「プラズマ端部」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

プラズマ発生用電極と前記給電端子との接着部で発生する熱応力に起因したセラミック基板の破壊を確実に防止でき、長期間安定した品質を維持することができるプラズマ発生用電極埋設部材を提供する。例文帳に追加

To provide an electrode-burying member for generating plasma for maintaining quality stably for a long time, by reliably preventing the destruction of a ceramic substrate caused by thermal stress generated at the adhesion section between an electrode for generating plasma and a power feeding terminal. - 特許庁

中空体の一方の開口端部を閉鎖部材により気密状に密閉し、該中空体をプラズマＣＶＤ反応器内に入れ、中空体に真空下、コーティング温度でプラズマコーティングを行なうことを特徴とする中空体の均一コーティング方法が提供される。例文帳に追加

Either one of opening end parts of a hollow body is sealed into an airtight state by a closing member, and the hollow body is charged to the inside of a plasma CVD (chemical vapor deposition) reactor, and is subjected to plasma coating at a coating temperature in a vacuum. - 特許庁

隣り合う部分電極１１Ｓどうし間と並び方向の両端の部分電極１１Ｓの外側には、プラズマ処理空間１ａへの処理ガス吹出し手段３１と、プラズマ処理空間からのガス吸込み手段５１を、前記並び方向に沿って交互に配置する。例文帳に追加

Between the adjacent partial electrodes 11S and on the outsides of the adjacent partial electrodes 11S of both ends in an arrangement direction of the partial electrodes 11S, a blow means 31 of a treatment gas to a plasma treatment space 1a and a suction means 51 of the gas from the plasma treatment space are alternately arranged so as to be along the row direction. - 特許庁

電界集中によりプラズマから受けるダメージを減少させて探針基体の先端部にカーボンナノチューブをプラズマＣＶＤ法によって成長させることができるプローブ顕微鏡用探針の作製方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a probe for a probe microscope capable of growing a carbon nanotube on the tip part of a probe substrate by a plasma CVD method by reducing a damage received from plasma by electric field concentration. - 特許庁

タンディッシュ２からモールド３に注湯している間は、タンディッシュ２内の溶鋼とモールド３内の溶鋼をプラズマ加熱し、タンディッシュ２からの注湯が終了した後は、モールド３から引き出された鋳片の上端部をプラズマ加熱する。例文帳に追加

Molten steel both in the tundish 2 and in the mold 3 is plasma heated while molten steel is being poured from the tundish 2 to the mold 3, and the top end of the cast piece drawn out from the mold 3 is plasma-heated after the completion of pouring from the tundish 2. - 特許庁

パイロットアークを発生させた状態においてノズルの先端部に堆積した堆積物Ｘを除去し回収することができ、プラズマアーク溶接を行う製品の生産性を向上させることができるプラズマアーク溶接用トーチの清掃装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a device for cleaning a torch for plasma arc welding, wherein deposits T deposited in the distal end part of a nozzle are removed and recovered in a state where a pilot arc is generated and the productivity of a product to be subjected to the plasma arc welding is improved. - 特許庁

外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供する。例文帳に追加

To provide an electromagnetic wave shield sheet with a new structure, which has a novel grounding structure which makes direct connection to an outer earth terminal possible, which achieves reduction in the cost of a plasma display device without applying a special design to and giving a twist to the plasma display, and on which a scratch is not easily made in a manufacturing process. - 特許庁

本発明によるプラズマ表示装置の電源供給装置は、出力端に連結される複数の抵抗によって分圧される電圧で出力電圧を調節し、この出力電圧をプラズマ表示パネルを駆動する駆動部の駆動電圧に出力する。例文帳に追加

The power supply unit of the plasma display adjusts the output voltage by using the voltage divided by the resistors connected to the output, and supplies this output voltage to the driver of the plasma display panel. - 特許庁

放電プラズマ焼結において、高温で長時間の加熱を行った場合にも、パンチ先端部が過熱することがなく、性状にばらつきの無い均質が焼結体を得ることをできる放電プラズマ焼結方法および装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of spark plasma sintering by which overheat at the tip part of punches can be suppressed even when heating at a high temperature is carried out for a long period of time in the spark plasma sintering and a uniform sintered compact free from dispersion in properties can be obtained, and to provide a device for spark plasma sintering. - 特許庁

シールド４１がコンデンサ４８に接続されると、コンデンサ４８を介して交流的に接地電位に置かれた浮遊状態となり、プラズマがシールド４１へ引きつけられないので、ターゲット３５の端部でプラズマ密度が低くならない。例文帳に追加

When the shield 41 is connected to the capacitor 48, it is in a floating state because of being alternatingly connected to a ground potential through the capacitor 48, does not attract plasma toward itself, and consequently does not decrease plasma density in an edge of the target 35. - 特許庁

最上層配線層２８上にプラズマＣＶＤ法により窒化シリコン膜２９を堆積した後、高密度プラズマＣＶＤ法により酸化シリコン膜３０を堆積させることにより、最上層配線層２８端部上にテーパー形状を有する酸化シリコン膜を形成する。例文帳に追加

After a silicon nitride film 29 is deposited on an uppermost layer wiring layer 28 by a plasma CVD method, a silicon oxide film 30 is deposited by a high-density plasma CVD method, whereby a silicon oxide film having a tapered shape is formed on an end part of the uppermost layer wiring layer 28. - 特許庁

プラズマキャピラリ４０の内部で生成されたマイクロプラズマ３００は、本体開口４８から噴出し、先端の環状開口７６から噴出したシールガス流４００によって外気とシールされた状態でボンディングパッド５の表面処理を行う。例文帳に追加

The microplasma 300, generated inside the plasma capillary 40, is injected from a body opening 48, and subjects a bonding pad 5 to surface treatment under the sealed state from the outside, by a sealing-gas flow 400 injected from an annular opening 76 at the front end. - 特許庁

この構成により、プラズマ中よりシールド１１Ａに流れる電流を制御して、放電を維持しつつ、プラズマの電位差を過剰に大きくすることなく成膜することが可能になり、ターゲット２の外周端部まで効果的に侵食させることができる。例文帳に追加

Owing to the configuration, the sputtering apparatus can deposit a film without excessively increasing potential difference for plasma, while keeping discharge by controlling a current passing from the inside of the plasma into the shield 11A, and can effectively erode the target 2 up to the peripheral part. - 特許庁

内径が細い先端部３ｂを有する管状ノズル３からプラズマ炎２へガラス微粒子を供給し、プラズマ炎２中でガラス微粒子を直接溶融し、透明ガラスとして石英ガラス棒１に堆積させて透明石英ガラス母材を作製する。例文帳に追加

Fine glass particles are supplied from a tubular nozzle 3 having a tip part 3b with a fine inner diameter to plasma flame 2, and the glass particles are directly melted in the plasma flame 2 and deposited on a quartz glass rod 1 as transparent glass so as to form a transparent quartz glass preform. - 特許庁

外部のアース端子との直接の接続が可能となる新しい接地構造を有し、プラズマディスプレイパネルに特別な設計や工夫を施すことなく、プラズマディスプレイ装置のコストダウンを実現し、製造過程で傷が付きにくい、新構造の電磁波シールドシートを提供する。例文帳に追加

To provide an electromagnetic wave shielding sheet with a new structure, which has a novel grounding structure which makes direct connection to an outer earth terminal possible, which achieves reduction in the cost of a plasma display device without applying a special design to and giving a consideration to the plasma display, and on which a scratch is not easily made in a manufacturing process. - 特許庁

プラズマトーチＴによるプラズマアークＰによって鋳片Ｈの上面が溶融処理され、それと並行して誘導コイル２１、２２による誘導加熱によって鋳片Ｈの搬送方向両側端面の上部領域が溶融される。例文帳に追加

The top surface of the cast slab (H) is melted by a plasma arc (P) generated by a plasma torch (T), and simultaneously, the upper regions of both of the side faces in the transportation direction of the cast slab (H) are melted by the induced heat by the induction coils 21 and 22. - 特許庁

突出部４３ａをキャップ４５の先端面から前方へ突出させることにより、プラズマ球から出射する極紫外光を取出すのに有効な立体角を大きくすることができ、プラズマ球から出射する極紫外光の、楕円凹面鏡における受光量を多くすることが可能になる。例文帳に追加

By forwardly protruding the protrusion 43a from the tip surface of the cap 45, the solid angle effective for taking out extreme ultraviolet-ray emitted from a plasma sphere can be made large, and the light receiving quantity of the extreme ultraviolet-ray emitted from the plasma sphere can be made large at an elliptic concave mirror. - 特許庁

プラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、溝の形成されたベース部と、前記ベース部の溝上に形成されるパターン部と、を含む外光遮断シートを備え、前記パターン部は、上端と前記上端より幅の大きい下端のうち、前記上端が前記パネルにより隣接するように配置される。例文帳に追加

The plasma display panel device includes: a plasma display panel; and an external light shielding sheet having a base portion where a groove is formed, and a pattern portion formed on the groove of the base portion, wherein an upper end is arranged nearer the panel than a lower end of the pattern portion among the upper end and the lower end being broader in width than the upper end. - 特許庁

マイクロ波を発生させるマグネトロンと、第１導波管と、マイクロ波を放出する先端部とを備えるケーブルと、ケーブルの先端部から放出されたマイクロ波を捕捉する基端部を備える電極と、プラズマを吹き出すための開口部を備えるノズル体とを備えることを特徴とするプラズマ生成装置。例文帳に追加

The plasma generating device is provided with a magnetron which generates microwave, a first waveguide, a cable having a tip part to emit microwave, an electrode having a base part to capture the microwave emitted from the tip part of the cable, and a nozzle having an opening for blowing off plasma. - 特許庁

プラズマビームＰｂを用いて基板に膜を生成する成膜装置１において、材料ロッドＭを保持するハース２５のガイド部３１は、上端縁部３７の外径が下端部３２側の外径よりも小さく、プラズマビームＰｂの入射範囲Ａは、上端縁部３７の外周内に合わせられている。例文帳に追加

In the film deposition apparatus 1 for depositing a film on a substrate by using plasma beams Pb, the outside diameter of an upper edge 37 of a guide part 31 of a hearth 25 for holding a material rod M is smaller than the outside diameter on a lower end 32 side, and the range A of incidence of the plasma beams Pb is set within an outer circumference of the upper edge 37. - 特許庁

先端部１０ａを露出させてタングステン探針１０を保持するホルダー２６を容器２１内に配し、該容器２１内に導入した炭素系ガスをプラズマ化し、該プラズマ化した炭素系ガスに先端部１０ａを曝すことにより、当該先端部１０ａにカーボンナノチューブ３１を成長させる。例文帳に追加

A holder 26 for holding a tungsten probe 10 is arranged in a container 21 with an exposed tip part 10a, and carbon-based gas introduced into the container 21 is changed into plasma, and the tip part 10a is exposed to the carbon-based gas changed into plasma, to thereby grow the carbon nanotube 31 on the tip part 10a. - 特許庁

プラズマ電極部は、電流が一方の端面から他方の端面に流れる板部材であって、前記板部材の第１の主面が前記成膜空間に向くように配置され、前記第１の主面と対向する第２の主面には、電流方向と直交する方向に沿って延びる凹凸部が設けられている電極板を、プラズマ生成用電極として備える。例文帳に追加

The plasma electrode portion includes as an electrode for plasma generation a plate member where a current flows from one end surface to the other end surface, the plate member being arranged with a first main surface thereof directed to the film forming space and being provided with an uneven portion, which extends in a direction orthogonal to a current direction, on the second main surface opposed to the first main surface. - 特許庁

プラズマ電極部は、電流が一方の端面から他方の端面に流れる板部材であって、前記板部材の第１の主面が前記成膜空間に向き、前記第１の主面に、電流の流れる方向に沿って延びる溝状の凹部が複数設けられている電極板をプラズマ生成用電極として備える。例文帳に追加

The plasma electrode part is made of a sheet member in which an electric current flows from one side edge surface to the other side edge surface, wherein a first principal plane of the sheet member faces the deposition space and, on the first principal surface, an electrode plate provided with a plurality of groove-like recessed parts extended along the direction in which the electric current flows is disposed as an electrode for plasma generation. - 特許庁

また、プラズマ処理システムは、基板を処理するプラズマを発生させるための電磁場を形成するように構成された誘導コイルと、その末端部に加熱及び冷却プレートを収容するための中が空洞で円筒形の部分を有する上部部材であって、下部部材と結合する最適化された上部部材を含んでなる。例文帳に追加

The plasma processing system also includes an induction coil configured to form an electromagnetic field for creating a plasma for processing the substrate, and the optimized top piece coupled to the bottom piece which has a hollow cylindrical portion for accommodating a heating and cooling plate at a terminal end. - 特許庁

中心電極１２は、先端部１１を含む導電性多孔質部分１２ａを有し、この導電性多孔質部分を通してその内部から先端部１１にプラズマ媒体６からなる液体金属を染み出すようになっている。例文帳に追加

The center electrode 12 has a conductive porous part 12a including a tip part 11, and liquid metal comprising a plasma medium 6 seeps from the inside of the center electrode to the tip part 11 through the conductive porous part. - 特許庁

１００℃以上の高温雰囲気下で、静電吸着用電極やプラズマ発生用電極をなす内部電極３，４と電気的に接続された外部端子５，６を板状セラミック体２に接合するロウ材の銀イオンや銅イオンがマイグレーションを起こして外部端子５，６間が導通し、静電吸着力やプラズマが得られなくなることを防止する。例文帳に追加

To prevent the situation, where at 100°C or above, silver ions and copper ions of solder, which joints a plate-like ceramics to an external terminal connected to an internal electrode acting as an electrostatic attraction electrode or plasma generating electrode, migrate for conduction between external terminals, thus losing electrostatic attraction or a plasma. - 特許庁

光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法または溶融流延製膜法により作製されかつ搬送されている光学フィルムの左右両端部のうちの少なくとも一端部に、常圧プラズマ照射装置２０によりプラズマ照射処理を施すことにより、多数の凹凸を有するエンボス部を連続して形成する。例文帳に追加

In the method of manufacturing the optical film, the embossed part having a large number of uneven parts is continuously formed at least at one of both left and right ends of the optical film, which has been manufactured by a solution casting film forming method or a fusion casting film forming method and is transported, by applying plasma irradiation processing thereto by a normal pressure plasma irradiation device 20. - 特許庁

その結果として、ガイド部３１の上端縁部３７に集中的にプラズマビームＰｂが入射するようになり、ガイド部３１の上端縁部３７の温度を局所的に高めやすくなる。例文帳に追加

As a result, the plasma beams Pb are incident on the upper edge 37 of the guide part 31 in a focused manner, and the temperature of the upper edge 37 of the guide part 31 can be locally raised. - 特許庁

屈曲部において配線間隔が狭くなるから、プラズマＣＶＤ法などで形成した絶縁保護膜の、隣接する配線の端部から成長した端部（１０５，１０５’）が屈曲部においても接触して閉じる。例文帳に追加

Since a wiring interval becomes narrow in the bend, ends (105 and 105') grown from ends of adjacent wirings in the insulation protection film formed of a plasma CVD method and the like are brought into contact with one another in the bend and are closed. - 特許庁

堆積膜形成装置１００では、基体ホルダ１０７の端部から突出する部分より、反応容器１０１の内部へ端部供給ガスを放出させることにより、長手方向のプラズマの均一性が向上する。例文帳に追加

The deposited film forming device 100 includes a part protruded from the end part of a base holder 107, the part releases an end part supply gas to the inner part of a reaction vessel 101, whereby the evenness of plasma in the longitudinal direction is improved. - 特許庁

主排気部１０９と端部排気部１１１、１１２から排気し、その排気バランスを調整することで、円筒状基体１２０の特に長手方向端部でのプラズマの均一性が向上し、堆積膜の均一性が向上する。例文帳に追加

By evacuating from the main exhaust part 109 and the end exhaust parts 111, 112 so as to adjust the exhaust balance, the evenness of plasma of the cylindrical base 120, particularly in the longitudinal direction end parts, is improved and the uniformity of the deposited film is improved. - 特許庁

これにより、立体構造の基板の端部（側面部）にプラズマを傾斜させて接近させることができるため、基板の中央部と端部の処理速度の分布を低減し、処理速度を向上させることができる。例文帳に追加

As a result, the plasma is inclined and brought near to the end (side face portion) of the substrate of a three-dimensional structure and therefore, the distribution of the treatment speeds in the central part and ends of the substrate can be reduced and the treatment speed can be improved. - 特許庁

セラミック基板１１中にプラズマ発生用電極１１２を埋設すると共に、この電極１１２の一方の面に給電端子２３を接続してなる電極埋設部材１０において、前記給電端子２３をセラミック基板１１の外周寄りに配置したプラズマ発生装置用電極埋設部材１０。例文帳に追加

In the electrode-burying member 10 for plasma generators, the power feeding terminal 23 is arranged closer to the outer periphery of the ceramic substrate 11 in the electrode burying member 10 in which the electrode 112 for generating plasma is buried into the ceramic substrate 11 and the power feeding terminal 23 is connected to one surface of the electrode 112. - 特許庁

プラズマプロセス装置のプラズマ放電発生部は、被処理基板と平行な方向にストライプ状に延びる複数の絶縁部３と、少なくとも隣り合う絶縁部３同士の間に設けられたカソード電極２ａと、各絶縁部３における被処理基板４側の端部に設けられたアノード電極２ｂとを備えている。例文帳に追加

A plasma discharge generating unit for a plasma processing apparatus is equipped with a plurality of insulating units 3 extending into a direction parallel to the substrate to be processed with the shape of stripes, cathode electrodes 2a provided between at least mutually neighboring insulating units 3, and anode electrodes 2b provided at the end of the side of substrate 4 to be processed in respective insulating units 3. - 特許庁

発電要素３の正極に接続されたリード端子４を、蓋板２に取り付けられたピン状の外部端子７における電池ケース内部側に配置された接続部７ａにプラズマ溶接により接続固定する。例文帳に追加

The lead terminal 4 connected to a positive electrode of a power generation element 3 is connected and fixed to the connection part 7a arranged on the inner side of a battery case in a pin-like external terminal 7 attached to a lid plate 2 by plasma welding. - 特許庁

また、電子吸着部材１７は、ターゲット１４のうち、回転ドラム１２の回転軸１２Ａに対して平行方向における両端部に生じるプラズマ中の電子よりも、回転ドラム１２の回転軸１２Ａに対して平行方向における中央部に生じるプラズマ中の電子を多く吸着するように設けられている。例文帳に追加

The electron-adsorbing member 17 is arranged so as to absorb electrons more from the plasma generated in a central part of the target 14 in parallel to a rotation axis 12A of the rotation drum 12 than from the plasma generated in both ends of the target 14 in parallel to the rotation axis 12A of the rotation drum 12. - 特許庁

具体的には高電圧パルスを印加することで、その接合界面における微小空間に部分（ボイド）放電を生起し、この部分放電を端緒として上記接合界面だけを瞬間的に一気にプラズマ化し、プラズマ化により電離した荷電粒子を再結合させることでその接合界面の部材を相互に接合する。例文帳に追加

Concretely, by applying high voltage pulse, partial (void) discharge is generated on a fine space in the welding boundary, with the partial discharge as the start, only the welding boundary is made into plasma at a stretch, and charged particles ionized by its conversion into the plasma are recombined, thus mutually welding the members at the welding boundary. - 特許庁

上部ガス流路４の下端に接続された下部ガス流路１０の下端から、下向きのプラズマガスの流れと対向するように上向きに希釈ガスを供給する。例文帳に追加

Dilution gas is supplied upward to be opposed to a downward flow of plasma gas from a lower end of a lower portion gas flow passage 10 connected to a lower end of an upper portion gas flow passage 4. - 特許庁

筒状の絶縁材料製プラズマトーチ１の先端部分２Ｆの周囲には高周波コイル４が、先端部分近傍には点火用コイル６がそれぞれ巻回されている。例文帳に追加

A high frequency coil 4 is wound around the top end part 2F of a cylindrical plasma torch 1 made of insulation material, and an ignition coil 6 is wound around the neighboring area of the top end part. - 特許庁

信号伝達手段を放電電極の端子部に安定的に連結できる電極端子部の連結構造及びこれを備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。例文帳に追加

To provide an electrode terminal part connection structure capable of stably connecting a signal transmitting means to a terminal part of a discharge electrode; and to provide a plasma display panel having the same. - 特許庁

上記貫通孔２におけるプラズマ生成用ガスＧの流通方向において下流側の電極３の周端部を上流側の電極４の周端部よりも外側に突出させる。例文帳に追加

A peripheral end part of the electrode 3 of a downstream in the flowing direction of the plasma generating gas G in the through holes 2 is projected more outwards than a peripheral end part of the electrode 4 of an upstream. - 特許庁

複数の金属部材が埋設された金属製給電端子の接続に適し、耐プラズマ及び機械的強度に優れた金属部材埋設セラミックス基材の給電端子取付け構造を提供する。例文帳に追加

To provide a structure for mounting the feeding terminal of a ceramic base with metal members embedded therein that is appropriate for connection to a metal feeding terminal with a plurality of metal members are embedded therein, and that has excellent plasma resistance and mechanical strength. - 特許庁

酸洗ライン入り側で、先行コイルの最後端部と後行コイルの最先端部を還元性高温プラズマや還元性高温燃焼炎などの還元性雰囲気でフラッシュバット溶接する。例文帳に追加

On the inlet side of the pickling line, the tail end portion of the preceding coil is joined to the leading end portion of the following coil by flash butt welding in the reducing atmosphere, such as reducing high temperature plasma, reducing high temperature combustion flames. - 特許庁

プラズマ溶接によってリード端子４を外部端子７の接続部７ａに接続固定することにより、金属スパッタの飛散による絶縁不良が生じない電池の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a battery without causing insulation failure due to scattering of metal spatter by connecting and fixing a lead terminal 4 to a connection part 7a of an external terminal 7 by plasma welding. - 特許庁

セラミック基板中に複数個のプラズマ発生用電極を導体を介して平行に複数層に亘って配設してなる電極埋設部材において、複数個の前記電極の少なくとも一個、とくに最上層のものを導電性セラミックスにて構成すると共に、最下層の電極板とは円筒状の給電端子を接続してなるプラズマ発生装置用電極埋設部材。例文帳に追加

In the electrode embedding member constituted by providing a plurality of plasma generating electrodes in parallel with each other over a plurality of layers through conductors in a ceramic substrate, at least one, particularly, the uppermost one of the plurality of plasma generating electrodes is constituted of a conductive ceramic and, at the same time, the lowermost electrode plate is connected to a cylindrical feeding terminal. - 特許庁