「工程線」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

また、該止釘の製造方法において、母材として伸線素材を用い、これを伸線することによって所望の胴部径を形成する工程と、該伸線を切断する工程と、該切断線に頭部を形成する工程と、頭部表面を研磨する工程と、を含むようにし、且つ釘胴部の磨き工程を含まないようにした。例文帳に追加

The method of manufacturing the locking nail includes a process for forming a required diameter of the shaft by extending an extensible line used for a base metal and a process for cutting the extensible line, and it does not include a process for grinding the shaft of the nail. - 特許庁

端子の押し圧加工工程と、配線加工工程と、上蓋の射出成形工程と、下蓋の射出成形工程と、差し込み加工工程と、テープ除去工程と、前方ゴム芯の組み合わせ工程と、外ケースの組み合わせ工程により、電子機器製品間の接続に使用する、ベローズ式の端子、コネクタを製造する事による。例文帳に追加

The method of manufacturing the bellows-type terminal and the connector to be used for connection between electronic equipment products includes a terminal thrusting work step, a wiring work step, an upper cover injection molding step, a lower cover injection molding step, a plugging work step, a tape removing step, a front rubber core combining step and an outer case combining step. - 特許庁

コンタクト開口工程、第１配線１９の形成工程、層間絶縁膜２０の形成工程、及び第２配線２１（インダクタ）の形成工程を経て集積回路として完成する。例文帳に追加

An integrated circuit is completed by conducting a step of contact opening, a step of forming first wiring 19, a step of forming an interlayer insulating film 20, and a step of forming a second wiring 21 (inductor). - 特許庁

また、前記一次焼入工程後の前記被処理部材を１０００℃以下かつＡ３線又はＡｃｍ線より高い温度で保持する保持工程と、前記保持工程の後、焼入れを行う二次焼入工程とを備えている。例文帳に追加

Moreover, the method includes a keeping step of keeping the member to be treated after the primary quenching step at 1,000°C or less and at a temperature higher than an A3 line or Acm line, and a secondary quenching step of performing quenching after the keeping step. - 特許庁

また、この工程（ｂ）の後に、前記配線溝を除く絶縁膜上のバリアメタル膜のみを除去する工程（ｃ）と、この工程（ｃ）の後に、前記配線用溝内に銅を形成する工程（ｄ）とを有することを特徴とする。例文帳に追加

After the step (b), the method includes: a step (c) which removes only the barrier metal film on the insulating film except the wiring groove; and a step (d) which forms cooper in a groove for interconnection after the step (c). - 特許庁

最適配線間隔６は自動配置配線装置での工程に利用される。例文帳に追加

The optimum wiring interval 6 is used in a step of an automatic layout/wiring apparatus. - 特許庁

次に、伸線する工程（ステップＳ２）後の素線を熱処理する（ステップＳ５）。例文帳に追加

The strand after the drawing step (step S2) is heat-treated (step S5). - 特許庁

配線部形成工程では、車両のボディに配線部を形成する。例文帳に追加

In the wiring unit forming step, a wiring unit is formed on a vehicle body. - 特許庁

再配線層形成工程、メタルポスト形成工程及び樹脂封止工程を経てウェハレベルで樹脂封止される半導体装置について、パッケージング工程の前後での素子の特性変動を低減させる。例文帳に追加

To reduce the variation of a device characteristic before and after a packaging process in a semiconductor device resin-sealed in a wafer level through rewiring layer formation process, metal post formation process and resin sealing process. - 特許庁

層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成方法は、少なくとも、（ｉ）前記組成物の塗膜を基板上に形成する工程、（ii）放射線の露光工程、（iii)現像処理工程および（iv）加熱処理工程を含む。例文帳に追加

The method for forming an interlayer insulating film and a microlens includes the steps of: (i) forming a coating film of the above composition on a substrate; (ii) exposing to radiation; (iii) developing; and (iv) heating. - 特許庁

噴霧乾燥工程と攪拌造粒工程とドライブレンド工程を含む洗剤組成物の製造方法において、式［Ｉ］で示される紫外線吸収剤を攪拌造粒工程にて噴霧乾燥粒子に添加する。例文帳に追加

The method for producing the detergent composition comprises a spray dry step, a stirring and granulating step and a dry blend step. - 特許庁

本発明の半導体の製造方法は、被膜形成工程と、パターニング工程と、配線形成工程と、本発明の金属の還元方法を用いた還元工程とを少なくとも含む。例文帳に追加

The method for manufacturing the semiconductor includes at least a step for forming a coat, a step of patterning, a step for forming interconnection and a step of reduction using the metal reducing method. - 特許庁

固定子鉄心に各相のコイルを巻装するコイル巻装工程（Ｓ１０１）の後に、コイルエンド成形工程（Ｓ１０２）、第１レーシング工程（Ｓ１０３）を経て、同相並列導線間絶縁試験工程を行う（Ｓ１０４）。例文帳に追加

After a coil winding process (S101) for winding the coil of each phase to a stator core, an insulation test process between in-phase parallel conductors is performed (S104) via a coil-end forming process (S102) and a first lacing process (S103). - 特許庁

本発明の配線基板１００の製造方法は、１回目の充填ビア導体形成工程及び被覆樹脂絶縁層形成工程と２回目の充填ビア導体形成工程及び被覆樹脂絶縁層形成工程とを有する。例文帳に追加

The method of manufacturing the wiring board 100 includes a first filling via conductor forming step, a first coating insulating resin layer forming step, a second filling via conductor forming step, and a second coating insulating resin layer forming step. - 特許庁

この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法は、被加工基板上に前記組成物を塗布する工程、２５０ｎｍ以下の光線で露光する工程、加熱する工程、及び現像する工程によって行うことができる。例文帳に追加

A pattern forming method using the photosensitive resin composition can be carried out by a step of applying the composition on a substrate to be worked, a step of exposing the composition with a beam of ≤250 nm, a step of heating the same and a step of developing the same. - 特許庁

現像工程後であって剥離工程前に、画像記録材料の全面に紫外線を照射する工程を有すると共に、剥離工程におけるポジ型フォトレジストの剥離をアルカリ水溶液を用いて行なう。例文帳に追加

In the method for manufacturing the color filter, after a development process, a process for irradiating the whole surface of an image recording material with ultraviolet ray is provided before a peeling process, and the peeling of a positive type photoresist in the peeling process is performed by using an alkali aqueous solution. - 特許庁

伸線工程（ステップＳ６）と１次圧延工程（ステップＳ８）との間、および１次圧延工程（ステップＳ８）と１次焼結工程（ステップＳ１０）との間のうち少なくともいずれかが７日未満である。例文帳に追加

At least either holding time between the wire drawing step (S6) and the primary rolling step (S8) or between the primary rolling step (S8) and the primary sintering system (S10) is carried out within seven days. - 特許庁

本発明のビアアレイキャパシタ内蔵配線基板は、準備工程、内蔵工程、ビアホール形成工程、ビア導体形成工程を経て製造される。例文帳に追加

The wiring board incorporating a via array capacitor is manufactured through a preparation step, an incorporation step, a via hole formation step, and a via conductor formation step. - 特許庁

吸引機１によって吸引除去工程を行い、蒸気発生装置３によって蒸気洗浄工程を行い、再度吸引除去工程を行い、赤外線照射装置４によって乾燥・殺菌工程を行うようにした。例文帳に追加

A method for cleaning a mattress at a job site comprises a suction removing step by a suction unit 1, vapor cleaning step by a vapor generator 3, the second suction removing step, and a drying and sterilizing step by an infrared emitting unit 4. - 特許庁

従って、ＣＭＰ方法のような平坦化を工程の安定化を実現しながら適用でき、上部配線工程のような後続工程の工程マージンを確保することができる。例文帳に追加

Accordingly, the flattening based on the CMP method can be employed, while realizing stabilization of the step, and a step margin in a subsequent step such as an upper-part wiring step can be secured. - 特許庁

光ファイバ母材製造方法は、石英ガラスからなる光ファイバを線引により得る為の光ファイバ母材を製造する方法であって、Ｈ_２Ｏ除去工程，ＯＨ除去工程，ＣＯ除去工程および透明化工程を備える。例文帳に追加

The method for producing an optical fiber preform for obtaining an optical fiber made of quartz glass by wire drawing comprises: an H_2O removal stage; an OH removal stage; a CO removal stage; and a transparency imparting stage. - 特許庁

塩素ガス又は塩素を含む反応ガスを用いるドライエッチング工程である金属配線形成工程と、ホトレジストを剥離するホトレジスト剥離工程とを有し、このホトレジスト剥離工程は、酸素と水素を含むフッ化炭素との混合ガスを用いフルアッシングする金属配線露出工程と、純水により洗浄する洗浄工程と、酸素を用いるプラズマでアッシングと、の３つの工程からなる。例文帳に追加

The photoresist peeling process includes three processes: a metal wiring exposure process of performing full ashing by using a mixed gas with a fluorocarbon gas containing oxygen and hydrogen; a cleaning process of cleaning by pure water; and an ashing process by a plasma using oxygen. - 特許庁

鋼材を熱間圧延して線材とする工程と、この線材をパテンティングする工程とを含む高炭素鋼線の製造方法である。例文帳に追加

The method of manufacturing a high carbon steel wire includes a step of hot-rolling a steel wire bar to wire rod and a step of patenting this wire rod. - 特許庁

配線工程，ビア工程および配線層数を削減し、チップ面積の削減した半導体集積回路の配線構造を提供する。例文帳に追加

To provide a wiring structure of a semiconductor integrated circuit wherein its wiring process, its via process, the number of its wiring layers, and its chip area are cut down. - 特許庁

このオイルテンパー線は、伸線加工後の鋼線に焼入れ工程と焼戻し工程とを行うことにより得られる。例文帳に追加

The oil tempered wire is manufactured by the steps of: drawing a steel wire; quenching it; and tempering it. - 特許庁

詳細配線（第１工程）で冗長ビア配線ルール違反が発生した場合、セルの向きを変更して冗長ビア配線ルール違反箇所を解消する配線修正を行うための準備（第２工程〜第１２工程）を行い、その後、セルの向きを変更して配線修正を行い（第１３〜第１５工程）、経路更新を行う（第１６工程）工程を用意する。例文帳に追加

The layout designing method makes preparations (second to twelfth steps) for making wiring corrections for eliminating a redundant via wiring rule violation place by changing the direction of a cell if a redundant via wiring rule is violated during detailed wiring (first steps), and then making the wiring corrections by changing the direction of the cell (thirteenth to fifteenth steps) and performing route update (sixteenth step). - 特許庁

帯電工程と、潜像形成工程と、現像工程と、転写工程と、前記トナー像を加熱することなく加圧して定着する定着工程と、少なくとも１つの光反応性成分をトナー又はトナー像に供給する供給工程と、紫外線をトナー像に照射する照射工程と、を有し、トナーが以下の関係式（１）を満たすことを特徴とする画像形成方法。例文帳に追加

The image forming method includes: a charging step; a latent image-forming step; a developing step; a transfer step; a step of fixing the toner image by pressurization without heating it; a step of feeding at least one photoreactive component to the toner or toner image; and a step of irradiating the toner image with ultraviolet rays. - 特許庁

ディスペンサを加圧する方法であって、以下の工程：アクチュエータを回転させる工程；該アクチュエータを回転させる工程に応答して、ピストン加圧アセンブリの少なくとも一部を回転させる工程；該回転の工程に応答して、ピストンを線形移動させる工程；および該ディスペンサを加圧する工程、を包含する、方法。例文帳に追加

A method for pressurizing a dispenser comprises the steps of rotating an actuator, rotating at least a part of a piston pressurizing assembly in response to the step for rotating the actuator, linearly moving the piston in response to the step of the rotation of the assembly, and pressurizing the dispenser. - 特許庁

ディスペンサを加圧する方法であって、以下の工程：アクチュエータを回転させる工程；該アクチュエータを回転させる工程に応答して、ピストン加圧アセンブリの少なくとも一部を回転させる工程；該回転の工程に応答して、ピストンを線形移動させる工程；および該ディスペンサを加圧する工程、を包含する、方法。例文帳に追加

A dispenser pressurizing method includes a process for rotating an actuator, a process for rotating at least a part of a piston pressurizing assembly in response to the process for rotating the actuator, a process for linearly moving the piston in response to the rotating process and a process for pressurizing the dispenser. - 特許庁

基板１上に絶縁膜を形成する工程と、ポリシリコン膜４を形成する工程と、ゲート絶縁膜７を形成する工程と、ゲート電極８を形成する工程と、層間絶縁膜１０を形成する工程と、ポリシリコン膜４と接続するソース・ドレイン配線１１を形成する工程と、保護膜１２を形成する工程とを備え、層間絶縁膜１０のＥ'センター密度を１．０×１０^１８ｓｐｉｎｓ／ｃｍ^３以下とする。例文帳に追加

The E' center density of the interlayer insulation film 10 is turned to 1.0×10^18 spins/cm^3 or less. - 特許庁

本レジスト用樹脂含有溶液の製造方法は、レジスト用樹脂含有溶液を、フィルタに通過させて濾過する濾過工程を備えており、該濾過工程は、第１濾過工程と、該第１濾過工程よりも線速度が低い第２濾過工程と、を備える。例文帳に追加

The preparation method of a resin-containing solution for a resist includes a filtering step of filtering a resin-containing solution for a resist through a filter, wherein the filtering step includes a first filtering step and a second filtering step with a lower linear velocity than in the first filtering step. - 特許庁

保護層形成工程Ｓ１１２および封着工程Ｓ１４０の間には、前面基板上に形成された保護層に対してプラズマ照射または紫外線照射を施す照射工程Ｓ１１３と、照射工程Ｓ１１３にて保護層から排出された不純物を除去する不純物除去工程とを実施する。例文帳に追加

Between the protective layer forming step S112 and the sealing step S140, an irradiation step S113 for applying plasma irradiation or ultraviolet ray irradiation on the protective layer formed on the front substrate and an impurity removal step for removing impurities discharged from the protective layer in the irradiation step S113 are performed. - 特許庁

斜板式圧縮機のシューの製造方法において、線材又は棒材５の一端５ａ側を扁平に押しつぶし、円筒状にブランキングする工程と、前記ブランキングする工程より得たブランク品５ｂを焼鈍する工程と、荒工程と、仕上げ工程とを有する。例文帳に追加

The manufacturing method for the shoe of a swash plate compressor comprises: a step for compressing one end 5a side of a wire or a bar 5 to be in a flat shape and blanking it in a cylindrical shape; a step for annealing a blank part 5b formed in the blanking step; a rough finishing step; and a finishing step. - 特許庁

基材を加熱した状態で活性光線を照射する第１工程Ｓ２と、第１工程の後に、基材を冷却する第２工程Ｓ３と、第２工程の後に、冷却された基材に対して液滴を吐出して所定パターンを印刷する第３工程Ｓ４と、を有する。例文帳に追加

A printing method includes: a first process S2 of irradiating a substrate in a heated state with an activation light beam; a second process S3 of cooling the substrate after the first process; and a third process S4 of ejecting a droplet to the cooled substrate to print a predetermined pattern thereon. - 特許庁

基材上にオフセット印刷で紫外線硬化性組成物の画像を形成する工程（工程１）、発光ピーク波長３５０〜４２０ｎｍの発光ダイオード（ＬＥＤ）で紫外線を照射する工程（工程２）及び紫外線ランプで紫外線を照射する工程（工程３）をこの順に有する機能分離の照射方式を採用する。例文帳に追加

The manufacturing method of an ultraviolet curable printed matter adopts a function separated irradiation system which includes a process (process 1) for forming an image of an ultraviolet curable composition on a base material by offset printing, a process (process 2) for irradiating with ultraviolet rays by light emitting diodes having an emission peak wavelength of 350-420 nm, and a process (process 3) for irradiating with ultraviolet rays by an ultraviolet lamp in this order. - 特許庁

信号線をレイアウトする工程を、電源配線によるメタル密度違反を解消する工程の後に行う。例文帳に追加

The step of laying out the signal line is performed after the step of eliminating the metal density obligation by the power supply wiring. - 特許庁

配線積層部形成工程では配線積層部を形成し、はんだバンプ形成工程では導体層上にはんだバンプ４５を形成する。例文帳に追加

A wiring-laminating section is formed in the wiring-laminating section formation process, and a solder bump 45 is formed on a conductor layer in a solder bump formation process. - 特許庁

この工程の後の樹脂部形成工程４２では、大判配線基板４５と大判配線基板４６との間に樹脂部３５を形成する。例文帳に追加

A resin part formation step 42 after this step forms a resin part 35 between the large-size wiring board 45 and the large-size wiring board 46. - 特許庁

プリント配線板の製造工程における外部接続端子の電解金めっきと配線パターンの保護めっきのマスキング工程を簡略化する。例文帳に追加

To simplify the masking process of electrolytic gold plating of an external connection terminal and protective plating of a wiring pattern in the manufacturing process of a printed wiring board. - 特許庁

紫外線照射工程において測定工程の測定結果に基づき各ディスク状基板に対する積算紫外線光量を調整する。例文帳に追加

In the irradiation process of UV rays, the cumulative UV dose on each disk substrate is adjusted based on the measurement result of the measuring process. - 特許庁

工程Ｓ８で規格内等高線１１を取得し、工程Ｓ９で規格内等高線１１に基づき近似された右辺１２を取得する。例文帳に追加

A contour line 11 complying to standards is acquired in step S8, and an approximated right side 12 is acquired on the basis of the contour line 11 complying to the standards in step S9. - 特許庁

配線容量計算工程において、疑似構造生成工程で生成された疑似構造に基づき配線部の容量を計算する。例文帳に追加

In a wiring capacity calculation process SA4, the capacity of the wiring part is calculated based on the pseudo- structure produced in the pseudo-structure manufacturing process. - 特許庁

多層配線構造体の製造工程のＳＯＧ膜のエッチバック工程で、第１の金属配線を露出しない構造とする。例文帳に追加

To provide a structure in which a first metal interconnection is not exposed in an etch-back process for an SOG film, in a process for manufacturing a multi-layer interconnection structure body. - 特許庁

成膜工程で加わる熱工程時のストレスによって配線が破断するのを防止して信頼性の高い空中配線構造の実現を図る。例文帳に追加

To realize an air wiring structure, having high reliability by preventing wiring from being broken due to stress during a thermal process applied by a filming process. - 特許庁

前記転位線に欠陥集合体を発生させる工程が、放射線をフッ化物結晶に照射する工程である。例文帳に追加

The step to generate the defect aggregate in the dislocation line is a step wherein the fluoride crystal is irradiated with radiation. - 特許庁