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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > thin layer methodの意味・解説 > thin layer methodに関連した英語例文

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thin layer methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2066



例文

To provide a manufacturing method of a low price thin film transistor to improve an interface characteristics between a semiconductor layer and a gate insulating film in the thin film transistor including a gate electrode provided on a semiconductor layer via a gate insulating film.例文帳に追加

半導体層上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極を有する薄膜トランジスタの製造方法において、半導体層及びゲート絶縁膜間の界面特性を改善する安価な薄膜トランジスタの製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a low resistance tantalum thin film for successively laminating and forming a seed layer and a tantalum layer on an insulating substrate, wherein the film depositing rate of sputtering is high and the low resistance tantalum thin film having satisfactory specific resistance distribution can be obtained.例文帳に追加

絶縁基板上にシード層とタンタル膜とを順次積層して形成するための、スパッタリングの成膜レートが早く、しかも比抵抗分布の良い低抵抗タンタル薄膜を得ることが可能な、低抵抗タンタル薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film capable of maintaining gas barrier properties and conductivity after alkali immersion by installing an alkali resistant layer between a metal-oxide thin film layer and a transparent conductive thin film, and to provide a method for production thereof.例文帳に追加

金属酸化物薄膜層と透明導電性薄膜との間に、アルカリ耐性のある層を設けることにより、アルカリ浸漬後も良好なガスバリア性と導電性とを保持する透明導電性フィルム及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for forming an optical thin film on the surface of a substrate comprises a step for removing a degenerated layer in the surface of the substrate and a step for forming the optical thin film on the degenerated layer-free substrate.例文帳に追加

基板の表面に光学薄膜を成膜する成膜方法において、前記基板表面の変質層を除去する除去工程と、前記変質層が除去された基板に光学薄膜を成膜する成膜工程とからなる成膜方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a core board manufacturing method and a wiring board manufacturing method which suppress the unevenness of the thickness of a conductive layer on the surface of a core board and reduce the conductive layer into a thin film to enable the formation of microwiring.例文帳に追加

コア基板表面の導電層の厚みのバラツキを抑えた上で導電層を薄膜化し、微細配線を形成できるコア基板の製造方法及び配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁


例文

To provide a manufacturing method for an electronic part that can obtain a super thin layer of a dielectric layer in the electronic part such as a stacked type ceramic capacitor, and the electronic part that can be obtained by this manufacturing method.例文帳に追加

たとえば積層セラミックコンデンサなどの電子部品における誘電体層の超薄層化を実現することができる電子部品の製造方法と、その製造方法により得られる電子部品を提供すること。 - 特許庁

A ceramic thin film layer 110 having either one of silicon oxide, diamond-like carbon, alumina or aluminum as a main ingredient is applied on the inner face of a resin layer 120 of the tubular container by a chemical vapor deposition method or a physical vapor deposition method.例文帳に追加

チューブ状容器の樹脂層120内面に、化学蒸着法又は物理蒸着法で、酸化珪素、ダイアモンドライクカーボン、アルミナ又はアルミニウムのいずれかを主成分とするセラミック薄膜層110をコーティングする。 - 特許庁

The method of manufacturing a thin-film solar cell module 1 comprises a step of forming an intermediate contact layer dividing trench in which a conductive dividing trench 23 is formed in an intermediate contact layer 11 by a mechanical scribe method.例文帳に追加

薄膜太陽電池モジュール1の製造方法は、中間コンタクト層11にメカニカルスクライブ法によって導電分離溝23を形成する中間コンタクト層分離溝形成工程を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thin film forming method for effectively depositing a thin film having a function, for example, of a barrier layer to the bottom part of a recessed part, while controlling deposition of such thin film to a sidewall of the recessed part even if a diameter of the recessed part of the material to be processed is small.例文帳に追加

被処理体の凹部の径が小さくても、例えばバリヤ層として機能する薄膜が凹部の側壁へ堆積することを抑制しつつ、凹部の底部に効率的に堆積させることが可能な薄膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

例文

Disclosed is the letterpress for pattern formation characterized in that a protective layer 205 is provided by a vacuum thin-film forming method to resin-made projection portions 201 of the letterpress 200 for pattern formation, wherein: the protective film is a mixed thin film of an organic substance and an inorganic substance; and the vacuum thin-film forming method is a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

パターン形成用凸版200の樹脂製凸部201に真空薄膜形成法により保護層205を設けたことを特徴とするパターン形成用凸版であって、前記保護層が有機物と無機物の混合薄膜であって、前記真空薄膜形成法が、化学気相成長法であることを特徴とする。 - 特許庁

例文

To provide a transfer material having an organic thin-film layer containing an organic compound having a reactive substituted group; a manufacturing method of an organic thin-film element capable of forming a uniform organic layer (organic film) by using the transfer material; and an organic thin-film element, an organic electroluminescence element, a lighting system and a display device manufactured by using the manufacturing method.例文帳に追加

反応性置換基を有する有機化合物を含有する有機薄膜層を有する転写材料を提供し、該転写材料を用いて、均一な有機層(有機膜)の形成が可能な有機薄膜素子の製造方法、該製造方法を用いて作製した、有機薄膜素子や有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及び表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of obtaining a thin film, having a resistivity suitable as the light-absorbing layer of a solder cell in a method for forming an Ib-IIIb-VIb2 compound semiconductor (CuInS2) thin film by a CVD method (chemical vapor deposition method), using an organic metallic compound as its raw material.例文帳に追加

有機金属化合物を原料として用いたCVD法によりIb−IIIb−VIb_2 族化合物半導体(CuInS_2 )薄膜を形成する方法において、太陽電池の光吸収層として適切な抵抗率の薄膜が得られる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a thin film component, in particular, a thin film high voltage sensor component having a substrate (5) and at least one functional layer (150) to be structured on the substrate.例文帳に追加

基板(5)を有し、該基板上に構造化すべき少なくとも1つの機能層(150)が施されるべきである薄膜構成素子、特に薄膜高圧センサ素子のを製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film laminate wherein a high quality epitaxial growth layer is formed on a substrate on which an epitaxial thin film does not grow usually due to a difference of lattice constants, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

格子定数の相違によって通常はエピタキシャル薄膜が成長しないような基板上に高品質のエピタキシャル成長層を形成した薄膜積層体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film transistor having excellent ohmic contact between a source electrode and a drain electrode, and an oxide semiconductor layer as a bottom gate type thin film transistor using an oxide semiconductor.例文帳に追加

酸化物半導体を用いたボトムゲート型薄膜トランジスタにおいて、ソース電極、ドレイン電極と酸化物半導体層のオーミックコンタクトが良好な薄膜トランジスタを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for thin film deposition used in forming an organic thin film or a conductive layer in an organic electroluminescent element or the like, and to provide a method of manufacturing an organic electroluminescent element using the mask.例文帳に追加

有機電界発光素子などに有機薄膜や導電層を形成するために用いられる薄膜蒸着用マスク及びこれを用いた有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film treatment device where, even if a growing method in which raw materials are alternatively made to flow for growing a thin film having a satisfactory step coverage is performed, the time for performing the growth of one atomic layer can be reduced.例文帳に追加

段差被覆性の良い薄膜を成長するため原料を交互に流す成長法を行っても1原子層の成長を行う時間を短縮できる薄膜処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plated material for a terminal or a connector, which is superior in corrosion resistance even when an Au plating layer formed on the surface of a stainless steel thin plate is thin, and has high productivity, and to provide a method for manufacturing the plated material.例文帳に追加

ステンレス鋼薄板表面に形成するAuめっき層の厚みが薄くても耐食性に優れ、生産性も高い端子又はコネクタ用めっき材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for growing oxy-chalcogenide based thin film excellent in mass productivity in which a p-type layer can be obtained and an oxy-chalcogenide based thin film can be grown uniformly over a large area.例文帳に追加

p型層を得ることができ、しかも大面積にわたって均一にオキシカルコゲナイド系薄膜を成長させることができ、量産性に優れているオキシカルコゲナイド系薄膜の成長方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric thin-film capacitor manufacturing method with which a dielectric thin-film capacitor can be manufactured through simple manufacturing steps, without the risk of a protective layer covering a capacitor portion cracking.例文帳に追加

キャパシタ部分を覆う保護層にクラックが生ずるおそれのない誘電体薄膜キャパシタを簡便な製造工程で製造することができる誘電体薄膜キャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film semiconductor device which can form a semiconductor layer having high shape accuracy and thereby can obtain a thin film semiconductor device having excellent characteristics.例文帳に追加

形状精度の良好な半導体層を形成することが可能であり、これによって特性の良好な薄膜半導体装置を得ることが可能な薄膜半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a GaN-based HEMT includes a step of growing at least one GaN-based semiconductor layer 30 onto the GaN thin film 10a of the GaN thin film bonded substrate 1.例文帳に追加

GaN系HEMTの製造方法は、上記GaN薄膜貼り合わせ基板1のGaN薄膜10a上への少なくとも1層のGaN系半導体層30の成長工程を含む。 - 特許庁

To provide a method which is capable of manufacturing a device forming substrate that is provided with a very thin distorted Ge thin film layer formed on an insulating film and conducive to the realization of a fully-depleted high-mobility field effect transistor.例文帳に追加

絶縁膜上に極めて膜厚の薄い歪みGe薄膜層を有する素子形成用基板を製造することができ、完全空乏型かつ高移動度の電界効果トランジスタの実現に寄与する。 - 特許庁

To provide a production method for a polycrystal thin film which consisting of Yb_2O_3, and is provided with satisfactory crystal orientation properties, and to provide a production method for an oxide superconductor obtained by providing the surface of the polycrystal thin film with an oxide superconductive layer.例文帳に追加

良好な結晶配向性を備えたYb_2O_3からなる多結晶薄膜の製造方法と、該多結晶薄膜の上に酸化物超電導層を設けてなる酸化物超電導導体の製造方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing optical thin film capable of suppressing the formation of a diffusion layer that brings about the degradation of reflectance, and reducing light absorption when forming an optical thin film according to an ion beam sputtering method.例文帳に追加

イオンビームスパッタ法により光学薄膜を形成するに際し、反射率低下を招く拡散層の形成を抑制し、光吸収の低減化を図ることが可能となる光学薄膜の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film transistor and a method for manufacturing a liquid crystal display unit which can decrease steps of forming an LDD region which mitigates an electric field in the vicinity of a drain of an active layer of the thin film transistor.例文帳に追加

薄膜トランジスタの活性層のドレイン近傍の電界を緩和するLDD領域を作成のための工程を減らすことのできる薄膜トランジスタの製造方法及び液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The upper surface of the wafer is covered with a metal mask opened at a part of the region of the electrode 14, and then a thin film layer, which is very thin of tin having a thickness of about 1 to 10 nm, is formed by chemical vapor deposition method or physical vapor deposition method.例文帳に追加

外部接続用電極14の領域の部分を開口したメタルマスクで覆い、次にCVD法またはPVD法により厚みがおよそ1nmから10nmの錫のごく薄の薄膜層を形成する。 - 特許庁

To provide a method for separating a thin film layer that allows total irradiation across a whole irradiated area with no non-irradiated space as well as preventing separation defection by controlling occurrence of overlaps to a minimum, and a method for transferring a thin film device.例文帳に追加

被照射流域全体に隙間なく照射できるとともに、重なり部の発生を最小限に抑えて剥離欠陥を防止することのできる薄膜層の剥離方法、薄膜デバイスの転写方法を提供する。 - 特許庁

With the thin film EL element which has at least a laminated structure with a light-emitting layer and transparent electrode layer after an electrode layer having a pattern is formed on a substrate having electric insulation and then, a dielectric layer is formed into a multi-layer state by repeating a solution-coating burning method, a buffer layer is placed between the multi- layer dielectric layer and the electrode layer.例文帳に追加

電気絶縁性を有する基板上にパターンを有する電極層が形成され、さらに誘電体層が溶液塗布焼成法を複数回繰り返すことにより多層状に形成された後、発光層及び透明電極層が積層された構造を少なくとも有する薄膜EL素子であって、前記多層状誘電体層と前記電極層との間にバッファ層を備えた構造とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a capacitor of a semiconductor element includes steps of forming a lower electrode 26 on a conductive layer, forming an STO thin film 27 as a first dielectric material on the lower electrode, forming a BST thin film 28 as a second dielectric material on the STO thin film with the STO thin film used as a seed layer, and forming an upper electrode 29 on the BST thin film.例文帳に追加

半導体素子のキャパシタ製造方法は、導電層上に下部電極26を形成するステップと、前記下部電極上に第1誘電体としてSTO薄膜27を形成するステップと、前記STO薄膜上に前記STO薄膜をシード層にして第2誘電体としてBST薄膜28を形成するステップと、前記BST薄膜上に上部電極29を形成するステップとを含む。 - 特許庁

In the manufacturing method of a thin-film transistor which uses an oxide semiconductor for an active layer, by having a precursor thin film 6' of the oxide semiconductor which is formed before the precursor thin film is heated into a pattern, as an active layer, with the oxide semiconductor 6 formed by removing the remaining precursor thin film 6', to have a pattern 6 of the oxide thin film formed.例文帳に追加

酸化物半導体を活性層に用いた薄膜トランジスタの製造方法において、酸化物半導体の前駆体薄膜6’を形成したのち、該前駆体薄膜をパターン状に加熱することで、酸化物薄膜のパターン6を形成し、残存した前駆体薄膜6’を除去し形成した、酸化物半導体6を活性層に用いたことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

To provide an electric double-layer capacitor separator that is thin but is easily handled, and effectively reduces internal resistance, and its manufacturing method.例文帳に追加

薄くても取り扱いが容易となり、内部抵抗の低減に有効な電気二重層キャパシタセパレータおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To control the threshold voltage of a thin film transistor without performing any additional step at the time of causing the silicon layer of the transistor to deposit by a physical vapor growth method.例文帳に追加

薄膜トランジスタのシリコン層を物理的気相成長法によって堆積する際に、追加工程なしに閾値電圧を制御する。 - 特許庁

An air bridge 106 can easily be formed by using a thin film sacrifice layer 601 as a method of easily realizing the split structure.例文帳に追加

分割した構造を簡便に実現する方法として、薄膜の犠牲層601を用いることにより、エアブリッジ106を簡便に形成できる。 - 特許庁

In addition, in the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof, a color filter layer, a retarder or a polarizer is not separately disposed and, therefore, a thin product can be embodied.例文帳に追加

さらに、本発明は、カラーフィルタ層またはリターダまたは偏光板を別途に備えないので、薄型の製品を具現することができる。 - 特許庁

In addition, in the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof, a color filter layer, a retarder or a polarizer is not separately disposed and thus, a thin product can be embodied.例文帳に追加

さらに、本発明は、カラーフィルタ層またはリターダまたは偏光板を別途に備えないので、薄型の製品を具現することができる。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition method by which a gas which does not contribute to deposition of a thin film is sufficiently trapped in an exhaust trap.例文帳に追加

薄膜の形成に寄与しなかったガスを排気トラップにおいて十分にトラップすることができる原子層堆積方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heater substrate thin of heat generating resister layer and small in variance of the thickness, a heater device using it, and its manufacturing method.例文帳に追加

発熱抵抗体層が薄く、厚さのバラツキの小さいヒーター基板およびそれを用いたヒーター装置並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a grab bucket dredger which positively carries out thin-layer dredging by a grab bucket thereof, and to provide a dredging method using the same.例文帳に追加

グラブバケットにより薄層浚渫を確実に行うことができるグラブバケット式浚渫船とこれを用いた浚渫方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head capable of optimally controlling a magnetic flux flowing from the yoke part of a magnetic layer to a magnetic pole part and its manufacturing method.例文帳に追加

磁性層のヨーク部から磁極部に流れ込む磁束を最適に制御可能な薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a thin-film transistor comprises steps of coating a silicon grain layer on the substrate and irradiating the silicon grain with a laser beam.例文帳に追加

シリコン粒子層を基板上に塗布する工程、および該シリコン粒子にレーザ照射する工程からなる薄膜トランジスタの製造方法である。 - 特許庁

To provide a cooling method for an electronic assembly such as a semiconductor chip by using a thin layer of a liquid metal with a high conductivity.例文帳に追加

熱放散システムは、高伝導率の液体金属の薄い層を用いて、半導体チップのような電子サブアセンブリに冷却を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method for quickly and stably forming an organic polymer thin layer with uniform characteristics and uniform thickness, on a substrate.例文帳に追加

特性が均一で、均一な厚さの薄層の有機高分子層を基材上に高速で、安定して形成できるコーティング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin-film capacitor capable of preventing diffusion of Au from an upper electrode layer in a solder bump by a simple method at a low cost.例文帳に追加

上部電極層からハンダバンプへのAuの拡散を防止することができる薄膜コンデンサを簡単かつ安価な方法で提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an extremely thin oxide layer so as to solve the point at issue that exerts an adverse influence upon the reliability of oxides.例文帳に追加

酸化物の信頼性に悪影響を及ぼす問題点を解決するために、ごく薄い酸化物層を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

Moreover, since the electrode 3, 4, and the semiconductor layer 9 are formed by the applying method, the thin-film transistor can be obtained simply and at low cost.例文帳に追加

また、塗布法により電極3、4と半導体層9とを形成させるため、簡単かつ安価に薄膜トランジスタを得ることができる。 - 特許庁

To provide a single particle laminated thin film of high quality, of which the surface is laminated with functional particulates in a single layer state, and its production method.例文帳に追加

表面に機能性微粒子が単層状態で形成された、高品質な単粒子積層薄膜、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink ejection head in which a thin film layer at the heater position is less susceptible to peel off when forming an ink supply port, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

インク供給口の形成時に、ヒーター位置の薄膜層が剥離しにくいインク吐出ヘッドとその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A moisture proof layer 6 is provided on the transparent thin film 4 side of the re-exfoliation film 5 with a vacuum deposition method to form a transparent moisture proof film 7.例文帳に追加

再剥離フィルム5の透明薄膜フィルム4側に真空堆積法により防湿層6を設けて透明防湿フィルム7を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a blade member which is provided with a thin surface layer, can be easily molded at a low cost and has high durability, and to provide a manufacturing method of the blade member.例文帳に追加

肉厚の薄い表層を備え、低コストで容易に成形できる高耐久性のブレード部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁




  
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