「位相シフト特性」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ＡｒＦ、Ｆ２エキシマレーデー露光に対応したハーフトーン型位相シフトマスクおよびハーフトーン型位相シフトマスクブランクの材料構成および構成元素の含有比率を、光学特性や耐性等の膜特性等から鑑みて定め、ハーフトーン型位相シフトマスクおよびハーフトーン型位相シフトマスクブランク並びにその製造方法を提供する。例文帳に追加

To determine the material constitution and the content ratio of the constituent elements of a halftone phase shift mask and a halftone phase shift mask blank adapted to ArF or F2 excimer laser exposure in consideration of film properties such as optical properties and resistance, to provide a halftone phase shift mask and a halftone phase shift mask blank and to provide a method for producing those. - 特許庁

現行の厳しい光学特性（位相差、透過率）のばらつきのスペックに対し、光学特性（位相差、透過率）のばらつきを更に低減できる位相シフトマスクブランク等を提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask blank and the like capable of further reducing variation of optical characteristics (phase difference, transmittance) to a current severe specification for variation of optical characteristics (phase difference, transmittance). - 特許庁

位相特性が−１８０度から１８０度の範囲に収まるようシフト処理をし、第３の周波数特性を算出する。例文帳に追加

Shift processing is performed so that a phase characteristic falls into the range from -180 degrees to 180 degrees, to thereby calculate the third frequency characteristic. - 特許庁

本発明は、位相シフト膜改質時およびマスク洗浄時に生じる位相シフト膜の光学特性変動を抑制することができ、かつ、位相シフト膜改質時に生じる、クロム系材料からなるパターン状の遮光膜の寸法変動および膜減りを抑制することができるハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを主目的とする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask, by which changes in optical characteristics of a phase shift film upon modifying the phase shift mask and cleaning the mask can be suppressed, and dimensional changes and film reduction of a patterned light-shielding film made of a chromium material occurring upon modifying the phase shift mask can be suppressed. - 特許庁

位相シフト領域３を有する長周期ファイバグレーティングは、温度変化が生じると、位相シフト量が変動し、これにより透過損失特性が変動する。例文帳に追加

In a long-period fiber grating which has a phase shift area 3, when the temperature change occurs, the phase shift amount is varied and, thereby, transmission loss characteristics are varied. - 特許庁

所定の位相角及び透過率を有し、耐薬品性、耐光性、及び内部応力などの膜特性に優れた光半透過膜又は光半透過部を有する位相シフトマスクブランクの製造方法又は位相シフトマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a phase shift mask blank having a light semi-transmission film or a light semi-transmission area with a specified phase angle and transmittance and excellent film characteristics such as good chemical resistance, good light resistance and reduced inner stress, and to provide a method for manufacturing a phase shift mask. - 特許庁

誤差検出回路２４で、カットオフ周波数の信号が供給されたときに従属ローパスフィルタ２１で生じる位相シフト量に相当する値と、位相特性上、カットオフ周波数のときに従属ローパスフィルタ２１で生じるべき位相シフト量に相当する基準値とを比較する。例文帳に追加

An error detection circuit 24 compares a value equivalent to the phase shift caused from the subordinate low pass filter 21 when it receives the signal with the cut-off frequency with a reference value equivalent to the phase shift to be caused in the subordinate low pass filter 21 at the cut-off frequency depending on the phase characteristic. - 特許庁

増幅器の位相シフト特性は、増幅素子１のバイアス（ドレイン電圧、ドレイン設定電流）によって変化する。例文帳に追加

The phase shift characteristics of an amplifier are changed according to the bias (drain voltage, drain setting currents) of an amplifying element 1. - 特許庁

凸形状の位相シフト素子で収差補正を可能とし、従来方式に比べ低コストかつ高精度で、良好な信号特性を得る。例文帳に追加

To obtain satisfactory signal characteristics at lower cost with higher accuracy than a conventional system by a protruding phase shift element to correct aberration. - 特許庁

特定の位相シフトと減衰の特性を有する材料を局所的に堆積させる方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of locally depositing a material having characteristics of specified attenuation and phase shift. - 特許庁

プロセス変動、温度変動、周波数変動による特性の変動が小さく、回路規模が小さいπ／２位相シフト回路を提供する。例文帳に追加

To provide a π/2 phase shift circuit having a small variation of characteristics due to process variation, temperature variation, and frequency variation, and also having a small circuit scale. - 特許庁

本発明は、均一性の高い傾斜位相差フィルム、および視野角、カラーシフト特性に優れた液晶表地租内を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an inclined retardation film having high uniformity, and a liquid crystal display device which is superior in a view angle and color shift characteristics. - 特許庁

周波数オフセットに起因する受信信号の位相シフトによる復調データの誤り率特性を改善する。例文帳に追加

To provide a receiver for the time division multiplexing CDMA system for improving an error rate characteristic of demodulation data caused by a phase shift of a received signal due to a frequency offset. - 特許庁

より精度を必要とするなら位相シフトフィルタの周波数特性を調整（補正）するフィルタ１１ａ，１１ｂ等を配備する。例文帳に追加

If higher precision is a requirement, the signal processing system is provided further with filters 11a, 11b or the like that adjust (correct) a frequency characteristic of the phase shift filters. - 特許庁

透明基板１０１上に少なくともクロムとフッ素とを含むハーフトーン位相シフト膜１０２のパターンを有するハーフトーン位相シフトフォトマスク１０８において、ハーフトーン位相シフト膜１０２により熱処理を施した膜をパターニングすることにより、露光用エキシマレーザー照射における光学特性変化を低減した。例文帳に追加

In this half-tone phase-shifting photomask 108 having a pattern of a half-tone phase-shifting film 102 which includes at least chromium and fluorine on a transparent substrate 101, the optical characteristic variation due to the excimer laser irradiation for exposure is reduced by patterning the film which is subjected to heat treatment with the half-tone phase-shifting film 102. - 特許庁

この位相シフト回路では、各移相器１０，２０における位相及び／又は振幅の規定値からのズレが補正され、広い周波数範囲にわたりほぼ同じ移相および利得特性が得られる。例文帳に追加

This phase shift circuit corrects the deviations of the phases and/or amplitudes of the phase shifters 10 and 20 from prescribed values to obtain nearly the same phase shift and gain characteristics over a wide frequency range. - 特許庁

所定の位相角及び透過率を有し、耐薬品性、耐光性、及び内部応力などの膜特性に優れた光半透過膜又は光半透過部を有する位相シフトマスクブランクの製造方法等を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a phase shift mask blank having a light translucent film or a light translucent portion having a predetermined phase angle and transmittance and being superior in film characteristics such as chemical resistance, light resistance and internal stress. - 特許庁

そして、生成部１３０により生成された角周波数に基づいて、位相補正部１４０が、直交化信号生成部１１０Ａ内のフィルタによる位相シフトの周波数特性を補正する。例文帳に追加

A phase correcting part 140 corrects a frequency characteristic of a phase shift by a filter in the orthogonalized signal generating part 110A based on the angular frequency generated by the generating part 130. - 特許庁

タップ重心検出回路４０は、適応イコライザ１６のタップの重心の変化を検出し、その結果に応じて位相シフト回路４２において位相誤差を微少量だけ適宜シフトさせ、競合による等化特性劣化を防ぐ。例文帳に追加

A tap centroid detecting circuit 40 detects a change in the tap centroid of the adaptive equalizer 16 and corresponding to the result, a phase error is appropriately shifted just a little by the phase shift circuit 42 so that equalization characteristic degradation caused by competition can be prevented. - 特許庁

この様にバイアス設定を選ぶことで、後段の増幅回路で生じるゲインコンプレッション及び正の位相シフトを、初段の増幅回路のゲインエクスパンジョン及び負の位相シフトで相殺することにより、増幅器全体の歪み特性を改善する効果が得られる。例文帳に追加

The entire distortion characteristic of the multi-stage amplifier can be enhanced by canceling a gain compression and a positive phase shift caused in the post-stage amplifier circuit with a gain expansion and a negative phase shift caused in the 1st stage amplifier circuit through the selection of the bias voltages as above. - 特許庁

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask. - 特許庁

２つの圧電振動子の特性ばらつきの低減に伴う回路部の無調整化およびばらつき要因の削減を可能とし、また、圧電振動子と回路部間の距離を離せるようにし、さらに位相シフト回路による位相シフト量の制御を不要とした力学量センサを構成する。例文帳に追加

To constitute a dynamic quantity sensor for realizing the non- adjustment of a circuit caused by decrease in dispersion of characteristics of two piezoelectric vibrators and the reduction of dispersion factors, separating the distance between the piezoelectric vibrators and the circuit part, and dispensing with the control of a phase shift amount caused by a phase shift circuit. - 特許庁

下側の層２ａは比較的高い金属含有量を有する金属シリサイド化合物膜からなるため、位相シフト多層膜の光学特性を制御し易く、所望の光学特性を得ることができる。例文帳に追加

Since the lower side layer 2a is formed of the metal silicide compound film with a comparatively high metal content, optical characteristics of the phase shift multilayer film is easily controlled to obtain desired optical characteristics . - 特許庁

所望する最適の光学特性値を高い精度で有するとともに、マスクの製造及び使用の際の洗浄等による光学特性の変化を抑えることができるハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift mask having desired optimal optical characteristics values at high accuracy and suppressing changes in the optical characteristics due to cleaning or the like when the mask is manufactured and used. - 特許庁

所望する最適の光学特性値を高い精度で有するとともに、マスクの製造及び使用の際の洗浄等による光学特性の変化を抑えることができるハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a halftone type phase shift mask which has desired optimum optical characteristics highly precisely, and can reduce changes in the optical characteristics due to cleaning or the like when the mask is manufactured and used. - 特許庁

この位相シフト型長周期ファイバグレーティングの透過損失特性の温度依存性を、ＥＤＦ等の光増幅媒体の利得の温度依存性の逆に設定することにより、増幅特性の温度依存性を補償し、温度による特性変動の無い光増幅器を提供する。例文帳に追加

The temperature dependency of amplification characteristics is compensated by setting the temperature dependency of the transmission loss characteristics of this phase shift type long-period fiber grating to the opposite of the temperature dependency of the gain of the optical amplification mediums such as EDF, and the light amplifier free from the characteristics variation by the temperature can be obtained. - 特許庁

ＣＣＤの各画素の入射光に対する位相シフト特性検査を可能にする光源装置とこれを有する撮像素子検査装置を提供すること。例文帳に追加

To provide light source equipment and imaging device text equipment having the same capable of testing phase shift characteristics with respect to the incident light of each pixel of a CCD. - 特許庁

タンタルシリサイド系材料の優れた加工特性、加工後の化学的安定性等を維持しつつ、石英基板とのエッチング選択比を向上したハーフトーン位相シフトフォトマスク及びブランクス。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift photomask and blanks for the photomask having an enhanced etching selectivity ratio of a tantalum silicide- base material to a quartz substrate while retaining superior working characteristics of the tantalum silicide-base material and superior chemical stability after working. - 特許庁

位相シフトマスク成膜時に有効な光学的・化学的特性が得られ、且つパーティクルの発生を極めて少なく抑えることのできる金属シリサイドスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a metal silicide sputtering target which ensures optical and chemical properties effective in film deposition for a phase shifting mask and can suppress the generation of particles and to provide a method for manufacturing the target. - 特許庁

光変調器の一つである電界吸収（Electro-absorption）型変調器（EA変調器）では、バイアス電圧に対して相互変調歪の位相が１８０°急激にシフトする特性を有する。例文帳に追加

In the characteristic of an electro-absorption type modulator (an EA modulator) that is one type of optical modulators, the phase of inter- modulation distortion is suddenly shifted for 180° with respect to a bias voltage. - 特許庁

ゲート電極加工に位相シフトマスク、特にレベンソンマスクを用い、電流特性の変動を抑制した半導体装置及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device where the fluctuations in the current characteristics are suppressed by using a phase shift mask, especially, a Levenson mask for gate electrode working, and to provide a method for manufacturing it. - 特許庁

精度の良い外挿処理を行うため、伝送路特性に応じて位相角スペクトラムの周波数シフトを可変制御するＯＦＤＭ信号受信装置を提供する。例文帳に追加

To provide an OFDM (orthogonal frequency division multiplexing) signal receiver for variably controlling the frequency shift of a phase angle spectrum in accordance with a transmission path characteristic in order to perform extrapolation processing with high accuracy. - 特許庁

視野角が広いＩＰＳモード液晶表示装置の特性を損なわずにカラーシフトを抑制でき、かつ、偏光フィルムと前記位相差フィルムが一体化され耐久性に優れた複合偏光板の提供。例文帳に追加

To provide a composite polarizing plate that suppresses a color shift without deteriorating the characteristics of an IPS mode liquid crystal display device with a wide viewing angle, and which is excellent in durability because a polarizing film and a retardation film are integrated. - 特許庁

得られた熱画像は、既知のスタックレイヤからの位相シフトを較正するのに用いられるよう、またはスタックダイ中の欠陥を特定するのに用いられるよう、その特性が得られる。例文帳に追加

The obtained heat image is obtained to have properties so that the heat image may be used to calibrate phase shift from a given stack layer, or that the heat image may be used to specify a defect within a stacked die. - 特許庁

次に、直交特性の代わりに、所望の位相差＞または＜90°で出力シグナルを互いに制御し、選択的に２つの基本OTA/CCCＩＩ-C副回路系統を重畳して、有利に正弦波オシレータ構造を直交から任意のフェース・シフト特性に変換する。例文帳に追加

Secondly, instead of the quadrature characteristic, to control each output signal by using one another by a desired phase difference>output signal or output signal <90°, selectively superposing any of two fundamental OTA/CCCII-C sub-circuitries benefits the transformation of quadrature to arbitrary-phase-shift characteristic for the sinusoidal oscillator structure. - 特許庁

位相シフト構造の加工誤差によって発生する不必要な位相変化の影響を低下させ、加工誤差の許容量を広げ、金駒作成コストの低下と位相構造の高精度化、光学特性の向上が実現可能な光学素子、及び該光学素子を搭載した光ピックアップ装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an optical element achieving reduction in metal piece manufacturing cost, higher accuracy of a phase structure, and improved optical characteristics by reducing the effect of an unnecessary phase change caused by a processing error of a phase shift structure thereby expanding an acceptable amount of processing errors, and to provide an optical pickup device mounted with the optical element. - 特許庁

洗浄工程の後に熱処理を行うことにより、マスクの表面に残っている残留イオンを除去してヘイズを防止し、位相シフトマスクの光学的特性変化を減少させるフォトマスク洗浄装置及び洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photomask washing device and a washing method that reduce optical characteristic variation of a phase shift mask by carrying out a heat treatment after a washing stage, and then removing residual ions left on the surfaces of the mask to prevent haze. - 特許庁

共振信号が、軸対称の放射パターンを有する単一共振モードから成るので、位相シフトを用いることにより、放射される共振信号の出力特性を、例えば平行にし、分散し、方向を変更し、形づくることができる。例文帳に追加

Since the resonant signal consists of a single resonant mode with an axially symmetric radiation pattern, output characteristics of the emitted resonant signal can be used, for example, parallel, dispersive, or with the direction changed by using the phase shift. - 特許庁

駆動回路を内蔵したアクティブマトリクス型液晶表示装置の信号制御回路において、信号線ドライバ内のシフトレジスタを構成するＴＦＴの特性バラツキによる信号線の選択期間と映像信号の位相関係のずれを解消する。例文帳に追加

To dissolve deviation between selection period of a signal line and phase relation of a video signal due to variations of characteristics of TFTs, constituting shift register in a signal line driver in the signal control circuit of an active matrix type liquid crystal display device, in which a drive circuit is incorporated. - 特許庁

検査波長域での分光透過率特性を改善し、ハーフトーン型位相シフトマスクの検査時にガラス基板とのコントラストを向上させ、導電性を高めることができるスパッタリングターゲットを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a sputtering target for improving the spectral transmittance characteristics of a deposited film in an inspection wavelength region, increasing the contrast of a halftone phase shift mask with respect to a glass substrate on the inspection of the mask, and increasing the conductivity of the target. - 特許庁

高調波抑制の場合は所望の位相にシフトしてインバータ部を制御し補償特性がよく、無効電力制御の場合はリアルタイムでインバータ部を制御し、負荷の急変、電圧の急変に対応する電力変換装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a power converter, which for higher harmonics suppression, has excellent compensating characteristic by shifting to a desired phase for the control of an inverter part, and which for reactive power control, cope with sudden changes in a load and voltage by controlling an inverter part in real time. - 特許庁

こうして、製造段階で、個々の装置毎にトランジスタ特性や抵抗値にバラツキが生じたとしても、各装置別に、ノイズ成分が最小になるように基本クロック信号ADCK1の位相をシフトしたクロック信号ADCK2をＡ/Ｄコンバータに供給できる。例文帳に追加

Thus, even if a variation occurs in the transistor characteristics or the resistance value in individual device, the clock signal ADCK2 which shifted the phase of the basic clock signal ADCK1 can be supplied to the A/D converter to minimize the noise component. - 特許庁

つまり、同一の特性を有するインバータＩＮＶの個数によって各遅延ラインＤＬ１〜ＤＬｍでの遅延量を調整しているため、互いの位相が正確にΔＴ（＝Ｔｄ／ｍ）ずつシフトしたｍ個のサンプリングクロックＣＫ１〜ＣＫｍが得られる。例文帳に追加

That is, since delay amounts of the respective delay lines DL1 to DLm are adjusted by the number of inverters INV having the same characteristic, it is possible to obtain m sampling clocks CK1 to CKm obtained by accurately shifting the phases of the sampling clocks by ΔT (Td/m) at a time. - 特許庁

多様な光学補償の要望に対する好適な位相シフト特性が１００°以上の高温環境下でも保持され、又、液晶表示装置の設計、生産の容易化を図ることができる光学フィルム、その製造方法及び液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical film which has suitable phase shift characteristics meeting various demand for optical compensation and being maintained in high temperature environment of equal to or more than 100° and facilitates design and production of a liquid crystal display device and to provide its manufacturing method and a liquid crystal display device. - 特許庁

入射角依存性の低い良好な偏光分離特性を保持しつつ、ｓ偏光を高い波面精度で反射させることができる偏光ビームスプリッター膜と、それを簡単に製造するための位相シフト調整方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polarizing beam splitter film capable of reflecting s polarized light with high wave front accuracy while holding excellent polarized light separation characteristic having small incidence angle dependence, and to provide a phase shift adjustment method for easily manufacturing the film. - 特許庁