| 意味 | 例文 |
thin layer methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2066件
In the formation method for the dielectric thin film which is formed on a substrate layer 4 after the substrate layer 4 is laminated on an SiO2 layer 2, the SiO2 layer 2 is formed by using a mixed gas of tetraethoxysilane and O2 by a plasma CVD method and by setting a gas pressure at 0.4 Torr or less.例文帳に追加
SiO_2層2上に下地層4を積層した後、この下地層4上に形成する誘電体薄膜の形成方法において、SiO_2層2をプラズマCVD法により、テトラエトキシシランとO_2との混合ガスを用い、ガス圧を0.4Torr以下にして形成する。 - 特許庁
To provide a nanometer-level structure composition observing method, a manufacturing method of a multi-layer film structure having an interposed insulating layer, and a nanometer-level structure composition observing device, analyzing the microstructure composition in a wide range of a sample having the multi-layer thin film structure having an interposed insulating layer with high accuracy.例文帳に追加
ナノレベル構造組成観察方法、絶縁層が介在する多層膜構造体の製造方法、及び、ナノレベル構造組成観察装置に関し、絶縁層が介在する多層薄膜構造の試料の広い範囲内における微細構造組成を高精度に解析する。 - 特許庁
This method for manufacturing the film mirror and the solar light reflecting mirror includes: sticking a reflecting layer thin film formed on a temporary support body by a wet process, on a base material; removing the temporary support body from the reflecting layer thin film; and forming the reflecting layer on the base material.例文帳に追加
仮支持体上に湿式プロセスにて形成した反射層薄膜を基材へ貼合せた後、該仮支持体を該反射層薄膜から除去することによって、該基材上に反射層を形成することを特徴とするフィルムミラーの製造方法及び太陽光反射用ミラー。 - 特許庁
To enhance the carrier mobility of an organic semiconductor layer formed by a coating method, to suppress the fluctuations in the characteristics of the thin film of the organic semiconductor layer at the time of repeated use (measurement) and to achieve the lowering of a threshold value and the enhancement of the film forming properties of the thin film of the organic semiconductor layer on a substrate.例文帳に追加
塗布法により形成される有機半導体層のキャリア移動度を向上させ、また、有機半導体層薄膜の繰り返し使用(測定)時の特性変動抑制、又閾値の低下、更には基板上における有機半導体薄膜の成膜性の向上を図る。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition and a photosensitive transfer material having high light shielding performance in a thin film state with which a light shielding layer for a display apparatus can be produced at a low cost, and to provide a method for manufacturing a light shielding layer for a display apparatus for producing the layer in a thin film state with high light shielding performance at a low cost.例文帳に追加
薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで表示装置用遮光層を作製することができる感光性組成物及び感光性転写材料、さらには、薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで作製しうる表示装置用遮光層の製造方法を提供する。 - 特許庁
The plastic container has a compound thin film of gas barrier properties consisting of a plurality of layers of thin films 2 of gas barrier properties deposited on an inner surface of the container by a plasma chemical vapor deposition method and mainly comprising silicon oxide in which the degree of oxidation of each layer is successively increased from the first layer to the uppermost layer.例文帳に追加
プラスチック容器はその内面に、プラズマ化学気相成長法によって形成した、複数層の酸化珪素を主体とするガスバリア性薄膜からなり、第1層から最上層にかけて各層の酸化度が順次増加した、酸化珪素を主体とする複層ガスバリア性薄膜を備える。 - 特許庁
To provide a solution for forming a black oxide layer on a thin metallic film, to provide a method for forming the black oxide layer on the thin metallic film of an electromagnetic shielding filter by using the solution, and to provide an electromagnetic shielding filter with the black oxide layer formed thereby.例文帳に追加
金属薄膜に黒色酸化層を形成させるための溶液、その溶液を用いた電磁波遮蔽フィルターの金属薄膜に黒色酸化層を形成する方法、及び、その方法により形成された黒色酸化層を備えた電磁波遮蔽フィルターを提供する。 - 特許庁
This ZnOx semiconductor layer is formed by using various thin film forming techniques such as a spin coat method, a DC sputtering method, an RF sputtering method, a metal organic vapor phase deposition (MOCVD) or an atomic layer deposition (ALD).例文帳に追加
このZnOx半導体層を、スピンコート法、DCスパッタリング法、RFスパッタリング法、有機金属気相成長法(MOCVD)または原子層堆積法(ALD)のような様々な薄膜形成技術を用いて形成する。 - 特許庁
For instance, in a transparent conductor composed of a transparent substrate layer and a conductive layer including at least one silver-containing thin film, a transparent resin layer in which the content of halogen and sulfur is ≤50 ppm is formed on the conductive layer by a coating method.例文帳に追加
例えば、透明基体層と、少なくとも銀含有薄膜を1層含む導電層とからなる透明導電体に、ハロゲン、硫黄の含有率が50ppm以下の透明な樹脂層を上記導電層上に塗工法により形成すること。 - 特許庁
This method comprises: the low temperature high doped layer growing step of doping the dopant while growing a thin film at a specific first temperature; the annealing step of discontinuing the growth of the thin film to anneal the thin film at a predetermined second temperature higher than the first temperature; and the high temperature low doped layer growing step of growing the thin film at the second temperature.例文帳に追加
所定の第1温度において薄膜を成長させながらドーパントをドーピングする低温高ドープ層成長ステップと、薄膜の成長を中断し前記第1温度より高い所定の第2温度において薄膜をアニール処理するアニール処理ステップと、前記第2温度において薄膜を成長させる高温低ドープ層成長ステップとを含む。 - 特許庁
To provide a method for epitaxially forming a thin oxide film, such as an intermediate layer or a superconductive layer, by removing the oxidized layer from the surface of an oriented metallic substrate without fail and keeping the biaxial orientability of the oriented metallic substrate.例文帳に追加
配向金属基板表面の酸化層を確実に除去し、配向金属基板の2軸配向性を維持して、中間層および超電導層などの酸化物薄膜をエピタキシャルに形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a two layer phase change optical information recording medium of which overwrite characteristic is excellent and in which a plurality of recording layers can be surely initialized even when the reflecting layer of an information layer is thin, and its recording and reproducing method.例文帳に追加
情報層の反射層が薄い場合でも、オーバーライト特性が優れ、なおかつ複数の記録層を確実に初期化できる2層相変化型光情報記録媒体、及びその記録再生方法の提供。 - 特許庁
The method disclosed includes (i) ion implantation to create a thin amorphization layer, (ii) deposition of a high stress film on the amorphization layer, (iii) a thermal anneal to recrystallize the amorphization layer, and (iv) removal of the high stress film.例文帳に追加
(i)薄いアモルファス化層を生成するためのイオン注入と、(ii)アモルファス化層上への高応力膜の堆積と、(iii)アモルファス化層を再結晶させるための熱アニールと、(iV)高応力膜の除去とを含む。 - 特許庁
To provide a resin multilayer substrate such that sufficient adhesion between a first resin layer and a second resin layer is secured and the thickness of the second resin layer is made thin, and a method of manufacturing the resin multilayer substrate.例文帳に追加
本発明は、第1樹脂層と第2樹脂層との密着性を十分に確保し、第2樹脂層の厚みを薄くすることが可能な樹脂多層基板及び該樹脂多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a thin-film transistor array in which alignment is easy and a sealing layer of a high yield is included in formation of the sealing layer on a semiconductor layer, and to provide its manufacturing method and an active matrix display.例文帳に追加
半導体層上の封止層形成において、アライメントが容易かつ歩留まりの高い封止層を有する薄膜トランジスタアレイおよびその製造方法、ならびにアクティブマトリスクディスプレイを提供することにある。 - 特許庁
In this manufacturing method for a magnetoresistance effect thin-film magnetic head provided with an SV-GMR element 4, a process in which a plasma treatment layer 45 is formed between a fixation layer 44 and an antiferromagnetic layer 46 for the SV-GMR element 4 is provided.例文帳に追加
SV-GMR素子4を備えた磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの製造方法において、SV-GMR素子4の固定層44と反強磁性層46との間にプラズマ処理層45を形成する工程を備える。 - 特許庁
The forming method of the multi-ply layer for manufacturing the thin film transistor comprises a step for forming a first layer on a transparent substrate employing a first physical deposit method, and another step for continuously forming a second layer on the first layer employing a second physical deposit method without causing any vacuum collapse.例文帳に追加
本発明の方法は、薄膜トランジスタを製造するための多層を形成する方法であって、第1層を第1の物理蒸着法を用いて透明基板の上に形成するステップと、真空破壊されることなく、第2層を第2の物理蒸着法を用いて該第1層の上に連続的に形成するステップとを含む。 - 特許庁
The method for manufacturing the thin film magnetic head forms a first magnetic layer 29 as a part of the upper shield layer on a protection layer 28, and the upper surface of the protection layer 28 under the first magnetic layer 29 is not affected by ion milling when the ion milling is applied on each of tunnel magnetoresistive elements 34 and 35.例文帳に追加
保護層28の上に、上部シールド層の一部となる第1磁性層29を形成し、各トンネル型磁気抵抗効果素子34,35へのイオンミリング時に、前記第1磁性層29を設けたことで、その下の保護層28の上面が前記イオンミリングの影響を受けるのを抑制できる。 - 特許庁
To provide a copper-clad plastic substrate in which a thin metal film layer to be a seed layer is simply formed by coating or a printing method on a plastic substrate and which is superior in adhesion between a copper layer and the seed layer, heat resistance, electric characteristics, and productivity and can be used appropriately as a two-layer CCL.例文帳に追加
コーティングや印刷法によって簡便にシード層となるべき金属薄膜層がプラスチック基板上に形成されてなる、銅層とシード層との接着力、耐熱性、電気特性、生産性に優れた、2層CCLとして好適に用いられる銅被覆プラスチック基板を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing substrate, having a strain layer/strain-applied crystal layer structure which reduces the crystallinity deterioration that occurs in the strain layer, due to crystal defects caused by the strain-applied crystal layer structure, and which is formed of a thin film on an insulating layer.例文帳に追加
歪み層/歪み印加結晶層構造において、歪み印加結晶層構造より発生する結晶欠陥による歪み層の結晶性劣化を低減し、かつ絶縁層上に歪み層/歪み印加結晶層構造を薄膜で形成した基板の形成方法を提供する。 - 特許庁
A method of producing a base material for superconductive thin film comprises: a first step of depositing a bed layer on a metal base plate; a second step of forming an orientation layer on the bed layer by an ion beam assisted deposition; and a third step of forming a cap layer comprising CeO_2 on the orientation layer by a sputtering.例文帳に追加
超電導薄膜用基材の製造方法において、金属基板上にベッド層を成膜し(第1工程)、ベッド層上にイオンビームアシスト蒸着法により配向層を形成し(第2工程)、配向層上にスパッタ法によりCeO_2からなるキャップ層を形成する(第3工程)。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a plastic lens by which a lens layer is not deformed even when the predetermined lens layer is made thin in advance to constitute an intermediate layer in the lens with three layer structure where the intermediate layer is constituted by curing a photosensitive epoxy monomer.例文帳に追加
感光性エポキシモノマーを硬化させることで中間層を構成するようにした三層構造を有するレンズにおいて所定のレンズ層を前もって薄肉として、中間層を構成するようにしてもそのレンズ層に変形を生じさせないプラスチックレンズの製造方法を提供すること。 - 特許庁
In this manufacturing method, the base substrate 7 is arranged opposite the thin-film circuit layer 3 across the adhesive 5 and spacers 9 after the thin-film circuit layer 3 is formed on the the base substrate, and while the spacers 9 are sandwiched between the base substrate 7 and thin-film circuit layer 3, they are stuck together by hardening the adhesive 5.例文帳に追加
この薄膜回路基板は、製造基板上に薄膜回路層3を形成した後、薄膜回路層3に対して接着剤5およびスペーサ9を介して支持基板7を対向配置させ、支持基板7−薄膜回路層3間にスペーサ9を狭持させた状態で接着剤5を硬化させてこれらを貼り合わせることによって得られる。 - 特許庁
In the method of forming the crystalline zinc oxide thin film on a substrate at a temperature below 400°C, a crystalline buffer layer whose front surface is primarily a (111)-plane is formed on the substrate, and thereafter the zinc oxide thin film is deposited by a vapor phase method on the buffer layer.例文帳に追加
基板上に400℃未満の温度で結晶性酸化亜鉛薄膜を形成させる方法であって、該基板上に表面が主に(111)格子面となる結晶性緩衝層を設けた後、該緩衝層の上に酸化亜鉛薄膜を気相法により堆積させることを特徴とする方法。 - 特許庁
To provide an antistatic film formed by providing a transparent antistatic thin film to a substrate film by a method other than an in-line method and not generating the falling-off of the antistatic layer from the substrate film, even if the antistatic layer has a thin thickness and capable of obtaining a desired surface resistance value, and a laminate using the same.例文帳に追加
基材フィルムにインライン以外の方法で透明な帯電防止薄膜を設け、薄い膜厚でも帯電防止層が基材フィルムから脱落せずかつ所望の表面抵抗値が得られる帯電防止フィルム及びその積層体を提供することにある。 - 特許庁
To provide a technology capable of scribing a semiconductor thin plate for a side of a coating layer, such as a metal coating layer that is coated entirely on one side of the semiconductor thin plate by a method of vapor-deposition or the like, in the manufacturing method of a semiconductor device comprising a semiconductor chip.例文帳に追加
半導体チップからなる半導体装置の製造において、例えば一方の面に全面的に例えば金属による被覆層が蒸着等の手法により被着形成された半導体薄板に対して、この被覆層側からスクライブを行うことができるようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a GaN thin film for growing high quality GaN on a large area substrate by utilizing an electrode layer suspended on the substrate, and to provide a GaN thin film structure manufactured by the method, and a semiconductor element containing the GaN thin film structure.例文帳に追加
基板上に懸架されている電極層を利用して大面積基板上に高品質のGaNを成長させるGaN薄膜の製造方法、前記方法で製作されたGaN薄膜構造物及び前記GaN薄膜構造物を含む半導体素子を提供する。 - 特許庁
The method of peeling a layer to be peeled off comprises the steps of forming an oxide layer containing metal, forming a layer to be peeled off having thin-film transistors and the like on the oxide layer, and crystallizing the oxide layer by heat-treating the oxide layer, thereby giving rise to the formation of crystal strain or crystal defects in the crystallized oxide layer.例文帳に追加
金属を有する酸化物層を形成し、酸化物層上に薄膜トランジスタ等を有する被剥離層を形成し、酸化物層に対して加熱処理を行うことにより、酸化物層を結晶化し、結晶化された酸化物層に、結晶歪み、又は格子欠陥を生じさせることにより、被剥離層を剥がす方法である。 - 特許庁
To provide a forming method of a thin film material for a BC layer and an active layer or the like while simplifying the manufacturing process of a TFT and reducing the containing amount of moisture or Si-OH.例文帳に追加
TFTの製造プロセスを簡素化し、水分またはSi−OHの含有量を減らしつつ、BC層および活性層などの薄膜材料を形成する方法を提供する - 特許庁
To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head capable of enveloping each winding of a coil with an insulating layer leaving no gap and surely forming a flat surface on the insulating layer.例文帳に追加
コイルの巻き線を絶縁層で隙間なく包み込むと同時に、絶縁層上に確実に平坦面を形成することができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a high-quality ceramic electronic component having no structural defect which can manufacture the electronic component, even in the case where a ceramic paint layer is changed into an extra-thin layer, and to provide a manufacturing device for the electronic component.例文帳に追加
セラミック塗料層が極薄層になった場合でも、構造欠陥のない高品質のセラミック電子部品を製造し得る製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a chip antenna having a material layer constituting a terminal electrode to be as thin as possible, while maintaining sufficient heat-resistance capability and obtaining uniform thickness of each material layer.例文帳に追加
端子電極を構成する材料層を可能な限り薄くしつつ十分な耐熱性を維持し、各材料層の厚みを均一化できるチップアンテナの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a surface-treated steel sheet with good corrosion resistance without forming zinc-based plated layer even in the case where film thickness of an organic resin layer is thin, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
有機樹脂層の膜厚が薄い場合であっても、亜鉛系めっき層を形成することなく、良好な耐食性を備える表面処理鋼板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a homogeneous metallic plating film having a secure adhesion to an insulation layer of a thin film of a printed circuit board etc., without damaging the insulation layer.例文帳に追加
プリント配線板などの薄膜の絶縁層にダメージを与えることなく、該絶縁層に対して強固な密着性を有する均質な金属メッキ膜を形成する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a composite substrate of a type of having at least one thin final insulation layer interposed between a support substrate and an active layer of a semiconductor material.例文帳に追加
支持基板と半導体材料の活性層との間に介在させた少なくとも1つの薄い最終絶縁層を備えるタイプの複合基板の作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method which prevents the degradation in quality of a single crystal layer and the degradation in yield when the single crystal layer for depositing a semiconductor device is peeled as a thin film.例文帳に追加
半導体デバイスを作り込む為の単結晶層を基板から薄膜として剥離する際に、単結晶層の品質の低下や、歩留まりの低下を防ぐ方法を提供する。 - 特許庁
To provide a novel method capable of manufacturing a thin film transistor having as an active layer an oxide semiconductor layer formed by a simple technique of uniform heating.例文帳に追加
均一な加熱によって、簡単な手法を用いて、酸化物半導体層を形成し、これを活性層とした薄膜トランジスタの製造を行うことのできる新規な方法を提供する。 - 特許庁
In this etching method, the resist layer is formed to have a shape of having a thin film which is formed by leaving part of the resist layer in the thickness direction of the substrate corresponding to the removed part of the substrate.例文帳に追加
このエッチング方法では、基材の除去する部分に対応して、レジスト層の厚さ方向の一部を残してなる薄膜部を有する形状に、レジスト層を形成する。 - 特許庁
To provide a magnetic transfer master carrier with high signal quality, which obtains a highly-oriented magnetic layer whose shape hardly degrades even when an underlying layer is thin, and which is superior in signal quality, and a method for producing the same.例文帳に追加
下地層を薄くしても高配向で、形状劣化のない磁性層が得られ、信号品位に優れる磁気転写用マスター担体及びその製造方法などの提供。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a thin double refraction film, which includes a liquid crystal compound double refraction layer and another double refraction layer, employing a small number of processes.例文帳に追加
液晶化合物製複屈折層と、別の複屈折層を含む複屈折性フィルムであって、より薄いフィルムを、より少ない工程で製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁
The protective layer 20 is formed by ink being applied by an ink-jet method in a picture frame-shape and a thin film shape between the peripheral part 30 of the catalyst layer 30 and the electrolyte membrane 1.例文帳に追加
保護層20を、インクジェット法により、額縁状かつ薄膜状に、触媒層30の周縁部30と電解質膜1の間に、インクを塗布し形成するようにした。 - 特許庁
To provide a method for film forming an accurately patterned organic semiconductor layer, using a simple process, and to provide a method for manufacturing an organic thin-film transistor.例文帳に追加
精度良くパターニングした有機半導体層を簡単な工程で形成する有機半導体層の成膜方法、有機薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
This manufacturing method of an electro-optical device includes a process for filling an application area 10 of each pixel with a thin-film material liquid by an ink jet method to form a function layer.例文帳に追加
電気光学装置の製造方法は、各画素の塗布領域10に薄膜材料液をインクジェット法で充填して機能層を形成する工程を含む。 - 特許庁
To provide a method for changing a color of a single-layer carbon nanotube thin film, a display cell used for the method, and a display device using the display cell.例文帳に追加
単層カーボンナノチューブ薄膜の色彩を変化せしめる方法、この方法に用いられる表示セル、及びこの表示セルを用いた表示装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a forming method of a nitride thin film for growing an atom layer of high quality in a short time and a manufacturing method of a quantum well device.例文帳に追加
高品位の原子層を短時間で成長させることができる窒化物薄膜の形成方法及び量子井戸デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a patterning method of high production efficiency in high precision of an organic semiconductor layer or a thin film such as a conductive film, and to provide an organic TFT of high performance of high mobility and a method of manufacturing the organic TFT of high production efficiency in high precision.例文帳に追加
本発明の目的は、有機半導体層、または導電膜等薄膜の高精度で生産効率の高いパターニング方法を提供することにある。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING P-TYPE ZNO SEMICONDUCTOR FILM UTILIZING ATOM LAYER DEPOSITION METHOD, AND THIN-FILM TRANSISTOR INCLUDING ZNO SEMICONDUCTOR MANUFACTURED BY THE SAME例文帳に追加
原子層蒸着法を利用したp型ZnO半導体膜の製造方法及びその製造方法で製造されたZnO半導体膜を含む薄膜トランジスタ - 特許庁
To provide a thin-film magnetic head which comprises a very small size magnetic domain control layer capable of promoting the single magnetic domain formation of a magneto-sensitive layer and reducing Barkhausen noise, its forming method, and a magnetic disk device equipped with the thin-film magnetic head.例文帳に追加
磁気感受層の単磁区化を促進し、バルクハウゼンノイズを低減することのできる微小なサイズの磁区制御層を備えた薄膜磁気ヘッドおよびその形成方法ならびにその薄膜磁気ヘッドを備えた磁気ディスク装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of obtaining a thin layer ceramic sheet by which the thin layer ceramic sheet is continuously and stably obtained without necessitating a complicated washing process for removing powder, the degradation of the ceramic sheet hardly occurs and excellent surface smoothness is attained.例文帳に追加
煩雑な粉末除去のための洗浄工程を必要とせず、継続的に薄層セラミックス板を安定に得ることができ、セラミック板の劣化が生じ難く、かつ表面平滑性に優れた薄層セラミック板を得る方法を提供する。 - 特許庁
To provide an organic thin film solar cell device, a solar cell module, and a manufacturing method of an organic thin film solar cell device in which degradation arising from moisture of photopotential induction layer consisting of an organic semiconductor layer can be suppressed, life time is long, and reliability is high.例文帳に追加
有機半導体層からなる光電位誘起層の水分に起因する劣化を抑制でき、長寿命で信頼性の高い有機薄膜太陽電池素子、太陽電池モジュールおよび有機薄膜太陽電池素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
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