「スパッタ装置」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

シールドの温度変化を少なくし、一定温度に保つことでシールドの熱による伸縮を抑え、シールドの内壁に付着された金属膜が剥がれ落ちるのを防止できるスパッタ処理装置を得る。例文帳に追加

To obtain a sputtering apparatus which inhibits a shield from expanding and contracting due to the heat of the shield by reducing a temperature change in the shield and keeping it at a constant temperature, and prevents a metal film adhering to the inner wall of the shield from peeling off. - 特許庁

スパッタリング装置のマルチカソード構造は、ターゲット９を備えた裏板１２が絶縁板１９を介して取り付けられた複数の隔壁板１４を有する。例文帳に追加

In the multicathode structure of the sputtering system, a backing 12 provided with a target 9 includes a plurality of partition plates 14 fitted via an insulation plate 19. - 特許庁

２台のこのような対向ターゲット式スパッタ装置１０ａ、１０ｂを用い、基板１３０の両面に異なる材料のターゲット１２１ａ、１２１ｂから薄膜を交互に形成する。例文帳に追加

The method also comprises employing two such facing target-type sputtering apparatuses 10a and 10b, and alternately forming the thin films on both sides of the substrates 130 from the targets 121a and 121b made of different materials. - 特許庁

プラズマを封じ込める磁場構造のみからターゲットのエロージョン分布とウェハの成膜分布を短時間で計算して予測可能とするマグネトロンスパッタの設計支援方法、装置及びプログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a method for supporting the design of magnetron sputtering, a device therefor and a program, capable of calculating and estimating an erosion distribution of a target and a film deposition distribution of a wafer in a short time only from a magnetic field structure enclosing plasma. - 特許庁

ロードロック室を備えるスパッタリング法に真空処理装置を用いた堆積膜の形成方法において、グロー放電を維持したまま基体をロードロック室から真空容器へロードする。例文帳に追加

As for the method of forming a deposited film using a vacuum treatment system in a sputtering method provided with a load lock chamber, a substrate is loaded from the load lock chamber to a vacuum vessel while glow discharge is held. - 特許庁

使用中においてガスノズルの内外部、およびチップの先端部に堆積したスパッターを簡単かつ確実に除去することができる電極の清掃装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a cleaning device for an electrode allowing to simply positively remove sputter accumulated on the interior and exterior of a gas nozzle and the tip section of a chip in the course of operation. - 特許庁

スパッタリング又は蒸着により粒子表面に薄膜を均一にコーティングすることができる方法及びこの方法に用いる装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for uniformly covering a particle surface with a thin film by using a sputtering or vapor deposition technique, and to provide an apparatus to be used therefor. - 特許庁

ターゲット３０、３５をスパッタリングして、基板５０に前記ターゲット３０、３５の材料の薄膜を形成する成膜装置において、薄膜をエッチングするエッチング源６０を有する。例文帳に追加

The deposition system for forming the thin films of the materials of targets 30 and 35 on a substrate 50 by sputtering the targets 30 and 35 has an etching source 60 for etching the thin films. - 特許庁

本発明の成膜装置Ａは、円筒形の成膜対象物２の下方にルツボ３が配置され、上方にアーク蒸発源４とスパッタリングターゲット５が配置されている。例文帳に追加

In the film deposition apparatus A, a crucible 3 is arranged at the lower part of a cylindrical film deposition object 2, and an arc evaporation source 4 and a sputtering target 5 are arranged at the upper part thereof. - 特許庁

プラズマダメージを少なくできるスパッタリング法により保護膜を成膜して外部からの水分や酸素等の侵入を防止できる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method and a device of an organic electroluminescence element wherein the invasion of moisture, oxygen or the like from the outside can be prevented by forming a protective film by a sputtering method which can reduce plasma damages. - 特許庁

スパッタリング法により酸化亜鉛薄膜を成膜する際、真空処置室内の状態の変化に左右されず、容易に結晶子サイズを制御することのできる酸化亜鉛薄膜の成膜方法及び成膜装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for film deposition of a zinc oxide thin film capable of easily controlling the crystallite size without being affected by the change in the state in a vacuum processing chamber when depositing the zinc oxide thin film by a sputtering method. - 特許庁

メンテナンス時間を短くし、高い生産性を実現し、膜剥がれを抑制してパーティクルの発生を低減し、歩留まりを向上したスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering device which can shorten the maintenance time, realize high productivity, reduce production of particles by suppress film peeling, and improve the yield. - 特許庁

カルーセル型基板ホルダーをもち、上下に軸に平行磁場を有し、上下のターゲットを同時に磁場を反転する事により、２種類の薄膜交互層を効率よく成膜できるスパッター装置。例文帳に追加

This sputtering apparatus has a carousel type substrate holder, and upper and lower magnetic fields parallel to each other, and efficiently deposits two kinds of thin film alternating layers by simultaneously inverting the magnetic fields with respect to upper and lower targets. - 特許庁

高い放電効率を達成しながら、維持放電時のスパッタリングによる保護層の削れを抑え、長寿命で且つ高い信頼性を有するＰＤＰおよびＰＤＰ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a PDP in which the scraping of a protection layer caused by sputtering at preserved discharging is suppressed while achieving high discharge efficiency, and which has a long life and high reliability, and a PDP device. - 特許庁

本発明の目的は、大型基板の広範囲にわたって膜厚均一性に優れた絶縁物薄膜を形成可能なスパッタリング装置および薄膜形成方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a sputtering system and a thin film deposition method by which an insulator thin film excellent in the uniformity of film thickness can be deposited over a wide range of a large substrate. - 特許庁

ドライ系成膜装置における基板の成膜時にダストの低減、異常放電の抑制をすることで製品歩留まりを向上させたスパッタ膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a sputtered film, which improves the product yield by reducing dust and controlling an abnormal discharge, when forming the film on a substrate in a dry-system film-forming apparatus. - 特許庁

回転自在に設けられた円筒状ターゲットの長さ方向の端部での局所消耗を抑制し、エロージョン領域を均一化し、その使用寿命を向上させることができるスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering apparatus which can inhibit a rotatably installed cylindrical target from locally wearing in an end part thereof in a longitudinal direction, uniformize an erosion region, and consequently improve the use life thereof. - 特許庁

上記ＺｎＯバッファ層のｃ定数は、スパッタ装置のパラメータを調整することにより、５.２０７０Å以上、好ましくは５.２１Å〜５.２８Åとしている。例文帳に追加

A c constant of the ZnO buffer layer is set to 5.2070 Åor higher, preferably, 5.21 to 5.28 Å, by adjusting the parameter of a sputter apparatus. - 特許庁

マグネトロンスパッタリング装置において、ターゲットの外周縁部を均等に侵食できてターゲットの利用効率が高く、その上、異常放電が発生し難く、良好な薄膜形成ができるようにする。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering system where the outer circumferential edge part of a target can be uniformly eroded, the utilizing efficiency of the target is high, further, abnormal discharge is hard to be generated, and satisfactory thin film deposition can be performed. - 特許庁

誘導結合形プラズマ処理装置において、スパッタエッチングに伴う飛散物によって誘電体壁容器１１の側壁部１４内面へ膜が形成され、高周波電力の供給が阻害されることを防止する。例文帳に追加

To prevent a film from being formed on an inner surface of a sidewall part 14 of a dielectric wall vessel 11 by a scattering substance associated with sputter etching to hinder supply of high-frequency power, in an inductively-coupled plasma processing device. - 特許庁

情報記録媒体の製造方法及び基板ホルダ構造並びに成膜装置に関し、スパッタリングによる成膜時の基板の温度上昇を抑制し、反りや歪みの少ない情報記録媒体を製造できるようにする。例文帳に追加

To manufacture an information recording medium which is little in warp and distortion by suppressing the temperature rise of substrates during deposition by sputtering relating to a method of manufacturing the information recording medium and a substrate holder structure as well as a deposition apparatus. - 特許庁

ターゲット表面でのプラズマの閉じ込めを向上し、基板の近くでのプラズマを減少して、低ダメージで低温成膜が可能なスパッタ装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a sputtering system where the confinement of plasma at the surface of a target is improved, plasma near a substrate is reduced, and low temperature film deposition is possible with low damage. - 特許庁

バックグラウンドガスのイオン化によりエッチングやスパッタリングが発生し光学エレメント寿命が低下することのないリソグラフィ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lithographic apparatus in which it is unlikely that the lifetime of optical elements is reduced due to etching and sputtering caused by ionization of the background gas. - 特許庁

本発明の成膜装置は、成膜室内で長尺の基板を所定の搬送方向に搬送しつつ、スパッタリングを行い基板の表面に所定の膜を形成する。例文帳に追加

The film deposition apparatus deposits a predetermined film on a surface of a substrate by executing the sputtering while conveying a long substrate in the predetermined conveying direction in a film deposition chamber. - 特許庁

処理室内の真空を破ることなくターゲット消耗量を実測して、ターゲット寿命の判定をするとともに、各種の自動制御をすることができるスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering system where the service life of a target is judged by measuring the consumption of the target without breaking a vacuum in the inside of a treatment chamber and where various automatic control can be performed. - 特許庁

エキゾーストマニホールド内の切粉を混入した油膜や溶接によるスパッター等を短時間で完全に除去することができるエキゾーストマニホールド洗浄装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exhaust manifold cleaning device capable of completely removing, in a short time, oil film mixed with chips and spatters caused by welding from the inside of an exhaust manifold. - 特許庁

スパッタリング装置において、揺動軸に支持されたアームの揺動軸と異なる位置にカソードを支持することとし、成膜時に、基板に対して平行な面内において当該カソード揺動することとした。例文帳に追加

In a sputtering system, a cathode is supported at a position different from the oscillating shaft of an arm supported by the oscillating shaft, and the cathode is oscillated within a surface parallel to the substrate during film deposition. - 特許庁

誘導結合ＲＦプラズマ支援マグネトロンスパッタ装置を用いて、磁界感度が良く、高密度記録に適した十分に粒径の小さな光磁気記録膜を成膜できる光磁気ディスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a magnetooptic disk which can form a magnetooptic recording film of small particle size enough for good magnetic field sensitivity and high-density recording by using an inductively coupled RF plasma supported magnetron sputtering device. - 特許庁

ターゲット表面が全面エロージョンとなる状態で放電が得られ、パーティクルの発生がなくターゲットライフの長い強磁性体のマグネトロンスパッタ装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering device for a ferromagnetic substance capable of obtaining discharge in a state in which the surface of a target is made into erosion in the whole face, free from the generation of particles and having a long target life. - 特許庁

回転自在に設けられた円筒状ターゲットの長さ方向の端部での局所消耗を抑制し、エロージョン領域を均一化し、その使用寿命を向上させることができるスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering device capable of restraining a rotatably provided cylindrical target from being locally worn in a longitudinal end part thereof, capable of uniformizing an erosion region, and capable of enhancing a using service life thereof. - 特許庁

耐プラズマ性に優れ、スパッタリングやエッチングによる損耗が少なく、プラズマ状態を安定に維持するとともにパーティクル等による汚染を低減化するプラズマ処理装置のチャンバー内壁部材を提供する。例文帳に追加

To provide an interior wall member for chamber which has a high plasma resistance, is not worn nor torn much by sputtering and etching, can stably maintain the state of plasma, and can reduce the contamination by particles, etc. - 特許庁

対向して配置されるターゲットを有するスパッタ装置において、その対向するターゲットの間に形成される空間内への反応ガスの流入防止を図ること。例文帳に追加

To prevent a reactant gas from flowing into a space defined between targets facing each other in a sputtering apparatus in which targets are arranged opposite to each other. - 特許庁

スパッタ装置において、各電極近傍における圧力をおのおの独立に設定して異種薄膜の同時成膜を可能とし、これによってタクトタイムを短縮する。例文帳に追加

To independently set pressure in the vicinity of each electrode in a sputtering device, to enable the simultaneous formation of different kinds of thin films and to reduce the tact time thereby. - 特許庁

大面積の結晶化膜、高緻密膜の薄膜を基板上に堆積するプラズマ支援スパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a thin film by plasma assisted sputtering, which deposits a crystallized and highly dense thin-film on a substrate having a large area, and to provide a film-forming apparatus. - 特許庁

析出装置は、室１１と、スパッタ用ターゲット１２と、ウェハー用支持部１３と、ウェハー用搬送用開口部１４と、ウェハー用搬送機構部１５とを有している。例文帳に追加

This precipitating device has a chamber 11, a target 12 for sputtering, a supporting member 13 for a wafer, an opening part 14 for carrying a wafer and a carrying mechanism part 15 for a wafer. - 特許庁

ガスフロースパッタリング法によって、連続的に送られるフレキシブル基板に効率よく成膜することができる成膜方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a film-forming method which can efficiently form a film on a flexible substrate that is continuously sent, by using a gas-flow sputtering technique, and to provide an apparatus therefor. - 特許庁

スパッタリング装置１は、基板Ｐ上に、フィルムＦの中心穴の径以下の内周の径を有する記録膜Ｍが形成されるように、基板Ｐをマスクするマスク部１２を有する。例文帳に追加

The sputtering device 1 includes a mask part 12 for masking the substrate P so as to form, on the substrate P, the recording film M having an inner circumferential diameter equal to or smaller than a diameter of the center hole on the film F. - 特許庁

スパッタリングターゲットのような大面積の被加工物に低融点ロウ材（インジウム、鉛錫はんだ、錫亜鉛はんだ等）を均一かつ自動的に塗布できるロウ材塗布方法及び装置を得る。例文帳に追加

To provide a brazing filler metal application method and an apparatus which can apply uniformly and automatically low melting point brazing filler metal (In, tin and lead solder, tin an Zn solder, and the like to a work having a large area such as a spattering target. - 特許庁

インラインスパッタ装置に用いられる真空槽が、内圧の変化によって変形しても帯状シートを搬送したときに擦り傷が入ることを防ぐ。例文帳に追加

To prevent a strip-like sheet from being abraded when the sheet is conveyed even when a vacuum tank used for an in-line sputtering apparatus is deformed by the change in the internal pressure. - 特許庁

塗料を散布してスパッタ調（斑点状）模様を形成する際に、塗料を均一かつ円滑に散布することができる塗料散布装置を提供する。例文帳に追加

To provide a coating material sprinkling device capable of uniformly and smoothly sprinkling a coating material when the coating material is sprinkled to form a sputter-like (spot-like) pattern. - 特許庁

この装置は又、加工片用のホルダーと、ターゲットからスパッタされた材料を蓄積するために配置される少なくとも１つの再使用可能な処理キット構成部品とを備える。例文帳に追加

The apparatus is also equipped with a holder for the working piece and at least one treatment kit constituent member, capable of re-using, which is laid out to accumulate the material sputtered from the target. - 特許庁

本発明は、スパッタされイオン化された材料を使用して基板上への１種以上の材料の不適合ではないステップ・カバレージを実現する方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and device for realizing an appropriate step coverage for one or more kinds of materials on a substrate by using a sputtered and ionized material. - 特許庁

スパッタリングを行う際には揺動駆動装置５６によって磁界形成部５０を揺動させて、ターゲット１５の表面上に形成されている磁界を左右へ移動させる。例文帳に追加

When performing the sputtering, the magnetic field forming unit 50 is rocked by a rocking device 56 to move the magnetic field formed on the surface of the target 15 in the right-to-left direction. - 特許庁

試料表面のスパッタ領域全域にわたって試料表面からの深さ方向における高精度な組成分析を行うことができる表面分析装置を提供すること。例文帳に追加

To obtain a surface analyzer by which the composition in the depth direction from the surface of a sample can be analyzed with high accuracy over the whole sputtering region on the surface of the sample. - 特許庁

本発明は、溶接中に発生するスパッター、ヒューム等から集塵機の火災を未然に防止する溶接ヒューム用集塵機の焼損防止装置の改良に関するものである。例文帳に追加

To improve the damage-by-fire preventing device of a dust collector for welding fume preventing the fire of the dust collector from the sputter or fume generated during welding. - 特許庁