「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(74ページ目) - Weblio英語例文検索

The peripheral surface images consisting of the blue and red light components of the surface of the test heat insulating material are individually obtained, and the images of respective color components are discriminated on the basis of a predetermined threshold value to respectively detect a discoloration flaw and an uneven flaw (cameras 5,6, peripheral surface image processing parts 8, 9).例文帳に追加

また試験断熱材の表面の青色光成分および赤色光成分からなる周面画像をそれぞれ個別に得て各色成分の画像をそれぞれ所定の閾値で弁別することで、変色欠陥と凹凸欠陥とをそれぞれ検出する（カメラ５,６，周面画像処理部９,１０）。 - 特許庁

To provide a surface inspection apparatus, which returns the reflected light to a determining processing apparatus concurrently with irradiating laser beam to the inner surface in an aperture, so as to implement high-speed inspection of the inner surface in a small aperture by reducing the diameter of the rotating drum used to be durable to high-speed rotation.例文帳に追加

レーザ光を孔内部表面に照射すると同時にその反射光を判定処理装置に戻すようにした表面検査装置において使用される回転筒体を小径化すると共に高速回転に耐えられるものにして小孔の内部表面を高速検査できるようにする。 - 特許庁

Also, because the sheet member 231 with the process liquid attached thereto is moved in a direction along the surface of the substrate Wf as a process proceeds, a substrate processing device enables a clean surface of the sheet member 231 to face opposite to the substrate and thereby preventing the surface of the substrate Wf from being tainted with liquid which drops from the sheet member 231.例文帳に追加

また、処理液等が付着したシート部材２３１は、処理に応じて基板表面Ｗｆに沿った方向に移動され、清浄な面を基板対向面とすることができるため、シート部材２３１から液体等が落下して基板表面Ｗｆを汚染することがない。 - 特許庁

The electrode board 10 is provided with a transparent substrate 1, a transparent electrode layer 3 formed on the rear surface of the substrate 1, a polarizing plate 2 laminated to the upper surface of the substrate 1 and a herd coated processing part 7 laminated on the upper surface of the plate 2.例文帳に追加

上部透明電極板１０は、透明基板１と、透明基板１の裏面上に形成された透明電極層３と、透明基板１の表面上に積層された偏光板２と、偏光板２の上面上に積層されたハードコート処理板７とを備える。 - 特許庁

This sliding member is provided by processing for forming recessed parts 3 on the surface of the metal-sliding layer 2 and also impregnating a resin 4 in the recessed parts 3 so as to make ≥50 % surface areal rate occupied by the resin 4 at an optional depth until 0.1 mm from the surface of the metal-sliding layer in its depth direction.例文帳に追加

金属摺動層２の表面に凹部３を加工形成すると共に、その凹部３に樹脂４を含浸させ、金属摺動層２の表面から深さ方向へ０．１ｍｍまでの任意の深さでの樹脂４の占める面積率が５０％以上となるようにする。 - 特許庁

To provide: a method of growing a gallium nitride-based compound semiconductor, using a substrate made of a diboride single crystal having on its surface an atomic step linear as a whole and a flat terrace without pits and projections on its surface, and to provide a method of processing the surface of a substrate made of a diboride single crystal.例文帳に追加

全体が直線状の原子ステップ及び表面に凹凸のない平坦なテラス部を表面に有する二硼化物単結晶から成る基板を用いた窒化ガリウム系化合物半導体の成長方法、及び二硼化物単結晶から成る基板の表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

According to the method for manufacturing the glass substrate of a magnetic disk, after the polishing process of adding a texture to the main surface of the glass substrate, a processing liquid is supplied to the main surface of the glass substrate, and the main surface of the glass substrate is cleaned by pressing a tape thereto.例文帳に追加

ガラス基板の主表面上にテクスチャーを付与する研磨加工を行った後に、ガラス基板の主表面に処理液を供給し、テープをガラス基板の主表面に押圧させながら主表面を洗浄処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 - 特許庁

A non-transfer part due to a sink is formed to an arbitrary surface other than a power transmission surface and a bearing surface at one or more place at a time of molding processing with respect to a part having function transmitting power by the mutual contact with a partner part between rotary shafts.例文帳に追加

回転軸間で，相手部品と互いに接触することによって、動力を伝達する機能を有する部品について、動力伝達面と軸受面以外の任意の面に、成形加工時に１ヶ所以上のひけによる非転写部が形成されるようにしたこと。 - 特許庁

Color information on an inspection surface comprising three coordinate components of a three dimensional color space coordinate system in each position within the inspection surface is produced by an image processing device 11 on the basis of detection output signals indicating color image information in each position within the inspection surface outputted from a color light receiving section 2.例文帳に追加

カラー受光部２から出力される検査面内の各位置におけるカラー画像情報を表す検知出力の信号を基に、検査面内の各位置における３次元色空間座標系の３つの座標成分よりなる検査面色情報を画像処理装置１１にて生成する。 - 特許庁

The polishing method efficiently provides a surface of high quality with no deteriorated layer by processing that occurs after diamond mechanical polishing, by oxidizing the surface of silicon carbide single crystal wafer that has been rough-lapped in diamond mechanical polishing, and then removing an oxide film on the surface by finish polishing.例文帳に追加

ダイヤモンド機械研磨で荒研磨(ラップ)した炭化珪素単結晶ウェハ表面を、酸化した後に仕上げ研磨(ポリッシュ)で表面の酸化膜を除去することで、ダイヤモンド機械研磨で発生した加工変質層を除去して高品質な表面を効率的に創成する研磨方法である。 - 特許庁

The surface of the metal plate joined to the ceramics substrate and composed of aluminium or the aluminium alloy is polished by belt polishing and processed by wet blast processing for emitting a jet of abrasive slurry containing particulates in a liquid to the surface of the metal plate, and then the surface of the metal plate is plated.例文帳に追加

セラミックス基板に接合したアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属板の表面をベルト研磨により研磨し、液体中に微粒子を含む研磨材スラリーを金属板の表面に噴射するウエットブラスト処理を行い、その後、金属板の表面にめっきを施す。 - 特許庁

The sleeve inner surface 1a of the resin 10 after the impregnation (a) is cut on a processing condition where temperature exceeding the highest temperature of the sleeve in using of a predetermined dynamic-pressure bearing is applied to the processed surface, and the sleeve inner surface 1a is finished to a desired dimension (b).例文帳に追加

また、樹脂１０の含浸後（ａ）のスリーブ内周面１ａに、予め求めた動圧軸受の使用時におけるスリーブの最高温度を越える温度が加工面に加わる加工条件で切削加工を施し、このスリーブ内周面１ａを所要の寸法に仕上げる（ｂ）。 - 特許庁

In a spin processing unit 2, the thickness of the water film on the substrate surface is adjusted by rotation of the substrate, the volume of the water film increases by freezing the water film, the adhesion force between the particles adhering on the substrate surface and the substrate is weakened, and further, the particles are separated from the substrate surface.例文帳に追加

スピン処理ユニット２にて、基板が回転されることで基板表面の水膜の厚みが調整された後、水膜が凍結されることで水膜の体積が膨張し、基板表面に付着する粒子と基板との間の付着力が弱まり、さらには粒子が基板表面から脱離する。 - 特許庁

The resin molded article manufacturing method comprises a molding step of forming a resin-made base, a predetermined processing step of generating cracks on a surface of the formed base, and a laminating step of providing a resin layer capable of recognizing the cracks from the outer surface side on an outer surface of the base with the cracks.例文帳に追加

樹脂製の基台を成形する成形工程と、成形した基台の表面にひびを発生させる所定の処理工程と、ひびが生じた基台の外面に、ひびが外面側より認識できる樹脂層を設ける積層工程とから樹脂成形品の製造方法を構成した。 - 特許庁

The material testing machine photographs the fracture surface 100a of a broken test piece 100, calculates the cross-section area of the fracture surface from the image by using an image processing method, and computes the contraction value of the test piece, based on both the cross-sectional area of the fracture surface and a cross-sectional area of the test piece before applied under loads.例文帳に追加

材料試験機は、破断させた試験片１００の破断面１００ａを撮像し、その画像から画像処理によって破断面の断面積を算出し、破断面の断面積と負荷前の試験片の断面積とに基づいて試験片の絞り値を算出する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a spherical body and its surface treatment device which enables to operate a plasma process evenly on all the surface of the spherical body, generates no adhesion troubles or unevenness in a marking or a coating process and improves the productivity and quality through continuous processing.例文帳に追加

球状体の全表面を均一にプラズマ処理することが可能となり、マーキングや塗装工程で密着不良・ムラが発生せず、連続的に処理して生産性及び品質を向上させる球状体の表面処理方法及びその表面処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing the surface of a wood material or the like, capable of efficiently engraving continuous rugged patterns on the surface of a wooden architectural interior or exterior material, material of indoor furniture or the like with a mechanical power, and changing the design of patterns in a variety of ways and easily, and a surface-processed wood material.例文帳に追加

木製の建築用内・外装材、室内調度品の素材等の表面に、連続した凹凸模様を、機械力によって能率的に彫り上げられ、模様のデザインも多様に、簡単に変えられる、木質材等の表面加工法及び表面加工された木質材を提供する。 - 特許庁

Further, if the surface of the sapphire substrate is terminated with a desired functional group by processing the sapphire substrate in a solution including a surface termination group, it causes a difference between the densities of the surface termination group in the two regions, thereby enabling domain patterns having different chemical properties to be pattern-formed in a self-organizing manner.例文帳に追加

さらに、表面終端基を含む溶液中で処理することによって所望の官能基で表面を終端すると、これら２つの領域における表面終端基密度に差が生じ、化学的性質の異なるドメインパターンが自己組織化的にパターン形成される。 - 特許庁

Hairline processing is applied to the electrodeposition coating layer on the surface of the molded object made of the light alloy to expose a metal gloss surface, and a primer layer and a clear layer are applied to the hairline surface by electrostatic coating and the sum total thickness of the electrostatic coating layers is 2 μm or more.例文帳に追加

軽合金製の成形体の表面の電着塗装層にヘアライン加工を施し金属光沢面を露出させ、このヘアライン面の上に静電塗装によるプライマー層及びクリヤ層を施し、静電塗装層の厚みの合計が２μｍ以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To solve a problem that NC data having necessary accuracy cannot be formed, in formation of NC data for accurately processing a three-dimensional free curved surface, due to restriction for the number of constituting part items treatable as one surface in a CAD/CAM system, and processing cannot be performed as designed.例文帳に追加

３次元の自由曲面を高精度に加工するＮＣデータを作成する際に、ＣＡＤ・ＣＡＭシステムにおいて一面として取り扱える構成点数に制限があり、必要な精度のＮＣデータが作成できず、設計通りに加工ができなくなる問題を、別システムを用意することなく解決する。 - 特許庁

To provide an electrolytic processing method and device capable of processing a conductive material provided on the surface of a substrate to be flat and further removing (washing) a material stuck on the surface of a substance to be processed such as the substrate while dispensing with CMP treatment itself and reducing the load of the CMP treatment to the upmost for example.例文帳に追加

例えばＣＭＰ処理そのものを省略したり、ＣＭＰ処理の負荷を極力低減しつつ、基板表面に設けられた導電性材料を平坦に加工したり、更には基板等の被加工物の表面に付着した付着物を除去（洗浄）できるようにした電解加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The control part 10 performs image processing of detecting the positional relation between the syringe needle 4 and the surface of the living tissue based on the image captured by the imaging part 8, and controls the projection amount of the syringe needle 4 based on the result of this image processing to control the puncture depth of the syringe needle 4 from the surface of the living tissue.例文帳に追加

制御部１０は、撮像部８によって撮像された画像をもとに注射針４と生体組織表面との位置関係を検出する画像処理を行い、この画像処理の結果に基づいて注射針４の突出量を制御し、この生体組織表面からの注射針４の穿刺深さを制御する。 - 特許庁

The laser beam processing method is provided with; a process for forming a wax-film 6 on the surface to be processed in a material 3 to be processed; a process for laser beam-processing by condensing and emitting the laser beam onto a zone to be processed on the surface to be processed from the wax-film 6 side; and a process for removing the wax-film 6.例文帳に追加

被加工物３の加工すべき表面にワックス皮膜６を形成する工程と、前記ワックス皮膜６側から前記加工すべき表面の加工すべき領域にレーザを集光照射してレーザ加工する工程と、前記ワックス皮膜６を除去する工程と、を有することを特徴とするレーザ加工方法。 - 特許庁

A wafer 1 provided, on the lower non-processing surface side thereof, with a protective film 21 is mounted on a base plate 25 and a tubular frame 26 having a packing 29 for sealing the outer circumferential fringe part on the upper surface of the wafer 1 is set and suction-fastened by means of a cylinder 28 thus forming a processing chamber 30 in an etching pot 22.例文帳に追加

ベース板２５上に下面側の非処理面に保護膜２１を設けたウエハ１を載置し、ウエハ１の上面外周縁部をシールするパッキン２９を有した筒状枠体２６をセットし、シリンダ２８により吸引締結することにより、エッチングポット２２の内部に処理室３０を構成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method of a base material surface capable of forming high adhesive force between painting or various coatings and a base material, preventing growth of a crack and providing a favorable membrane at low processing cost, the base material having a substrate processed surface by this method and a product.例文帳に追加

塗装あるいは各種コーテイングと母材間に高い密着力を形成するとともに、クラックの発生を防止し、低処理コストで良好な皮膜を提供することができる母材表面の下地処理方法及びこの方法により下地処理された表面を持つ母材及び製品を提供する。 - 特許庁

In the patterning method, the pattern of a photomask is transferred to an underlying material by exposure processing thus forming a first guide where the surface energy of the underlying material is changed, and a second guide where the surface energy of the underlying material is changed is formed between the first guides by diffraction of exposure light resulting from exposure processing.例文帳に追加

実施の形態のパターン形成方法は、露光処理により、フォトマスクのパターンを下地材に転写して下地材の表面エネルギーを変化させた第１のガイドを形成すると共に、露光処理により生じる露光光の回折により、第１のガイド間に下地材の表面エネルギーを変化させた第２のガイドを形成する。 - 特許庁

The surface shape processing method and the surface shape processing device of the multilayer film is characterized by detecting, in the milling of the multilayer film on which a plurality of substances with difference in refractive indexes are periodically laminated by the ion beams, depth of the milling on the basis of a substance with smaller reflection phase change.例文帳に追加

屈折率に差がある複数の物質を周期的に積層した多層膜のイオンビームによるミリングに際し、反射位相変化の小さい方の物質を基準としてミリングの深さを検知することを特徴とする多層膜の表面形状加工方法及び表面形状加工装置によって解決される。 - 特許庁

To provide a system and a method for processing a substrate in which a substrate can be processed using an electrochemical machining method such that a conductive material placed on the surface of the substrate is planarized while reducing the load of CMP processing as much as possible and matters adhering to the surface of the substrate can be removed (cleaned).例文帳に追加

例えばＣＭＰ処理の負荷を極力低減しつつ、基板表面に設けられた導電性材料を平坦に加工したり、更には基板の表面に付着した付着物を除去（洗浄）できるようにした電解加工方法を用いて基板を処理する基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A plasma processing method of a sapphire substrate comprises executing plasma processing on a sapphire substrate, on which a mask pattern is formed by a resist film arranged on a surface, by using a mixed gas obtained by mixing a CH_2F_2 gas with a BCl_3-based gas to form, on the surface of the sapphire substrate, an uneven structure corresponding to the mask pattern.例文帳に追加

サファイア基板のプラズマ処理方法において、表面に配置されたレジスト膜によりマスクパターンが形成されたサファイア基板に対して、ＢＣｌ_３が主体のガスにＣＨ_２Ｆ_２ガスを混合した混合ガスを用いてプラズマ処理を行い、サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する。 - 特許庁

The surface of the sample that is a hard film is adsorbed and fixed on the film-like sample-holding surface of a fixing plate and processed by a cutting blade from the through-hole provided to the fixing plate, to prevent the sample processing trouble caused by the deformation of the soft substrate at the time of pressing of the cutting blade to the sample, and thereby enables a desired sample processing.例文帳に追加

硬質な膜である試料表面を固定板のフィルム状試料保持面に吸着固定し、固定板に設けられた貫通穴側から切削刃により加工することにより、切削刃を試料に押し付けた際の軟質基板の変形による試料加工不具合を防止し、所望の試料加工を可能とする。 - 特許庁

A plurality of discharge holes 16a and 16b are formed in the discharge nozzle 12 discharging the processing liquid to a main surface of the substrate supported by a substrate supporting means, and the processing liquid is discharged from the respective discharge holes 16a and 16b of the discharge nozzle 12 in mutually different directions to be supplied to the main surface of the substrate.例文帳に追加

基板支持手段により支持された基板の主面へ処理液を吐出する吐出ノズル１２に複数の吐出口１６ａ、１６ｂを形設し、吐出ノズル１２の各吐出口１６ａ、１６ｂからそれぞれ異なる方向へ処理液を吐出して基板の主面へ処理液を供給する。 - 特許庁

In the method of performing high-pressure processing on a work 2 by the use of supercritical or subcritical fluid, the fluid is made to impinge on the surface 2a of the work 2 arranged in a high-pressure processing chamber 9 and then to flow outward from the work 2 along the surface 2a of the work 2.例文帳に追加

超臨界あるいは亜臨界状態の流体を用いて被処理体２に高圧処理をする高圧処理方法において、前記流体を、高圧処理室９に配置された被処理体２の表面２ａに衝突させた後、被処理体２の表面２ａに沿って被処理体２の外方に向けて流通させる。 - 特許庁

This method for processing the iron-based alloy comprises a plasticizing process including strong processing for imparting strain (=ε) corresponding to ≥4 to at least a part of a member formed from the iron-based alloy and a surface treating process for making an element to diffuse and intrude into the obtained strongly processed member from the surface.例文帳に追加

本発明の鉄系合金の加工方法は、鉄系合金で構成された部材の少なくとも一部に相当歪み（＝ε）が４以上となる強加工を含む塑性加工工程と、得られた強加工材に表面から元素を拡散侵入させる表面処理工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The end cutting side processing method of the wood powder plastic composite board A includes a heat pressing step of pressing the exposed and a cut surface of the wood powder plastic composite board A in the method of processing the cutting surface of the wood powder plastic composite board obtained by mixing and melting wood powder and plastic and molding the melted mixture.例文帳に追加

木粉と樹脂とを混合し溶融させて成形して得られる木粉樹脂複合ボードＡの端部を切削加工し露出した切削面を処理する方法であって、該露出切削面を加熱下に加圧する熱圧締工程を含んでなる木粉樹脂複合ボードＡの端部切削面処理方法。 - 特許庁

This device is characterized by being equipped with a light source body for projecting a beam onto the mirror-reflecting measuring object surface, a camera for imaging a mirror-reflected image by a measuring object of the light source body, and an operation processing device for calculating the surface shape of a mirror-reflected part by processing an image photographed by the camera.例文帳に追加

鏡面反射する被測定対象面に光線を投影する光源体と、該光源体の被測定対象による鏡面反射像を撮影するカメラと、該カメラによる撮影画像を処理して鏡面反射部分の表面形状を算出する演算処理装置を具備したことを特徴としている。 - 特許庁

Provided are a tool base 13 having a fiber support surface 13f supporting the processing part 3a of the coated optical fiber 3, a slider 23 which is provided on the tool base 13, and a squeeze member 27 which is provided at the slider 23 and squeezes the surface of the coating layer 7 at the processing part 3a of the coated optical fiber 3.例文帳に追加

光ファイバテープ心線３の被処理部３ａを支持するテープ心線支持面１３ｆを有した工具ベース１３と、工具ベース１３に設けられたスライダ２３と、スライダ２３に設けられかつ光ファイバテープ心線３の被処理部３ａにおけるテープコート層７の表面をしごくしごき部材２７とを具備している。 - 特許庁

Since a wiring board 10 is exposed to plasma 28 in a state that a patterned metallic wiring layer 15 is covered with a protection layer 18 in this surface processing method, plasma processing is applied to the surface of a base material 11 exposed between laminated films 13, but the metallic wiring layer 15 is not exposed to plasma 28.例文帳に追加

本発明の表面処理方法は、パターニングされた金属配線層１５を保護層１８で覆った状態で配線板１０をプラズマ２８に晒すので、積層膜１３間に露出する基材１１の表面はプラズマ処理されるが、金属配線層１５がプラズマ２８に晒されることがない。 - 特許庁

To provide a spherical surface grinding method and a spherical surface grinding device capable of shortening a processing time in following processes and further reducing the number of processes by improving a quality requirement, specifically the depth of crack without reducing a processing efficiency so as to reduce a load on a precise grinding and a polishing in the following processes.例文帳に追加

加工効率を落とすことなく、要求品質、特にクラック深さの向上を図り、後工程である精研削、研磨加工の負担を軽減することにより、後工程の加工時間短縮さらには工程削減が可能な球面研削加工方法および球面研削加工装置を提供すること。 - 特許庁

A control section 21 delivers an output command to a first output processing section 30 for producing and outputting a print data to be printed on the surface side of a print medium based on the output command, and a second output processing section 40 for producing and outputting a print data to be printed on the rear surface side of the print medium.例文帳に追加

制御部２１は、出力指示に基づいて、印刷媒体の表面側に印刷すべき印刷データを生成して出力する第１出力処理部３０と、印刷媒体の裏面側に印刷すべき印刷データを生成して出力する第２出力処理部４０とに対して出力指令を与える。 - 特許庁

The hydrofluoric acid is supplied from the chemical liquid nozzle 2 onto the surface of the wafer W in a rotating state with the spin chuck 1 to execute the processing using the hydrofluoric acid, and then, the dilute hydrochloric acid is supplied from the rinse liquid nozzle 3, thereby executing the rinse processing for washing away the hydrofluoric acid adhering on the surface of the wafer W.例文帳に追加

スピンチャック１による回転状態のウエハＷの表面に対して、薬液ノズル２からふっ酸が供給されて、そのふっ酸による処理が施された後、リンス液ノズル３から希塩酸が供給されることにより、ウエハＷの表面に付着しているふっ酸を洗い流すためのリンス処理が行われる。 - 特許庁

To simply suppress a chemical reaction with a metal which is a processing object and to maintain a front surface of the metal pure by using peculiar water, when a cleaning for dissolving a chemical residue on the front surface of the metal into water and for removing the chemical residue is performed, or when a treatment such as a subsequent storage or the like is performed, in a metallic processing method.例文帳に追加

金属の処理方法に関し、金属表面に於ける薬品残渣を水に溶解させて除去する為の洗浄、或いは、その後の保管などの処理を行なう場合、独特の水を用いることで、処理対象である金属との化学反応を簡単に抑止し、金属表面を清浄に維持しようとする。 - 特許庁

In the thin film formation method for forming a thin film in a surface of a processing object S by sputtering, a prevention film formation process for forming a charging damage prevention film 80 for preventing charging damage in the surface of the processing object by sputtering is carried out as a preceding process of a thin film formation process for forming a thin film 82.例文帳に追加

被処理体Ｓの表面にスパッタリングにより薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記薄膜８２を形成する薄膜形成工程の前工程として、前記被処理体の表面にチャージングダメージを防止するためのチャージングダメージ防止膜８０をスパッタリングにより形成する防止膜形成工程を行う。 - 特許庁

A surface layer made of a thermoplastic resin composition such as polyethylene containing wood powders of a raw material molded article is irradiated with a laser so as to set a resin-rich state where an exposure area of the wood powders in a part processed during post-processing is equal to or less than 30%, and an uneven surface is formed during the post-processing to obtain a resin molded product A.例文帳に追加

原料成形品の木粉を含むポリエチレン等の熱可塑性樹脂組成物からなる表層に、後加工時に加工された部分における木粉の露出面積が３０％以下の樹脂リッチな状態になるようにレーザー照射して凹凸面を後加工で形成することで樹脂成形品Ａを得るようにした。 - 特許庁

To provide an alignment method and an alignment system applying alignment processing to an alignment layer by ultraviolet light, which apply the alignment processing to whole surface of the alignment layer under the same condition and provide uniform alignment characteristics over whole surface of the alignment layer.例文帳に追加

紫外線によって配向膜に配向処理を施す配向処理方法及び配向処理装置において、配向膜全面に亘って同一条件下で配向処理が施され、配向膜全面に亘って均一な配向特性が得られる配向処理方法及び配向処理装置を提供するものである。 - 特許庁

This method for evaluating black color developability is characterized by directly measuring surface shape of a material to be evaluated, carrying out arithmetic processing of numerical value owing to unevenness and undulation on the surface of a material to be evaluated obtained by the measurement and evaluating black color developability by using values obtained by the arithmetic processing.例文帳に追加

本発明の黒発色性の評価方法は、評価物の表面形状を直接測定し、該測定で得られる該評価物表面上の凹凸やうねりに起因する数値を演算処理し、該演算処理で得られた値を用いて黒発色性を評価することを特徴とするものである。 - 特許庁