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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 液面調節に関連した英語例文

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液面調節の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 143



例文

前記挿設孔32aの内周には、当該燃料ポンプ1への燃料吸入路の入り口側に連通している流量調節孔322が等間隔で数カ所に形成されている。例文帳に追加

Several liquid fuel volume adjusting holes 322 communicated with an inlet side of a liquid fuel intake passage to a fuel pump 1 are formed at equal intervals in an inner circumferential surface of the insertion hole 32a. - 特許庁

気泡の抜けが良いディップ方式を採用し、しかもめっき槽内のめっきの流れを調節して、めっき膜の膜厚の内均一性をより高めることができるめっき装置及びめっき方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a plating apparatus and a plating method for enhancing the in-plane uniformity of the film thickness of a plating film by employing a dip system with excellent bubble removal and adjusting the flow of plating solution in a plating tank. - 特許庁

透光性を調節可能とした従来の調光ガラスは、いずれも調光手段として晶を用いており、晶はガラス板の全に設けなければならないので非常に高価である。例文帳に追加

To solve such problems that a conventional dimming glass enabling light permeability adjustable is extremely expensive because any of them uses liquid crystal as a dimming means, and the liquid crystal has to be installed at the whole face of a glass plate. - 特許庁

一次処理槽2の高さh_1と、透過ライン14の出口高さh_2とを上昇又は下降させて水頭差Δhを増減することで、中空糸膜モジュール3における濾過圧力を調節する。例文帳に追加

In the water cleaning system the water head difference Δh is increased or decreased by raising or lowering the liquid level height h_1 of a primary treatment tank 2 and the outlet height h_2 of a permeated liquid line 14 to regulate filtering pressure in a hollow fiber membrane module 3. - 特許庁

例文

晶表示パネル3を収容する金属フレーム1の側壁1aに、晶表示パネル3の表示画センター3bを電子機器の所定の位置に合わせる距離調節用の突部7,8,9を一体に形成する。例文帳に追加

Distance controlling projecting parts 7, 8 and 9 for adjusting the center 3b of the display screen of a liquid crystal display panel 3 on a prescribed position of the electronic instrument are integrally formed on the side wall 1a of a metal frame 1 housing the liquid crystal display panel 3. - 特許庁


例文

片状に切断したナッツ類を成型した菓子にトッピングした後、濃度を調節した糖を噴射し、ナッツ類と菓子の表に糖をコーティング膜を形成する。例文帳に追加

The method includes the processes wherein formed confectionary is topped with nuts chopped in flaky fashion, followed by spraying the resulting confectionary with a concentration-adjusted syrup to form syrup coating film on the surfaces of the nuts and the confectionary. - 特許庁

気体吐出ノズル52から冷風または温風を基板Wの上へ吐出することにより、基板の上上のエッチングの温度を領域によって部分的に調節する。例文帳に追加

The temperature of the etching liquid on the upside of the substrate is partially adjusted depending on regions by discharging cold air or warm air to the upside of the substrate W from the gas discharge nozzle 52. - 特許庁

分離器に設けられた検知手段と前記検知手段が前記気分離器の冷媒量が所定量にないことを検知した時、前記冷媒量が所定量になるまで前記第一流量調節弁の開度制御する制御手段とを備えた。例文帳に追加

This unit is equipped with a liquid level detecting means provided in a gas-liquid separator, and a control means for controlling an opening of the first flow regulating valve until the refrigerant amount reaches a prescribed amount, when the liquid level detecting means detects that the refrigerant amount of the gas-liquid separator is smaller than the prescribed amount. - 特許庁

分離器に設けられた検知手段と前記検知手段が前記気分離器の冷媒量が所定量にないことを検知した時、前記冷媒量が所定量になるまで前記第一流量調節弁の開度制御する制御手段とを備えた。例文帳に追加

This device is equipped with a liquid level detecting means provided on a gas/liquid separator, and a control means for controlling an opening of a first flow rate adjusting valve until a refrigerant amount becomes a predetermined amount when the liquid level detecting means detects that the refrigerant amount of the gas/liquid separator is lower than the predetermined amount. - 特許庁

例文

分離器に設けられた検知手段と前記検知手段が前記気分離器の冷媒量が所定量にないことを検知した時、前記冷媒量が所定量になるまで前記第一流量調節弁の開度制御する制御手段とを備えた。例文帳に追加

The refrigerating device comprises a liquid level detecting means disposed in the gas-liquid separator and a control means for controlling the opening of a first flow rate control valve until the refrigerant amount of the gas-liquid separator becomes a predetermined amount when the liquid level detecting means detects that the refrigerant amount is not the predetermined amount. - 特許庁

例文

分離器に設けられた検知手段と前記検知手段が前記気分離器の冷媒量が所定量にないことを検知した時、前記冷媒量が所定量になるまで前記第一流量調節弁の開度制御する制御手段とを備えた。例文帳に追加

The refrigerating device comprises a liquid level detecting means provided at a gas-liquid separator, and a control means for controlling the opening of a first flow control valve until the refrigerant quantity becomes a predetermined quantity when the liquid level detecting means detects that the refrigerant quantity of the gas-liquid separator is not the predetermined quantity. - 特許庁

に検査のための晶表示パネルが搭載されるワークテーブル、ワークテーブルの底に配置されるバックライトユニット、ワークテーブルに設けられる第1光学板と第1光学板の上部に置かれる第2光学板及び第1光学板の高低を調節するための高低調節部材を含む。例文帳に追加

The inspection stage includes a worktable where the liquid crystal display panel to be inspected is mounted on its top surface, a backlight unit arranged on the bottom surface of the worktable, a first optical plate provided to the worktable, a second optical plate placed on the first optical plate, and a height adjusting member which adjusts the height of the optical plate. - 特許庁

車体2が左右に傾斜しても、中央ブーム11aを地表基準で水平な姿勢にローリング調節し、更に、左・右ブーム11b,11cの左右傾斜を地表に沿うように回動調節することにより、左・右ブーム11b,11cを作物に対して同じ高さに設定できて、左右の作物に均等な薬散布をすることができる。例文帳に追加

Thereby, the left and right booms 11b and 11c can be set at the same height from crops and uniform chemical spraying on the left and right crops can be carried out. - 特許庁

真空チャンバに真空を適用してその適用された真空を調節した後、血及び/又は血管の濃度は、皮膚標的の皮膚表から所定の深さ以内で増大する。例文帳に追加

After vacuum is applied to the vacuum chamber and the vacuum is adjusted, concentration of blood and/or blood vessel increases within prescribed depth from the skin surface of the skin target. - 特許庁

再生水酸化マグネシウム回収槽5のレベルを、消石灰又は生石灰の供給流量を調節することにより、設定値に保持するよう構成する。例文帳に追加

The liquid level of a regenerated magnesium hydroxide recovering vessel 5 is maintained at a set value by adjusting the supply flow rate of slaked lime or quick lime. - 特許庁

二つの反射領域間の積比、及び反射領域の一方での晶キャパシタと補助キャパシタとの間の分圧比を調節することで、透過モードと反射モードとの間ではガンマ曲線が一致する。例文帳に追加

The gamma curves of the transmissive mode and reflective mode meet together by controlling the area ratio of the two reflective areas and the voltage division ratio of the liquid crystal capacitor and auxiliary capacitors in the one reflective area. - 特許庁

板ばねによって加えられる圧力を調整することにより、無端移動上の体トナー層及び密度を所望の水準に調節することができる絞り装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wringing device capable of adjusting a liquid toner layer and density on an endless moving surface to desired levels by adjusting pressure applied by a leaf spring. - 特許庁

重合法もしくは溶重合法によるポリカーボネート樹脂の製造において、攪拌しながら分子量調節剤を溶融状態で直接添加するポリカーボネート樹脂の製造方法。例文帳に追加

In the production method of the polycarbonate resin comprising an interfacial polymerization method or a solution polymerization method, the method comprises directly adding a molecular weight modifier in a melting state with agitating to a reaction system. - 特許庁

数値制御工作機械が有する数値情報と制御機能を用い、工具チャック12の上下移動に合わせて切削3の高さを自動調節する。例文帳に追加

The height of a cutting liquid level 3 is automatically adjusted to the vertical movement of a tool chuck 12 by using numeral information and the control function of a numerically controlled machine tool. - 特許庁

晶フィルタを用いて照射光の光量を調節する場合であっても、光量分布が均一な照射光を被露光媒体の主上に与えることができる、光源装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light source device which provides irradiation light with even light intensity distribution onto a main surface of an exposed medium even when light intensity of the irradiation light is adjusted using a liquid crystal filter. - 特許庁

リコータを作動させた後の高さの調節に要する時間を短縮し、迅速に効率よく光造形処理を実行させ得る光造形装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an optical shaping apparatus for shortening the time required for regulating the height of a liquid surface after the operation of a recoater to perform optical shaping processing rapidly and efficiently. - 特許庁

比較的簡単な構成で、めっき槽内のめっきの流れをより均一に調節して、めっき膜の膜厚の内均一性をより高め、めっき膜の埋込み等をより短時間で確実に行うことができるようにする。例文帳に追加

To provide a plating apparatus which has a relatively simple structure, enhances the in-plane uniformity of the film thickness of a plated film by more uniformly adjusting the flow of a plating solution in a plating tank, and surely embeds the plated film for a shorter period of time. - 特許庁

気泡の抜けが良いディップ方式を採用し、しかもめっき槽内のめっきの流れを調節して、めっき膜の膜厚の内均一性をより高めることができるようにする。例文帳に追加

To provide a plating apparatus and a plating method for enhancing the in-plane uniformity of the film thickness of a plating film by employing a dip system with excellent bubble removal and adjusting the flow of plating solution in a plating tank. - 特許庁

クォードタイプに形成されるセルのうち、ECBサブピクセルに示される干渉イメージの輝度を、画の明るさに応じて自動調節可能な晶表示装置を得る。例文帳に追加

To obtain a liquid crystal display capable of automatically adjusting brightness of an interference image displayed at ECB sub-pixels of quad type cells in accordance with brightness of a background screen. - 特許庁

光学補償素子32,34は、いずれも、晶表示素子33に入射する光の光軸10に直交する内における位置調節が可能となっている。例文帳に追加

The centering control of each optical compensation element 32 and 34 can be performed in a surface orthogonal to the optical axis 10 of a light beam made incident on the liquid crystal display element 33. - 特許庁

の上下変化と発生音の変化を演奏部材・シンギングボール相互間自動調節することにより、連続した自動演奏を可能とした。例文帳に追加

The vertical variation in liquid level and the variation of the generated sound are used for mutual automatic adjustment between a playing member and the singing bowl to enable a continuous automatic musical performance. - 特許庁

コンタミネーションの心配なく体試料の温度を測定して温度調節に利用することが可能な表弾性波素子、攪拌装置及び分析装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a surface acoustic wave element capable of being utilized in the regulation of a temperature by measuring the temperature of a liquid sample without apprehending contamination, and to provide a stirring device and an analyzer. - 特許庁

接着剤を溶状態で直接ウェハー上にコーティングして利用するため、平坦ではないウェハー表で発生しやすいシャドー効果を効果的に抑えることができ、またコーティングの厚さ調節が容易である。例文帳に追加

Since an adhesive is directly coated on the wafer in a solution state and is used, shadow effects being apt to occur on a wafer surface being not flat can be prevented, and the thickness of coating is easy to control. - 特許庁

減圧時の負圧の大きさを調節することによって、19の形状をインク保持体5のインク供給孔6近傍と仕切り壁4の連通路14と離間する部位部分とにわたるようにすることができる。例文帳に追加

By controlling the magnitude of the negative pressure in the depressurizing, a shape of a liquid level 19 is made to be allowed to permeate the portion in the vicinity of the ink supply hole 6 of the ink holding body 5 and a portion away from a communication channel 14 of a partition wall 4. - 特許庁

晶ディスプレイ(表示部)3の背に、回動部23aを介して一端が接続され、他端が該回動部を支点として回動可能なスタンド兼連結部(角度調節部)23を備える。例文帳に追加

A liquid crystal display (display part) 3 is equipped a stand and connection part (angle adjustment part) 23, which has one end connected through a rotation part 23a and the other end rotated on the rotation part as a fulcrum, on its back. - 特許庁

このX値に基づきプログラム調節器17を用いて結合10の供給量を自動的に変化させ、粒子表を所定の湿潤状態にプログラム制御する。例文帳に追加

The supply amt. of the bonding soln. 10 is automatically changed on the basis of the X-value by using a program regulator 17 and the surfaces of particles are set to a predetermined wet state by program control. - 特許庁

状ゴムや樹脂の経時安定性に影響を及ぼす比表積、シラノール基量の調節されたシリカ超微粉を容易に製造する。例文帳に追加

To easily produce a silica ultrafine powder which is used as an additive for a liquid rubber or resin and has controlled properties affecting stability with time of such a liquid rubber or resin, namely, a controlled specific surface area and a controlled silanol group content. - 特許庁

成膜時、基板13の下の随所に対して、温度調節された冷却用ガス又は冷却のジェットを高速で衝突させて、基板を効率的に冷却する。例文帳に追加

When the diamond film is formed on the substrate 13, a jet of temperature-controlled cooling gas or cooling liquid is made to hit at a high speed against several spots on the underside of the substrate 13 to efficiently cool down the substrate. - 特許庁

第2の現像供給管101の外周には第2の温度調節管102が配置され,本体80の上に対して斜めに接続されている。例文帳に追加

The second temperature control pipe 102 is disposed at the outer peripheral of the second developing solution feeding pipe 101 and it is connected aslant to the upper face of the body 80. - 特許庁

R、G、Bバックライトの点灯速度を調節することができるプロセッサーを構成して、画を分割して、分割領域別に光源を点灯することによって晶の遅い応答速度を補償して高速駆動を実現できる。例文帳に追加

To realize high-speed driving by constructing a processor, capable of adjusting the lighting speed of an R, G, B backlight, dividing the screen and compensating slow response speed of a liquid crystal by lighting light sources, with respect to each divided region. - 特許庁

また、泡レベル計(14A〜14C)とレベル調節計10によって、マイクロナノバブル発生助剤定量ポンプ24を制御して、からの泡のレベルに応じて、マイクロナノバブル発生助剤の供給量を制御する。例文帳に追加

Then, a bubble level meter(14A-14C) and a level controller 10 control a micro-nanobubble generating assistant metering pump 24 to control a feeding amount of a micro-nanobubble generating assistant according to the level of bubbles from a liquid surface. - 特許庁

基板上の現像の温度傾斜を調節することによって、現像処理の内均一性を向上させることができる基板現像装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wafer developing device capable of improving the in-surface evenness of development processing by adjusting the temperature gradient of a developer on a wafer. - 特許庁

弁体63は、動作流体67が凝固するときの体積変化に応じて移動し、移動することによって戻り管50内の流路断積を阻止するまで調節する。例文帳に追加

The valve body 63 moves in accordance with the volume change caused when a working fluid 67 is solidified, thereby adjusting the flow path cross section area of the fluid return pipe 50 so as to block the flow. - 特許庁

酵素溶、界活性剤溶等の生体試料から生体分子を遊離させるための処理を含む試料溶を一定時間一定温度に保持する温度調節器と生体試料を自動的に移動する機構を有する自動化生体試料処理装置を実現する。例文帳に追加

To provide an automated organism specimen-treating apparatus having a temperature-adjusting device for maintaining a specimen solution containing a treating liquid for isolating an organism molecule from the organism specimen such as an enzyme solution and a surfactant solution at a constant temperature for a set period, and a mechanism for automatically transferring the organism specimen. - 特許庁

本発明の第1の塗布方法は、ウェブの表に塗を塗布する方法であって、バックアップロールに支持させたウェブを連続走行させて塗を引き伸ばし、ウェブの進行速度により塗の塗布膜厚みを調節して塗を塗布することを特徴とする。例文帳に追加

A first coating method for coating the surface of the web with the coating solution is characterized in that the web supported on a backup roll is allowed to continuously run to spread the coating solution on the web and the coating solution is applied to the surface of the web while regulating the coating film thickness of the coating solution by the advance speed of the web. - 特許庁

体燃料を使用して、焼結時の最高到達温度及び高温保持時間を調節する際に、散布する体燃料の使用効率を向上させ、ケーキ表に残留する体燃料の量を低減することが可能な焼結機および焼結鉱の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a sintering machine which can enhance usage efficiency of a scattered liquid fuel and reduce the amount of the liquid fuel remaining on the surface of a cake when adjusting the maximum reaching temperature and high temperature holding time during sintering by using the liquid fuel, and to provide a method for producing sintered ore. - 特許庁

そして、サブタンク2内に配設されたオーバーフロー管6によってサブタンク2内に貯留された洗浄Rの高さが調節されて、洗浄Rが被洗浄物の移動方向の下流側から上流側(CからD方向)に向かって移送される。例文帳に追加

Then, the liquid surface levels of the washing liquid R stored in the subtanks 2 are adjusted by overflow pipes 6 arranged in the subtanks 2, and the washing liquid R is conveyed from the downstream side toward the upstream side (from C toward D) in the moving direction of the washing-object materials. - 特許庁

砥粒23を埋設した研削手段21と、研削位置に冷却を供給する冷却供給手段26とを用いてガラス基板10の端12、13を研削する方法であって、前記冷却25の温度を28℃以下に調節する。例文帳に追加

In this method, a grinding means 21 where abrasive grains 23 are buried and a coolant supply means 26 for supplying a coolant to a grinding position are used to grind the end faces 12, 13 of the glass substrate 20, and the temperature of the coolant 25 is controlled to 28°C or less. - 特許庁

金属材料を化成中で陽極酸化して該金属材料の表に酸化物皮膜を形成する方法において、該化成の組成を検知し、該検知した組成に応じて化成組成を調節する酸化物皮膜形成方法。例文帳に追加

In a method for forming the oxide film on the surface of the metallic material by anodizing the metallic material in the anodizing liquid, the method for forming the oxide film includes detecting the composition of the anodizing liquid, and adjusting the composition of the anodizing liquid according to the detected composition. - 特許庁

塗布ノズルを用いて基板に対する塗布の供給を行い、該基板表に所定の膜を形成するにあたり、前記塗布ノズルにおけるメンテナンス性の向上と塗布の温度調節精度の向上とを両立できる技術を提供すること。例文帳に追加

To provide a technology capable of improving maintenance characteristic in a coating nozzle and improving temperature adjusting accuracy for a coating liquid when the coating liquid is supplied to a substrate by using the coating nozzle and a prescribed liquid membrane is formed on the surface of the substrate. - 特許庁

高周波発振器を駆動することにより振動子31から発振される超音波の波長の1/5以下の範囲に、ホーン32の先端と、研磨L中でホーン32の先端に対されるバレル20の内部に配置したワークWとの間の距離が調節される。例文帳に追加

The distance between the leading end face of the horn 32 and the workpiece W facing the leading end face of the horn 32 in the polishing liquid L inside the barrel 20 is adjusted to within 1/5 wavelength of an ultrasonic wave oscillated by the transducer 31 by driving the high-frequency oscillator. - 特許庁

本発明はまた、金属の表化工工程に用いたリン成分含有廃中の、窒素、リン、およびカリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の濃度を調節する工程を含む、状肥料の製造方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing the liquid fertilizer includes a process for adjusting the concentration of at least one element selected from the group consisting of nitrogen, phosphorus, and potassium in the phosphorus component-containing waste liquid used for the surface chemically-modifying process of the metal. - 特許庁

前記調節体36には、周溝363が形成されており、周溝の底部には、当該燃料ポンプ1への燃料吸入路の出口側に連通する連通孔361が周溝の底部の周に沿って等間隔で数カ所に形成されている。例文帳に追加

A circumferential groove 363 is formed in the adjusting body 36, and several liquid communication holes 361 communicated with an outlet side of the liquid fuel suction passage to the fuel pump 1 are formed at equal intervals along the circumferential surface of a bottom part of the circumferential groove. - 特許庁

なおこの容器保持部材8はユニット壁の任意の場所に取り付け可能であり、そのことにより容器保持部材の取り付け高さを変更することができるため、洗浄入り容器の高さを変え、水頭差を変更することで、洗浄の流量を変更・調節することができる。例文帳に追加

Since the container holding member 8 can be mounted on an optional place on the unit wall surface, and thereby the mounting height of the container holding member can be changed, a flow rate of the cleaning fluid can be change and adjusted by changing the height of the container containing the cleaning fluid and by changing the water head difference. - 特許庁

例文

マスカラを貯留できる容器本体の先端にブラシ体軸を一体的に設け、該ブラシ体軸の表にブラシ体を取り付け、このブラシ体軸に中味吐出孔を穿設し、前記容器本体をマスカラの量を調節しながら送り出すことができる構成としたことを特徴とする。例文帳に追加

This mascara container is constituted by integrally providing the front end of the container body capable of storing the mascara liquid with a brush shaft body, mounting a brush body to the surface of the brush shaft body and piercing the brush shaft body with a content discharge hole in such a manner that the container body is delivered while the amount of the mascara liquid is adjusted. - 特許庁

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