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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 温度分布制御に関連した英語例文

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温度分布制御の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 312



例文

温度検出器によって検出されるローラの周壁温度に応じて、ローラの周壁温度が所定の分布状態になるように、電圧調整器を制御する。例文帳に追加

The voltage regulator is controlled so that the surrounding wall temperature of the roller may become to a predetermined distribution state according to the detected surrounding wall temperature of the roller detected by each the temperature detector. - 特許庁

温度分布の悪化や、オイル戻りが悪くなるといった不具合を生じさせることなしに、蒸発器後空気温度を目標温度制御することができる空調装置の提供。例文帳に追加

To provide an air conditioner capable of controlling an air temperature after an evaporator to a target temperature without causing a fault such as the worsening of temperature distribution or the worsening of oil return. - 特許庁

これにより、吹出口内の温度分布が均一化されるうえ、吹出口間の温度差を制御し易くなり、全吹出しモードで良好な温度コントロール性能を得ることができる。例文帳に追加

The temperature distribution between the blow-out ports is uniformized, the temperature difference between the blow-out ports is easily controlled, and superior temperature control performance can be obtained in an overall blow-out mode. - 特許庁

その後は、その温度分布に基づき、ウェーハ面内の温度が一定になるように、例えば研磨液の供給量の制御、研磨定盤の内部流路を流れる冷却水の供給量の制御などを行う。例文帳に追加

Subsequently, polishing liquid supply and cooling water supply through the internal channel of a polishing plate are controlled based on the temperature distribution such that the temperature becomes constant in the wafer plane. - 特許庁

例文

特に、前記制御手段は、成膜時や成膜前後に、前記温度センサーで計測したサセプター表面の温度分布が均一となるように加熱手段を駆動制御することにした。例文帳に追加

Especially, the control means performs the driving control over the heating means during film formation and before and after the film formation, so that the temperature distribution on the susceptor surface measured by the temperature sensors becomes uniform. - 特許庁


例文

例えば前記温度分布制御部材を、コイルに対して任意の位置に移動することができるように構成し、処理条件に応じてその位置を調整することで容易に温度制御を行うことができる。例文帳に追加

For example, temperature control can be easily carried out by constructing the temperature distribution control member so as to be movable to any position with respect to the coil and adjusting the position according to a processing condition. - 特許庁

ウエハ面内の温度分布を高精度制御することができ、また制御できるウエハ温度の範囲を広くすることができるプラズマ処理装置および処理方法を供給する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method capable of highly accurately controlling temperature distribution in a wafer surface, and extending the range of wafer temperatures allowed to be controlled. - 特許庁

予混合燃料比率の変更による排ガス温度計測値の温度分布の変動の影響を排除して、計画値に従った出力制御ができるガスタービン燃焼器の制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for controlling gas turbine combustors, performing output control according to a planned value by eliminating the influence of variation in the temperature distribution of exhaust gas temperature measurements due to a change in a premixed fuel ratio. - 特許庁

制御部20は、温度調整素子17a,17bを個別に制御してVIPA板14に所定の温度分布を生じさせて波長分散補償器1の挿入損失を低減する。例文帳に追加

A control part 20 controls the temperature adjusting elements 17a and 17b separately to generate a predetermined temperature distribution for the VIPA plate 14, thereby reducing insertion loss of the wavelength dispersion compensating device 1. - 特許庁

例文

間接誘導加熱を行う場合において、被加熱物の高速温度制御を実現し、被加熱物が磁性体である場合でも任意の温度分布制御を実現することができる誘導加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide an induction heating device that achieves a fast temperature control on an object to be heated in an indirect induction heating, and also achieves an arbitrary temperature distribution control even when the object to be heated is a magnetic material. - 特許庁

例文

制御部5は、温度調節部4Aおよび4Bによりサウンドガイド3内の空間に温度勾配を調節することにより、サウンドガイド3内の空間の上下方向に沿った各位置での音速の分布制御する。例文帳に追加

A control section 5 uses temperature regulation sections 4A, 4B to regulate temperature gradient in a space within the sound guide 3, thereby controlling the distribution of sound velocities at each position along the upper/lower directions of the space inside the sound guide 3. - 特許庁

ウェーハ内の温度分布の均一性を確保することが可能で、しかも、制御の安定性に優れた半導体製造装置の温度制御機構を提供する。例文帳に追加

To provide a temp. controlling mechanism in a semiconductor producing device capable of securing the uniformity of the temp. distribution in a wafer and moreover excellent in the stability of the control. - 特許庁

温度特性を有する光フィルタを含む波長モニタ部の温度を安定化し、かつ、外部の環境温度による温度分布に基づく光フィルタの温度のずれを補正し、より高精度にレーザ光の発振波長を制御することができる光モジュールを提供する。例文帳に追加

To provide an optical module which can stabilize the temperature of a wavelength monitor including an optical filter having temperature characteristics, correct deviation of the temperature of the optical filter according to a temperature distribution produced by the outside ambient temperature, and control an oscillation wavelength of a laser beam with the higher precision. - 特許庁

熱量算出手段として動作する制御部105は、各温度計測部102,103で計測される各温度温度目標値との各温度差より電池101内の温度分布が均一になっているか否かを判定し必要な熱量に対応する電力を、熱源104に供給する。例文帳に追加

A control part 105 acting as heat amount calculation means determines whether temperature distribution in the battery 101 is uniform from respective temperature differences between the temperatures measured by the respective temperature measurement parts 103 and 104 and a target temperature value, and supplies power corresponding to a required heat amount to the heat source 104. - 特許庁

乗員の顔部およびこの顔部の周囲の温度分布を検出し、その温度信号に基づいて空調制御を行う車両用空調装置において、顔部背景部分の温度変動による顔部平均温度の変動を少なくし、安定な温度環境が得られるようにする。例文帳に追加

To reduce the change of an average temperature at a face part caused by the change of a temperature at a background part of the face part to obtain a stable temperature environment in an air conditioner capable of detecting the distribution of a temperature at the face part of an occupant and in the circumference of the face part for conditioning the air on the basis of its temperature signal. - 特許庁

制御装置30は、その温度分布のデータを赤外線サーモグラフィ20から取得して、反応槽12の処理能力を評価する。例文帳に追加

A control device 30 evaluated the treatment capacity of the reaction tank 12 by obtaining the data of the temperature distribution from the infrared thermography 20. - 特許庁

電磁放射を部位に照射している際、電磁放射の特定の波長を変更することによって温度分布制御することができる。例文帳に追加

The temperature distribution can be controlled by modifying the particular wavelength of the electromagnetic radiation when the electromagnetic radiation is irradiated to the section. - 特許庁

容器内の温度分布の不均一を解消して、所望の加湿量のガスを得ることが可能な加湿制御装置を提供する。例文帳に追加

To provide a humidification control device capable of obtaining a gas of desired humidification amount by eliminating the ununiformity of temperature distribution in a container. - 特許庁

誘導加熱により加熱対象物を加熱する加熱装置において、加熱対象物の温度分布制御すること。例文帳に追加

To control temperature distribution of a heating object in a heating apparatus for heating the heating object by means of induction heating. - 特許庁

熱間圧延工程の仕上圧延前に鋼材を加熱するに際し、鋼材の幅方向と移動方向の温度分布を同時に制御できるようにする。例文帳に追加

To simultaneously control the temperature distributions in the width direction of steel and the moving direction when heating the steel before the finish rolling in the hot rolling process. - 特許庁

エッチング処理中の半導体ウエハの温度分布を明確な状態で積極的に制御できるようにしたウエハ処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a wafer treatment apparatus that a temperature distribu tion of a semiconductor wafer in etching treatment can be actively controlled in a clear state. - 特許庁

円筒状金属コイルを効率よく、板幅方向の温度分布制御しながら短時間で加熱する。例文帳に追加

To efficiently heat a cylindrical metallic coil in a short time while controlling the temperature distribution in the direction of the plate width. - 特許庁

高速で温度分布を検出し、きめ細かく適切にマイクロ波の供給を制御できるマイクロ波加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a microwave heating device detecting a temperature distribution at a high speed and sensitively, and properly controlling supply of microwave. - 特許庁

液滴LHの乾燥過程において、液滴内の温度分布を利用して液滴内の対流を制御する。例文帳に追加

In a drying process of a liquid droplet LH, the convection in the liquid droplet is controlled using the temperature distribution in the liquid droplet. - 特許庁

複数のバーナを有するガラス溶融窯であって、各バーナの酸素噴出量を、窯内の温度分布を基に制御することを特徴とする。例文帳に追加

The glass melting furnace has a plurality of burners, and in the furnace, the ejecting amount of oxygen from each burner can be controlled according to the temperature distribution in the furnace. - 特許庁

また前記制御装置(22)は少なくとも一個の発熱体(22)の放射出力を加熱室(30)内の温度分布の必要性に従って調節する。例文帳に追加

The control device (22) is also designed to adjust the radiation output of at least one heat generator (22) if necessary for the temperature distribution inside the heat chamber (30). - 特許庁

サセプタに対して水平磁束を与える場合であってもグラファイト水平面の温度分布制御を可能とする誘導加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide an induction heating device enabling temperature distribution control of a horizontal plane of graphite, even if a horizontal magnetic flux is given a susceptor. - 特許庁

反射体制御原子炉の中性子遮へい体周囲を流れる冷却材の半径方向温度分布を均一化する。例文帳に追加

To equalize a radial temperature distribution of a coolant flowing around neutron shields in a reflector control reactor. - 特許庁

加熱ヒータ3の温度配分を変更せず熱伝導体2,定着ベルト1の発熱分布制御する。例文帳に追加

Consequently, the heatihg distribution of the thermal conductor 2 and the fixing belt 1 are controlled without changing the temperature allocation of a heating heater 3. - 特許庁

小型装置の難点であった熱損失を減じ、流動室内部の温度分布制御によって運転を安定させ半炭化をも容易にする。例文帳に追加

Thus heat loss which is a problem in a compact device can be reduced, an operation can be stabilized by controlling a temperature distribution inside of a fluidization chamber, and semi-carbonization can be easily achieved. - 特許庁

本発明は、恒温装置内の温度分布を均一に制御しつつ、省エネルギーを図ることができる恒温装置を提供する。例文帳に追加

To provide a thermostat capable of saving energy consumption, while uniformly controlling the internal temperature distribution of the thermostat. - 特許庁

テーパー鋼板の長手方向温度分布が均一となるように通板速度を制御して冷却する。例文帳に追加

To cool a tapered steel plate by controlling threading speed so that temperature distribution in the longitudinal direction of the steel plate is made uniform. - 特許庁

室内の温度分布を均一化して効率よく暖房を行う暖房機の燃焼量制御方法に関する。例文帳に追加

To provide a burning amount control method for a fan-forced heater, making uniform the temperature distribution in a room to efficiently perform heating. - 特許庁

他の代表的な実施の形態では、サンプルの温度分布制御する方法及びシステムを提供できる。例文帳に追加

In another exemplary embodiment, a method and system can be provided for controlling a temperature distribution in a sample. - 特許庁

回転アンテナの停止位置を制御することにより、被加熱物を所望の温度分布で加熱できる電子レンジを提供することである。例文帳に追加

To provide a microwave oven which can heat a cooking food with a requested temperature distribution by controlling a stop position of a rotating antenna. - 特許庁

載置台の温度分布を短時間にかつ高精度に制御することのできるプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing system in which the temperature distribution of a mounting table can be controlled in a short time with high accuracy. - 特許庁

ストリップを幅方向において均一な温度分布となるように加熱することが可能な連続加熱炉及びその制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a continuous heating furnace and a controlling method thereof with which a strip can be heated so as to become the uniform temperature distribution in the width direction. - 特許庁

熱処理炉内の雰囲気の置換性や制御性を損なうことなく、熱処理における基板の面内温度分布の均一性の向上を図る。例文帳に追加

To enhance uniformity in the in-plane temperature distribution of a substrate at the time of heat treatment without sacrifice of the substitutability or controllability of atmosphere in a heat treatment furnace. - 特許庁

磁場分布測定装置1は、測定器2と、恒温槽3と、アクチュエータ4と、温度センサ13と、制御部を備えている。例文帳に追加

An apparatus for measuring magnetic field distribution 1 includes a measuring instrument 2, a constant temperature tank 3, an actuator 4, a temperature sensor 13, and a controlling section. - 特許庁

モータ部と、前記モータ部を制御する制御回路部と、前記制御回路部の内部温度を検出するアナログ温度検出手段と、前記アナログ温度検出手段の検出温度値に基づいて内部温度分布を演算する演算装置を備え、前記演算装置により寿命部品の交換時期を算出する。例文帳に追加

The motor drive controller comprises a motor, a circuit for controlling the motor, an analog means for detecting the temperature in the control circuit, and an operating unit for operating an inner temperature distribution based on the detection temperature value of the analog temperature detecting means wherein the operating unit calculates the timing for replacing a lifetime component. - 特許庁

触媒の存在下、炭化水素と酸素含有ガスとを反応させる気相酸化反応システムの反応装置内の温度分布の変動に追従して、反応温度の安定制御を可能にする簡単で、オペレータの操作負担の少ない温度制御手段を提供する。例文帳に追加

To provide a temperature-controlling means being simple, without operation load for operators and enabling stable control of a reaction temperature, by following the change of a temperature distribution of a vapor phase oxidation reaction system in which hydrocarbons react with oxygen-containing gas in the presence of a catalyst. - 特許庁

グロープラグの加熱期間中に該グロープラグの温度を調整または制御するための方法であって、グロープラグにおける温度分布が非定常である間であっても該グロープラグの温度を調整ないしは制御することができる方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of adjusting or controlling a temperature of a glow plug during the heating period of the glow plug which can adjust or control the temperature of the glow plug even for the duration of the time when the temperature distribution of the glow plug is in a non-steady state. - 特許庁

従来のウェハのベーク炉では、単一の温度制御装置により温度制御を行っているため、ウェハ表面に温度分布を生じさせることができず、ウェハ表面にはその位置によりベーク時の現像液のアタックに強弱があり、ベークにより得られるウェハのフォトレジストの線幅にばらつきが生じてしまう。例文帳に追加

To provide a bake furnace which can manufacture a wafer which is equal in line width by dissolving the inequality of the line width at the surface of a wafer where a developer is applied. - 特許庁

装置100は、加熱ローラ1の温度分布検出のための複数の温度検出センサ5、6と、該センサによる温度検出結果に基づいて、ヒータ3、4のうち1又は2以上に発熱動作させるように制御を行う制御部Contを含んでいる。例文帳に追加

An apparatus 100 contains a control part Cont carrying out control so that heat generating operation is carried out by one or two of the heaters 3 and 4 on the basis of temperature detection result by a plurality of temperature detecting sensors 5 and 6 for detection of temperature distribution in a heating roller 1. - 特許庁

製品成形サイクル繰返し時の金型内部の温度分布が平衡状態となった際の支持部品側温度センサ28a〜28dの位置での金型温度に一致するように、各加熱器26a〜26eを加熱器制御機34で制御する。例文帳に追加

The respective heaters 26a-26e are controlled with a heater control unit 34 so as to match to the die temperature at the position of the supporting part side temperature sensors 28a-28d when the temperature distribution in the inner part of the die becomes the balancing state at the repeating time of the product forming cycle. - 特許庁

平板状部材に対する熱処理工程で使用される複数の電気ヒーターへの個別電力供給量を最適化し、目標温度と合致した、且つ全面が均一な温度即ち温度分布のムラがない状態になるように制御することが可能な制御装置を提供する。例文帳に追加

To provide a control device capable of optimizing an individual electric power supply amount to a plurality of electric heaters used in a heat treatment process against a tabular member, and of controlling to achieve a state that the whole face has a uniform temperature matching the target temperature, that is, that there is no unevenness in temperature distribution. - 特許庁

ウェハーが装着される吸着用電極部とウェハーの温度制御を行う温度制御機構部とを有する静電チャックを設けた半導体装置の製造装置に関し、ウェハー温度分布の均一化及び電力効率の向上を図る。例文帳に追加

To relate to a manufacturing apparatus of a semiconductor device, provided with an electrostatic chuck having an electrode part for adsorption, to which a wafer is attached and a temperature control mechanism part for performing temperature control of the wafer, to make the wafer temperature distribution uniform, and to improve the power efficiency. - 特許庁

そして、加熱もしくは冷却制御された空気を要求温度精度に応じて1つ又は直列に多段に配した温度変動吸収ユニットに通過させることで供給空気内の空間温度分布を斉一にし、高精度制御を可能とした。例文帳に追加

The air heating-or-cooling controlled is made to pass through one or plurality of stages of temperature fluctuation absorbing units arranged in series in accordance with required temperature accuracy, and thereby space temperature distribution in the supply air is made even, and accurate control can be performed. - 特許庁

制御部は、温度センサ13によって検出された測定対象物101の温度が予め設定した温度になると、アクチュエータ4を制御して磁気センサ11を移動させ、測定対象物101の周囲に生じる磁場の分布を測定させる。例文帳に追加

The controlling section controls the actuator 4 to move the magnetic sensor 11, and makes the distribution of the magnetic field generated around the object to be measured 101 to be measured, when the temperature of the object to be measured 101 detected by the temperature sensor 13 becomes the preset temperature. - 特許庁

例文

また,ヒータ制御装置160は,設定温度に基づく基準抵抗値を温度センサ250の検出温度に基づく補正値で補正し,補正された基準抵抗値に各ヒータの温度分布定数を乗算して目標抵抗値を求める。例文帳に追加

The heater control device 160 corrects a reference resistance based on a set-up temperature by means of a correction factor based on a temperature detected by a temperature sensor 250, and finds target resistance by multiplying the corrected reference resistance by the temperature distribution constants of the respective heaters. - 特許庁

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