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR BONDING TAPE ALSO SERVING FOR WAFER THINNING PROCESSING, AND METHOD FOR PASTING THE TAPE ONTO SEMICONDUCTOR WAFER SURFACE例文帳に追加

ウエハ薄化加工兼用の半導体用接着テープ及びウエハ薄化加工兼用の半導体用接着テープの半導体ウエハ表面への貼り付け方法 - 特許庁

Since the printing processing like this imposes restrictions on the use of the light-colored ink during the printing on the label surface, the quantity of the jetted ink is reduced.例文帳に追加

かかる印刷処理によれば、レーベル面に対する印刷時に、淡インクの使用が制限されるため、インクの打ち込み量が削減されることになる。 - 特許庁

The improved ground A is formed by performing rolling processing on its upper surface 10 after mixing sand 2, an improving material 2 or a solidifying material in the ground 1 of a lower layer.例文帳に追加

下層の地盤１に、砂２及び改良材３又は固化材を混合した後、その上面１０を転圧処理して改良地盤Ａを形成する。 - 特許庁

The initial activation processing before setup of the hydrogen occluding alloy becomes needless, and consideration to the oxidation of the surface becomes needless, so the maintenance can be simplified.例文帳に追加

水素吸蔵合金８４の組付け前の初期活性化処理が不要となり、表面の酸化に対する配慮が不要となるため、保管も簡略化できる。 - 特許庁

A resin (A) is laminated on a substrate and a resin layer (B) is laminated on the surface of the resin layer (A) by melt oxtrusion laminating processing to provide a laminate.例文帳に追加

基材上に下記（Ａ）樹脂を積層し、該（Ａ）樹脂層の表面に下記（Ｂ）樹脂層を溶融押出ラミネート加工により積層した積層体。 - 特許庁

When the floating processing is performed, brushing grinding is performed so that the whole of or at least one part of the surface layer base rock layer 21 is left.例文帳に追加

浮造り加工に際して、木質繊維板２０の表層岩盤層２１の全部または少なくとも一部が残存するようにして、ブラッシング研削を行う。 - 特許庁

A polymerization film or fine particle-like residue adhering to the surface of the respective electrodes exposed to the interior of the space 110 can be removed by the above cleaning processing.例文帳に追加

この洗浄処理により、空間１１０内に露出している各電極の表面に付着した重合膜や微粒子状の残渣が除去できる。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus and a substrate treatment method that perform a high-rate uniform etching processing on the entire region of the major surface of a substrate.例文帳に追加

基板の主面の全域に対し、高いレートでかつ均一なエッチング処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The reception substrate is laminated on a surface of the antenna substrate which is the opposite side of the reflection plate, and a reception module processing signals received in the antenna element is formed.例文帳に追加

受信基板は、アンテナ基板の反射板と反対側の面に積層され、アンテナ素子で受信される信号を処理する受信モジュールが形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a waveguide device capable of making compatible both the uniform polling processing over a wide range and planarization of a device surface.例文帳に追加

広範囲にわたる均質なポーリング処理とデバイス表面の平滑化の両立が図られた導波路デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing device of a hot wall type which performs selective growth for an epitaxial film comprising Si in an Si surface of a product substrate at a lower cost.例文帳に追加

製品用基板のＳｉ表面にＳｉを含むエピタキシャル膜を選択成長させるホットウォール式の基板処理装置をより安価に提供する。 - 特許庁

To provide a printer capable of performing accurate printing in accordance with surface processing of a label face recorded on optical disk media, and the optical disk media.例文帳に追加

光ディスクメディアに記録したレーベル面の表面処理に応じて、適確なプリントを行うことができるプリント装置および光ディスクメディアを提供することにある。 - 特許庁

To provide a food processing method capable of improving reproducibility and productivity when coating on a food with a processed surface another food.例文帳に追加

加工面を有する食品に対して他の食品を塗布する場合において、再現性や生産性を向上する食品加工方法を提供する。 - 特許庁

In order to form the curved surface, brush polishing by badge processing is carried out by using a silicon substrate obtained by laminating a large number of silicon subtrates via a spacer.例文帳に追加

曲面を形成するには多数のシリコン基板をスペーサを介して積層したシリコン基板積層体を使用して、バッヂ処理によるブラシ研磨を行う。 - 特許庁

To provide a method for processing a silicon substrate, in which various brilliant colors are taken on a porous silicon surface after anodic oxidation of a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板の陽極酸化後の多孔質シリコン表面において鮮やかで様々な色を呈することができるシリコン基板加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing system which can optically calculate the amount of a substance inside a body that corresponds to the depth from the surface of the body.例文帳に追加

物体の表面からの深さに応じて物体内部の物質の量を光学的に算出することができる画像処理システムを提供すること。 - 特許庁

A resin/metal-direct-covalent-binding (Si-metal binding) 6 is created by processing the surface added by the Si-H group 5 with a metal carbonyl compound.例文帳に追加

Ｓｉ−Ｈ基５を付加した表面を金属カルボニル化合物で処理して、樹脂／金属直接共有結合（Ｓｉ−金属結合）６を生成する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus in which plasma density distribution inside a vacuum vessel can be made uniform and etching of the inner wall surface of the vacuum vessel can be prevented.例文帳に追加

真空容器内のプラズマ密度分布の均一化を図り得ると共に、真空容器の内壁面のエッチングを防止し得るプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing a group III nitride semiconductor that can process a group III nitride semiconductor with high precision and at high speed without damaging its surface.例文帳に追加

表面にダメージを与えることなく、III族窒化物半導体を高精度にかつ高速に加工できるIII族窒化物半導体の加工方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, either a catalyst CVD method or a hydrogen plasma processing method is preferably employed in the process for irradiating hydrogen against the surface of the silicon substrate.例文帳に追加

一方、シリコン基板の表面に水素を照射する工程においては、触媒ＣＶＤ法または水素プラズマ処理法を用いることが好ましい。 - 特許庁

(1) The method for pretreating a recording medium employs acid and polymer containing aqueous oxazoline group for processing the surface of the recording medium before the aqueous ink for recording is discharged.例文帳に追加

（１）水性記録用インクの吐出前に、酸と水溶性オキサゾリン基含有ポリマーとを用いて、記録媒体表面を処理する前処理方法。 - 特許庁

Resist stripper is discharged from a processing liquid discharge port 51 to a surface of the substrate W, and nitrogen is discharged from a nitrogen gas discharge port 50.例文帳に追加

次に、処理液吐出口５１からレジスト剥離液が基板Ｗの表面に吐出されるとともに、窒素ガス吐出口５０から窒素が吐出される。 - 特許庁

A grid electrode 56 used for the charging device 24 includes a gold plating layer on the surface and performs pressure processing by a pressure roller on the gold plated layer.例文帳に追加

帯電装置２４に用いられるグリッド電極５６であって、表面に金めっき層を設け、その金めっき層に加圧ローラによる加圧加工を施す。 - 特許庁

To provide a small and compact processing system for automatically writing information in a recording medium such as a CD, and performing printing on its surface.例文帳に追加

ＣＤ等の記録媒体に対して自動的に情報を書き込み、その表面に印刷を行う処理システムを小型でコンパクトに構成すること。 - 特許庁

The (113) surface of dodecahedral single crystal diamond 5 is cut by polishing or laser processing and used as the flank 4B of the single crystal diamond chip 4.例文帳に追加

十二面体単結晶ダイヤモンド５の（１１３）面を研磨加工、または、レーザー加工によりカットし、単結晶ダイヤモンドチップ４の逃げ面４Ｂとして使用する。 - 特許庁