「構造パターン」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムを収縮するステップを含む、周期的な構造が形成された樹脂フィルムの製造方法であって、前記周期的なドットパターンを有する樹脂フィルムは、ハニカム状多孔質フィルムを鋳型として、そのハニカムパターンを転写された樹脂フィルムである製造方法。例文帳に追加

A honeycombed porous film is used as a casting mold, and its honeycombed pattern is transferred to the resin film having the periodic dot pattern. - 特許庁

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程及び該工程を容易に適用可能な構造の半導体素子を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern formation process of a semiconductor element for doubling a pattern density by double patterning technology in a partial region while forming a pattern having various widths simultaneously, and to provide a semiconductor element having a structure to which the process can be easily applied. - 特許庁

幾何学図形状の導体層パターンであって、その導体層５０の全部または一部において、導体層５０の長手方向と直交する導体層５０の断面構造がＵ字管形状である導体層パターンを有する導体層パターン付き基材５２。例文帳に追加

A substrate 52 having a conductor layer pattern with a geometric shape includes a conductor layer 50 partially or entirely shaped like a U-tube in a cross section orthogonal to the length of the conductor layer 50. - 特許庁

配線パターンを有する基板及びそれを用いた液晶表示装置において、配線パターンの多層金属構造を最適化し、インクジェット塗布等の液体プロセスにより主金属と副金属の配線パターンを形成することで、生産工程を簡素化する。例文帳に追加

To simplify a manufacturing process by optimizing a multi-layer metal structure of a wiring pattern and by forming the wiring pattern of main metal and sub-metal by liquid processing such as ink-jet coating. - 特許庁

配線パターン電極に作用するノイズの影響を有効に回避しつつ各層の配線パターン電極の導通と、曲げ性の向上とを図ることができる複数層の配線パターン電極構造を備えた可撓配線基板およびこれを用いた液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a flexible wiring board having a multilayer wiring pattern electrode structure which can improve the continuity between wiring pattern electrodes in each layer and repeated-folding-resistance while effectively avoiding the influence of a noise to the wiring pattern electrodes, and to provide a liquid crystal display device using the same. - 特許庁

フォトリソグラフィ工程の解像限界内で、具現可能なサイズのパターンを利用して超微細な幅及び間隔を持つ高密度パターンを形成できる配置構造を持つ半導体素子及びその半導体素子パターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor element having an arrangement structure capable of high density patterning with ultra-fine width and interval by utilizing a pattern of expressible size in a resolution limit of a photolithographic process, and to provide a patterning method of the semiconductor element. - 特許庁

容量算出部１ｂは、プロセス情報１ａｂの配線構造に基づく配線パターン間に、ダミールール情報１ａａのルールに基づくダミーパターンが挿入された場合の、配線パターン間の配線間隔毎における容量値を算出する。例文帳に追加

A capacity calculating part 1b calculates a capacity value in each wiring interval between the wiring patterns when the dummy pattern based on the rule of the dummy rule information 1aa is inserted between the wiring patterns based on the wiring structure of the process information 1ab. - 特許庁

自己組織化により作製したハニカム状多孔質フィルムから成る鋳型にパターン転写用材料を充填することによって、ハニカム状多孔質フィルムのパターンを該パターン転写用材料に転写することを含む、メゾ構造体の作製方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the meso-structure comprises transferring the pattern of a honeycomb porous film to a pattern transfer material by filling the pattern transfer material in a mold comprising the honeycomb porous film manufactured by self-organizing. - 特許庁

次に、出射領域の全体に対応する領域を保護する第２のレジストパターン１２３を形成し、第１のレジストパターン及び第２のレジストパターンをエッチングマスクとして積層体をエッチングし、メサ構造体を形成する。例文帳に追加

Further, the method includes forming a second resist pattern 123 protecting a region corresponding to an entire emitting region; and etching the laminated body using the first resist pattern and the second resist pattern as an etching mask, thereby forming the mesa structure. - 特許庁

バックライトを使用しないデフォルト状態で目視可能な意匠パターンを有するとともに、その意匠パターンがバックライトで浮かび上がる意匠パターンの目視の妨げにならないような光学構造体及び光学表示装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an optical structure having a design pattern which is visible in a default state that does not use backlight, wherein the design pattern does not interfere with viewing of a design pattern appearing with the backlight, and to provide an optical display device. - 特許庁

回路基板は、基板と、基板に配置された極性分子層パターンおよび非極性分子層パターンと、基板に配置された第１の電極および第２の電極と、極性分子層パターンに配置され、線状ナノ構造物を含む１つ以上のチャネルとを含む。例文帳に追加

The circuit board includes: a substrate; a polar molecular layer pattern and a non-polar molecular layer pattern, each disposed on the substrate; a first electrode and a second electrode, each disposed on the substrate; and one or more channels arranged on the polar molecular layer pattern and including a linear nanostructure. - 特許庁

母型の凹凸パターンにクラックの無い金属膜を形成し、母型の凹凸パターンの破損を抑制するとともに凹凸パターンが反映された金属膜を支持部材に転写して金属微細構造体を製造することができる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method capable of inhibiting damage to an uneven pattern of a matrix by forming a crack-free metal film on the uneven pattern of the matrix and capable of manufacturing a metal fine structure by transferring the metal film having the uneven pattern reflected to a support member. - 特許庁

フラッシュを光源とする事で簡易な構造とし、投影する直線状のパターンと平行な方向には広く、垂直な方向には狭いスリット状の絞りを設ける事により、投影された像のパターンと垂直な方向のぼけ幅を小さくし、高精細なパターン光を得る。例文帳に追加

The device is simply constituted by using a flash as a light source, and narrows a blurring width in a direction perpendicular to a projected image pattern by disposing wide and narrow slit-like diaphragms in a direction parallel with and a direction perpendicular to a linear pattern to be projected, respectively, thereby obtaining the high-definition pattern light. - 特許庁

半構造化文書において複数行に跨る繰り返しパターンを比較的容易かつ効率的に抽出し、データ群の取得および検索に有効に利用し得るパターン抽出方法および装置とパターン抽出プログラムを記録した記録媒体を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for extracting a pattern and a recording medium with recorded pattern extraction program, with which repeated patterns over plural lines in a semi-structured document are comparatively easily and efficiently extracted and can be effectively utilized for acquiring and retrieving a data group. - 特許庁

工程Ｓ１０３では、第１〜第ｎのパターン部を含むパターンの配列を有する第１のマスクを用いて半導体領域をエッチングして、第１〜第ｎのパターン部にそれぞれ対応する回折格子用の第１〜第ｎの周期構造を半導体領域の各素子区画に形成する。例文帳に追加

In the process S103, a semiconductor region is etched using a first mask having the array of patterns including first-nth pattern parts and first-nth periodic structures for a diffraction grating corresponding to the first-nth pattern parts respectively are formed in the respective element sections of the semiconductor region. - 特許庁

画像表示シート１０は、基材２０上に、画像を構成する複数の網点を有する表示パターン領域３０Ａと、該各網点以外の部分に凹凸構造を有する背景パターン領域３０Ｂとが形成されたパターン形成層３０を備える。例文帳に追加

The image display sheet 10 includes a pattern forming layer having a display pattern region 30A having a plurality of dots having an image and background pattern regions 30B with a rugged structure at the parts other than each dot, on a base material 20. - 特許庁

この構造で、半導体チップ２のそれぞれの電極パッド３と配線パターン５との接触面積Ｓｎ（＝Ｗｎ×Ｌｎ）が等しくなるように電極パッド３の大きさ（電極パッド３を横断する配線パターン５の長さ）に応じて配線パターン５の幅が形成されている。例文帳に追加

In this structure, the widths of the wiring patterns 5 are formed according to the sizes(length of wiring patterns 5 which traverse the electrode pads 3) of the electrode pads 3 so that the contact area Sn(=Wn×Ln) of each wiring pattern 5 with each electrode pad 3 of the semiconductor chip 2 becomes equal. - 特許庁

使用する個々のガラスパネルとシャドウマスク毎に計測した構造寸法を基に、最適なるパターンを算出し、写真露光方法を使用せず、直接にガラスパネル内面にブラックマトリックスパターン及び蛍光体パターンを書き込む。例文帳に追加

The most proper pattern is computed based on structural dimensions measured for every individual glass panel and individual shadow mask to use, and thereby a black matrix pattern and a phosphor pattern are directly written on the inner glass panel without using a photographic exposure method. - 特許庁

データ構造が異なる複数種類のパターンデータが用いられる場合であっても、動作速度の低下及び回路規模の大幅な増大を招くことなく所望のパターンを発生することができるパターン発生装置等を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern generation device capable of generating a desired pattern, without causing deterioration in the operation speed or without increasing circuit scale by a large amount, even when using a plurality of kinds of pattern data having each different data structure, or the like. - 特許庁

本発明の目的の１つは、周期的構造を含む試料上でも適正な測定対象パターンを選択することが可能なパターンマッチング方法、及びそのパターンマッチングをコンピューターに実行させるためのコンピュータープログラムの提供にある。例文帳に追加

To provide a pattern matching method which enables the selection of an appropriate object pattern to be measured even on a sample including a periodic structure, and to provide a computer program for bringing a computer to execute the above pattern matching. - 特許庁

微細配線パターンの形成に適したリフトオフ法のフォトリソプロセスにおいて、入射光と反射光との干渉から生じる定在波効果を緩和しうる構造を有するレジストパターンを提供すること、および該レジストパターンを用いた配線形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a resist pattern having a structure capable of alleviating a standing wave effect generated by interference of an incident light with a reflected light in a photolithographic process of a lifting off method suitable for forming a fine wiring pattern, and to provide a method for forming wiring by using the resist pattern. - 特許庁

ＩＣチップおよび受動素子が実装されるモジュール基板ＭＣＢを絶縁性基板３７に信号伝達に用いられる導体パターン３６Ｓおよび基準電位と電気的に接続する導体パターン３６Ｇを含む導体パターンを貼付した単層の配線構造とする。例文帳に追加

A module board MCB, wherein an IC chip and a passive component are mounted, has a monolayer wiring structure where a conductive pattern 36S used for signal transmission and a conductive pattern containing a conductive pattern 36G for connecting to the reference electrically are stuck to an insulating board 37. - 特許庁

この高伝導化プリント基板１は、中空導体構造よりなり、絶縁基材２の外表面にパターニングされた銅箔パターン４と、銅箔パターン４を被覆する導体被膜９と、銅箔パターン４と導体被膜９間に形成された発泡中空層７とを、少なくとも有している。例文帳に追加

The high conductivity printed wiring board 1, having a hollow conductor structure, at least includes a copper foil pattern 4 that is patterned on the outer surface of an insulating substrate 2, a conductor coat 9 which covers the copper foil pattern 4, and a foam hollow layer 7 formed between the copper foil pattern 4 and the conductor coat 9. - 特許庁

本発明は、微細パターンが形成されたスタンパを被転写体に接触させ、被転写体にスタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置において、被転写体における微細パターンの転写領域で、前記の気泡を外部に導くような弾性力分布を持たせる機構とする。例文帳に追加

This microstructure transfer device transferring a minute pattern of a stamper to an object to be transferred by bringing the stamper with the minute pattern formed thereon into contact with the object to be transferred has a mechanism providing an elastic force distribution so that bubbles are led outside in the transfer region of the mimnute pattern in the object to be transferred. - 特許庁

第１のパターン化されたマスキング層（３２）を使用して基板（３１）をエッチングして基板（３１）に型枠（３４）を形成し、型枠（３４）および第１のパターン化されたマスキング層（３２）に第１の層（３３）を蒸着し、第１の層（３３）をパターン化することによりプローブチップ構造を形成した。例文帳に追加

A substrate 31 is etched by using a first patterned masking layer 32 to form a flask 34 in the substrate 31, a first layer 33 is deposited on the flask 34 and the first patterned masking layer 32, and the first layer 33 is patterned to form a probe tip structure. - 特許庁

流路などの微小セル構造を積層形成するための１０μｍ以下の大きさの複数のマイクロパターン部材を有するマイクロパターン複合材であって、各層の位置合わせを容易とし、確実に接着することを可能とするマイクロパターン形成用材料を提供する。例文帳に追加

To provide a micropattern forming material which facilitates alignment of each layer and achieves reliable adhesion, with respect to a micropattern complex material having a plurality of micropattern members of ≤10 μm size for forming minute cell structures such as flow passages in a layer stack. - 特許庁

絵素のパターンが格子状の形成される表示領域１２ａの外周の辺の外側の直近に、格子状に形成される絵素のパターンと同じ構造を有するダミーパターン１１ａをアライメントマークとして形成する。例文帳に追加

In the proximity of the outside of an outer periphery edge of a display region 12a having a pixel pattern formed in a grid shape, a dummy pattern 11a having the same structure as that of the pixel pattern formed in the grid shape is formed as alignment marks. - 特許庁

トリプレート構造のバンドパスフィルタにおいて、従来は内層の低インピーダンスパターンと同一面に形成されていた高インピーダンスパターンに代えて、積層基板１１の厚み方向に延びる導電体パターン１５(1)b, １５(2)bを形成する。例文帳に追加

In a band pass filter of a tri-plate structure, conductor patterns 15(1)b, 15(2)b extended in a broadwise direction of a laminated board 11 are formed in place of a conventional high impedance pattern formed on the same plane as an inner layer low impedance pattern. - 特許庁

回路基板は、基板と、基板に配置された極性分子層パターンおよび非極性分子層パターンと、基板に配置された第１の電極および第２の電極と、極性分子層パターンに配置され、線状ナノ構造物を含む１つ以上のチャネルとを含む。例文帳に追加

The circuit board includes: a substrate; a polar molecular layer pattern and a nonpolar molecular layer pattern, each being arranged on the substrate; a first electrode and a second electrode, each being arranged on the substrate; and at least one channel arranged on the polar molecular layer pattern, for including linear nanostructures. - 特許庁

モールド樹脂の漏洩やソルダーレジスト面のクラック発生は、銅層のエッチングにより形成されたパターンのパターン間隔に関係することがわかり、隙間を６０μｍ以下の回路パターン構造にすることで均一性の高いソルダーレジスト面を形成できる。例文帳に追加

Generation of leakage of mold resin and cracks on the surface of solder resist relates to the interval of the pattern formed by etching on a copper layer, and the solder resist surface having high uniformity can be formed by forming the circuit pattern structure in which a gap formed in 60 μm or smaller. - 特許庁

本発明の実施形態による自己整列電界効果トランジスタ構造体は、基板上に配置された活性領域と、活性領域上に配置された凹凸型のゲート絶縁パターンと、ゲート絶縁パターンによって自己整列されてゲート絶縁パターンの内部空間に配置されたゲート電極と、を含む。例文帳に追加

The self-aligned field-effect transistor structure includes: an active region arranged on a substrate; an uneven gate insulating pattern arranged on the active region; and a gate electrode self aligned by the gate insulating pattern and arranged on the inner space of the gate insulating pattern. - 特許庁

構造体の断面パターンに対応する複数の断面形状部材１１−１〜１１−３が、枠状部材１２に連結部材１３で一体に連結されたパターン部材１を、板状の金属部材をパターンニング加工して形成する。例文帳に追加

A pattern member 1 in which a plurality of cross-sectional shape members 11-1 to 11-3 corresponding to a cross-sectional pattern of the structure are integrally connected to a frame shaped member 12 by a connecting member 13 is formed by patterning a planar metal member. - 特許庁

凹凸を有する基材（１０、１２）と、該基材の凹部上にアミノ基又はチオール基を有する有機化合物からなる極薄膜パターン（１８）と、該極薄膜パターンに基づいた層パターン（２０）を有することを特徴とする微細構造体。例文帳に追加

The fine structure has base materials (10, 12) with recess and projection, an extremely thin film pattern (18) consisting of organic compound with amino group or thiol group on a recessed part of the base material, and a layer pattern (20) based on the extremely thin film pattern. - 特許庁

単層構造の転送電極を備えた固体撮像装置の製造方法であって、電荷転送方向ｖに沿って犠牲層パターン６を形成し、犠牲層パターン６を露出させた状態で犠牲層パターン間に電極材料層７を埋め込み形成する。例文帳に追加

In the method of manufacturing a solid-state imaging apparatus provided with the transfer electrodes having single-layer structures, sacrificial layer patterns 6 are formed along the charge transferring direction v and electrode material layers 7 are formed by burying the layers 7 among the sacrificial layer patterns 6 in a state where the patterns 6 are exposed. - 特許庁

線画及び／又はドットパターンにおける画線幅や直径を連続的に変化させて人物の顔画像を表現した基本画像Ａに対して、前記線画及び／又はドットパターンのそれぞれの各画線内及び／又は各ドット内に一定形状の微小スリットパターン構造を施す。例文帳に追加

A fine slit pattern structure of a predetermined shape is executed in respective printing elements and/or dots of a line drawing and/or a dot pattern on a basic image A expressing the face image of a person by continuously changing the printing element width or the diameter of the line drawing and/or the dot pattern. - 特許庁

インプリント用金型について、微細パターンが複数の段部をから構成されるような場合や微細パターンが曲面や曲線で構成されるような３次元構造パターンであった場合にインプリント用金型を安価で大量に提供できる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a large number of imprinting molds inexpensively in case of the imprinting mold having a fine pattern such as that constituted of a plurality of stepped parts or a fine pattern of a three-dimensional structure pattern such as that constituted of curved surfaces and curved lines. - 特許庁

本発明のＤＴＭ用モールド構造体は、隣接状態で略平行に位置する複数のラインパターン形成用凹部と、隣接するラインパターン形成用凹部と交差して位置し、該複数のラインパターン形成用凹部を連通する連通凹部と、を表面に有することを特徴とする。例文帳に追加

The mold structure for the DTM includes, on the surface thereof, a plurality of line pattern forming concave portions which are positioned so as to be adjacent and substantially parallel to each other and a communicating concave portion which is positioned so as to intersect the adjacent line pattern forming concave portions and connects the plurality of line pattern forming concave portions. - 特許庁

高温工程に適した絶縁構造体であって、伝導性パターンが形成された基材と、上記伝導性パターン上に陽極酸化法にて形成されたＡｌ、Ｔｉ及びＭｇからなるグループのうち選択された１種の金属酸化物層パターンとを含む。例文帳に追加

This insulating structure suitable for the high-temperature process includes a base material where conductive patterns are formed, and one kind of metal-oxide layer patterns chosen from the groups of Al, Ti, and Mg that are formed on the foregoing conductive patterns by an anodic oxidation method. - 特許庁

第２ＨＣＤ−ＳｉＮ膜９からなる犠牲層パターンを覆う状態で窒化チタン膜（第３ＴｉＮ膜１３）を成膜し、これをパターニングすることによって犠牲層パターンを跨いでその下地面上に端部が支持された振動ビーム（構造体パターン）１３ａを形成する。例文帳に追加

Titanium nitride film (third TiN film 13) is formed in a covering state of the sacrificial layer pattern made of the second HCD-SiN film 9, and the film is patterned, thereby forming an oscillating beam (structure pattern) 13a of which end is supported on the substrate surface across the sacrificial layer pattern. - 特許庁

第１パターンにアラインされた第２開口パターンを形成するために、第１ステップで多層ハードマスクが使用された後、金属マスクが除去され、絶縁マスクが、第２のステップで絶縁層中に第１のパターン構造を形成するために使用される。例文帳に追加

The metal mask is removed for forming a second opening pattern aligned with a first pattern after the multilayer hard mask is used in a first step, and the insulation mask is used for forming a first pattern structure in an insulation layer in a second step. - 特許庁

本発明のバンプ付きテープキャリアは、絶縁フィルム７１の両面に導体パターン７２，７５が形成され、この導体パターン同士を接続するための構造と、この導体パターンの一方の片面に形成された半導体チップ接続用金属バンプ７９とを備えたことを特徴とする。例文帳に追加

The tape carrier with bump has conductor patterns 72 and 75 formed on both surfaces of an insulating film 71, has a structure for connecting the conductor patterns together, and is provided with a metal bump 79 for connecting a semiconductor chip formed on one surface of the conductor pattern. - 特許庁

灯室内に光源ユニットを収容してなる自動車用前照灯において、得られる配光パターンがシャープで鮮明なカットオフラインを有すると共に、すれ違い用配光パターンと走行用配光パターンの切り換えを容易に行うことができる構造を実現することにある。例文帳に追加

To provide a vehicular headlight accommodating a light source unit in a lamp chamber in which an obtainable light distribution patter has a sharp and clear cutoff line and moreover switching between low-beam and high-beam light distribution patterns can be carried out easily. - 特許庁

この一定高さの溝パターン１１を有する２層構造のマスク層をマスクとして下層１の露出した部分をエッチングして下層に溝パターン１２を形成し、ガラス原盤１３に均一な高さの溝パターン１２を精度良く形成する。例文帳に追加

A groove pattern 12 is formed on the lower layer by etching an exposed part of the lower layer 1 by using the mask layer having the fixed-height groove pattern 11 as a mask, so that the groove pattern 12 which has uniform height is precisely formed on a glass original disk 13. - 特許庁

発光ダイオード発光装置の平面構造は、透明可撓性キャリアテープ上に互いに電気的に絶縁する第一透明パターン、及び、第二透明パターンを設置し、複数の発光ダイオードと第一透明パターンが電気的に接続する。例文帳に追加

In the planar structure of the light-emitting diode lighting device, a first transparent pattern and a second transparent pattern electrically insulated from each other are provided on a transparent flexible carrier tape, and a plurality of light-emitting diodes and the first transparent pattern are electrically connected to each other. - 特許庁

流路などの微小セル構造を積層形成するための１０μｍ以下の大きさの複数のマイクロパターンを有するマイクロパターン複合材であって、各層の位置合わせを容易とし、かつ加熱の必要なく確実に接着すること可能とするマイクロパターン複合材を提供する。例文帳に追加

To provide a micropattern composite having a plurality of micropatterns having a size of 10 μm or less for forming by laminating, a micro-cell structure such as a flow path, which makes the alignment of each layer easy and makes it possible to be reliably adhered to another material without the necessity of heating. - 特許庁