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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 温度分布制御に関連した英語例文

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温度分布制御の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 312



例文

高安定水晶発振器の水晶振動子に近接して温度センサを配置して温度制御を行う場合、発振器の機種によって振動子の周囲の温度分布が異なり、確認試験によって温度センサの最適の装着箇所を決定する際に長時間を要する。例文帳に追加

To solve the problem wherein it takes a long time when determining the optimum mount position of a temperature sensor by a qualification test because temperature distribution around a crystal resonator differs depending on a model of a high stable crystal oscillator in the case of carrying out temperature control by arranging the temperature sensor close to the crystal resonator of the high stable crystal oscillator. - 特許庁

しかしながら従来技術の抵抗分布調整や分割制御だけでは、数年後の設計ルールを満足するだけの均一な温度分布が達成できないという課題があった。例文帳に追加

In a wafer heating device, an exothermic resistor is divided into a plurality of exothermic resistor blocks. - 特許庁

さらに、複数系統のヒータを独立に加熱制御することにより、載置される被処理物に所定の温度分布を与え、被処理物のプラズマ処理の分布を補正することができる。例文帳に追加

In addition, by heating and controlling a plurality of systems of heaters independently, specific temperature distribution is given to a placed object to be treated, and the distribution of the plasma treatment of the object to be treated can be corrected. - 特許庁

利用できるワーク内温度分布として、局所加熱位置の最適化、2点局所加熱、ならびに分布型局所加熱などがあり、制御方法としてはオープンループ型、負帰還型の2種類がある。例文帳に追加

There are optimization of local heating positions, two-point local heating, distributing type local heating and others as the usable temperature distribution in the works and there are two kinds of an open loop type and a negative returning type as control methods. - 特許庁

例文

基板処理条件に合わせて発熱量の分布制御することができ、また基板温度分布が最適になるように調整することができる基板加熱ヒータ、及びそれを備える真空処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate heating heater which can control distribution of heating value according to the treatment condition of the substrate and can adjust the distribution of the temperature of the substrate so as to become optimum, and a vacuum treatment device having the same. - 特許庁


例文

このようにすれば、大掛かりな加熱装置や温度制御装置を必要とせず、簡便に素材ビレットの軸方向に所要の温度分布をつけることができる。例文帳に追加

In such way, the necessary temperature distribution in the axial direction of the raw material billet can simply be applied without needing a large-scaled heating apparatus or a temperature controlling apparatus. - 特許庁

燃焼反応が進行する際の温度に基づいて空気量を制御することで、蒸発器10における温度分布状態を所望の状態に近づける。例文帳に追加

By controlling the air quantity based on the temperature when the combustion reaction progresses, the temperature distribution in the evaporator 10 is brought close to a desired state. - 特許庁

これにより、温度分布データから被加熱物の個数を検出しマイクロ波を偏向制御できるので、複数の被加熱物に対してそれぞれ所定の温度で加熱終了できるものである。例文帳に追加

Since detecting the numbers of the objects from the temperature information can control the deflection of the microwave by this, each of the objects can be finished heating to the predetermined temperature respectively. - 特許庁

これによれば、運転条件の変化によりエバポレータ9の温度分布に変化が生じても常に最も低い温度を検出してコンプレッサ1の作動・停止を制御するのでフロストを確実に防止することができる。例文帳に追加

As the operation/stop of a compressor is controlled by constantly detecting the lowest temperature, the frost can be surely prevented regardless of the variation of temperature distribution of the evaporator 9 by the change of operating conditions. - 特許庁

例文

島状半導体層に温度分布をもたせ、温度変化の緩やかな領域を設け核生成速度と核生成密度を制御して結晶粒の大粒形化を図る。例文帳に追加

An island-like semiconductor layer is provided with a temperature distribution as well as a region with moderate temperature change to control a nucleus generation speed and density, resulting in a large crystal grain. - 特許庁

例文

比較的小規模かつ簡易な構成でもって載置台の温度ないし温度分布を多種多様または高精度に制御し、さらには載置台の高速昇降温を可能とすること。例文帳に追加

To variously and highly accurately control temperatures or temperature distribution of a mounting stand with a relatively small-scale and simple constitution, and further, to raise or lower temperatures of the mounting stand at high speed. - 特許庁

ステージの面上の温度分布制御して基板の温度の均一化を図り、精度の良いプラズマ処理を行えるプラズマ処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing method which controls the distribution of a temperature on the face of a stage, uniforms the temperature of a substrate and performs a highly precise plasma processing. - 特許庁

本発明の課題は、コアの取り扱いを容易にし、コスト低減及びインダクタンスの調整の容易化を図り、加熱部材の温度分布を適正にして、また、適正な温度制御を行うことである。例文帳に追加

To facilitate the handling of a core, to reduce the cost, to facilitate adjustment of inductance, to make a temperature distribution of a heating member proper, and to perform proper temperature control. - 特許庁

種子結晶近傍の温度分布を局所的に制御して、最適な温度条件により、高品質結晶を歩留まりよく成長させる結晶製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a crystal producing apparatus to grow a high quality crystal with good yield at an optimum temperature condition by locally controlling the temperature distribution of the neighborhood of a seed crystal. - 特許庁

本発明の目的は、放射線平面検出器の温度分布の均一性を高めること、および温度制御機能の停止を回避できる放射線検査装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a radiation detector capable of enhancing the uniformity of temperature distribution of a radiation plane detector and avoiding the stop of temperature control function. - 特許庁

温度が高くなった電池セルの分布状態に合わせて、電池ケース内の冷媒の流れる方向を制御することで、温度が高くなった各電池セルを良好に冷却することができるバッテリ冷却装置を提供する。例文帳に追加

To provide a battery cooling device capable of satisfactorily cooling each battery cell reaching a high temperature by controlling the flowing direction of coolant in a battery case in accordance with the distribution state of the battery cell reaching the high temperature. - 特許庁

従来よりも温度センサの数を少なくし、かつ隣接する加熱ゾーン間における磁束の干渉を考慮した温度分布制御を行うことのできる半導体基板熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor substrate heat treatment device, reducing the number of temperature sensors than ever and allowing temperature distribution control considering the interference of a magnetic flux between adjacent heating zones. - 特許庁

反応器を構成する各材料が有する耐食に関する最適温度域に反応器内の温度分布が適合するよう制御するようにした水熱反応方法を提供する。例文帳に追加

To provide a hydrothermal reaction method constituted so as to control the temperature distribution in a reactor so as to fit the same to the optimum temperature region related to the corrosion of materials constituting the reactor. - 特許庁

型の回転運動により、型の温度制御の精度と温度分布の均一性とを高め、内面のなめらかな成形品を短時間で効率よく回転成形する。例文帳に追加

To improve accuracy of temp. control of a mold and uniformity of temp. distribution and to efficiently perform rotational molding of a molded article with a smooth inner face in a short time by rotational movement of a mold. - 特許庁

測定対象物の温度を可変制御し、予め設定された温度になった測定対象物の周囲に発生する磁場の分布を測定すること。例文帳に追加

To variably control the temperature of an object to be measured and to measure the distribution of a magnetic field generated around the object that is brought to the preset temperature. - 特許庁

ダストの発生を防止し、基体の温度分布を均一化するとともに温度制御を容易にし、基体を確実に接地する基体の保持機構を提供する。例文帳に追加

To provide a holding structure for a base body with which the generation of dust is prevented, the temperature distribution of the base body is uniformized, the control of the temperature is facilitated and the base body is surely ground. - 特許庁

200℃以上300℃以下の温度で、温度分布が10℃以内となるように制御した真空加熱により成膜された反射膜または反射防止膜を有し、大型(120mm以上)で、透明度が高いことを特徴とする。例文帳に追加

The oxide solid-state laser element includes a reflection film or an anti-reflection film formed by vacuum heating at a temperature of 200°C or over and 300°C or below wherein the deviation in the temperature distribution is controlled within 10°C, is configured upsized (120 mm or over), and has high transparency. - 特許庁

気相成長装置において、膜厚分布や格子結晶等、均一な高品質の結晶を成長させるための成長温度制御のために、各基板表面の温度状態を正確に把握する。例文帳に追加

To provide a vapor phase growth apparatus which can accurately keep track of a temperature state on the surface of each substrate to control a growth temperature for film thickness distribution or lattice crystal, and to grow a high quality of uniform crystal. - 特許庁

ヒータ立ち上がり時と高温時、どの場合でもヒータ長手方向に均一な温度分布が得られ、温度制御を正確に行うことが可能なセラミックヒータを実現する。例文帳に追加

To provide a ceramic heater capable of obtaining a uniform temperature distribution when the temperature of the heater rises or when it reaches a high temperature, whichever the case may be. - 特許庁

シャドウ形成リングの温度を適切に制御して基板温度分布を良好に保ち、良質の薄膜を堆積できる成膜処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a film forming treating device suitably controlling the temp. of a shadow forming ring to satisfactorily hold the substrate temp. distribution and capable of depositing a thin film of high quality. - 特許庁

自走式機器と連携して室内温度分布を検出して、空調を強化すべき箇所を特定して空調装置の温度制御の効果を向上させる空調システムを提供すること。例文帳に追加

To provide an air conditioning system capable of improving an effect in controlling a temperature of an air conditioning device by detecting a distribution of an indoor temperature in cooperation with a self-propelled device, and specifying an area in which air-conditioning should be enhanced. - 特許庁

レジスト昇華物等が溜まりにくく、被処理基板の温度分布が不安定になることを防止することができ、被処理基板の温度を高精度に制御することができる加熱処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat treatment apparatus in which a resist sublimate or the like is difficult to stay, that can prevent the temperature distribution of a treated substrate from becoming unstable, and that can control the temperature of the treated substrate with high accuracy. - 特許庁

これにより、コンパクト化を図りつつ、伝熱シート材6の吸熱・拡散特性を用いて流路内を気体・液体を流してセルの温度コントロールができ、全体の温度分布制御・平滑化することが可能となる。例文帳に追加

With this, downsizing can be aimed at, temperature control of cells is made available by circulating gas and liquid inside the channel using endothermal/thermal diffusion properties of the heat transfer sheet materials 6, and the entire temperature distribution can be controlled/smoothed. - 特許庁

ベーク装置1は、ベーク炉11内におけるパージガスの温度分布がウェハ10の径方向外側で高く径方向内側で低くなるようにパージガスの温度及び流路を制御する。例文帳に追加

The bake device 1 controls the temperature and channel of the purge gas in order to increase the temperature distribution of the purge gas in the bake furnace 11 outside the diameter direction of the wafer 10, and to decrease it inside the diameter direction of the wafer 10. - 特許庁

圧延材の板温度および板幅方向の温度分布と圧延材の板形状とを同時に制御可能にすることによって、磁気的特性および形状の品質を向上させる。例文帳に追加

To improve magnetic characteristics and shape quality by simultaneously controlling both of strip temperature and temperature distribution in a width direction of a rolling material and strip shape of the rolling material. - 特許庁

そして、定着部内が予測した熱分布になるように、加熱部の発熱を制御するための設定温度を加熱部毎に算出し、算出した設定温度を画像形成装置に送信する。例文帳に追加

Then, a set temperature for controlling the heat generation of a heating section so that the inside of the fixing section may have the estimated heat distribution is calculated for each heating section, and the calculated set temperatures are transmitted to the image forming apparatus. - 特許庁

制御装置30は、各温度センサ20a〜20fによって検出されるデリバリパイプ6内での気体燃料の温度分布に基づいて各気筒に対応した燃料噴射弁#1〜#6の燃料噴射量をそれぞれ個別に補正する。例文帳に追加

The control device 30 individually corrects the amount of fuel injection of the respective fuel injection valves #1 to #6 corresponding to respective cylinders based on a temperature distribution of the fuel gas inside the delivery pipe 6 detected by each of the temperature sensors 20a to 20f. - 特許庁

従来よりも容易にベルトまたは加熱ローラ等の加熱部材の回転軸方向における温度分布を略一定とすることができる温度制御技術を提供する。例文帳に追加

To provide a temperature control technique for making temperature distribution in a direction of a rotating shaft of a heating member such as a belt or a heating roller substantially constant and more easily than the conventional. - 特許庁

広いクリーンルーム内で、発塵、発熱の分布があったり、その分布が変動したりしても、清浄度、温度分布を均一に制御することが可能で、小型空調機による循環風量で足りるクリーンルームを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a clean room which uniformly controls the degree of cleanness and temperature distribution even when, in a wide clean room, distribution of dusting and heat generation occurs and the distribution is fluctuated, and in which an amount of circulation air by a small air-conditioner is enough. - 特許庁

ターンテーブルの回転駆動装置110によって駆動する回転式熱交換用ターンテーブルまたは回転式全熱交換用ターンテーブル200を制御することにより、交換流体の流量を制御したり、温度分布制御したり、湿度の分布制御したり、交換する気相または液相流体の成分を制御したりする。例文帳に追加

By controlling the turn table for rotary type heat exchange, or the turn table 200 for rotary type total heat exchange driven by the rotating driving device 110 of the turn table, the flow rate of exchange fluid is controlled, the temperature distribution is controlled, the humidity distribution is controlled, and the exchange gaseous or liquid state fluid composition is controlled. - 特許庁

白色LED照明モジュールで配光分布制御する際に主走査方向の発熱分布の不均一に起因する色味の不均一、点灯制御後の時間軸方向での温度変化に起因する明るさの変動の不均一の問題を解決する。例文帳に追加

To solve the problem of nonuniformity in color caused by the nonunifomity in the distribution of heat generation in the direction of main scanning and the nonuniformity in variation in brightness caused by temperature change in the direction of a time axis after lighting control when controlling light distribution in a white LED lighting module. - 特許庁

センス比の温度分布依存性を除去し、センスMOSFETによる電流検出の精度を向上できる電流制御用半導体素子、およびそれを用いた制御装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a semiconductor element for current control that can remove temperature distribution dependence of a sense ratio and enhance the precision of current detection based on sense MOSFET. - 特許庁

液晶ディスプレイを密閉した筐体内の温度分布制御することにより、筐体内における結露の発生を防止できる電子看板、及び、電子看板における冷却制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electronic signboard capable of preventing the occurrence of dew condensation in a casing by controlling a temperature distribution in the casing in which a liquid crystal display is sealed; and to provide a cooling control method for the same. - 特許庁

電源制御装置2によって加熱面4aの温度分布に応じて複数の各補助加熱素子5A−5Dへの電力供給量を制御する。例文帳に追加

The electric power supply quantity to the plurality of respective auxiliary heating elements 5A to 5D is controlled according to the temperature distribution on the heating surface 4a by the power source control device 2. - 特許庁

高い加熱効率を図ることができると共に、被加熱物の温度分布の均一化を図ることができる加熱処理制御装置および加熱処理制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment control unit and a heat treatment control method capable of attaining high heating efficiency and at the same time attaining the uniform temperature distribution of an object to be heated. - 特許庁

金属表面の直接改質サーメット化加工におけるセラミックス層の物性制御、加工温度の低下、加工時間の短縮と界面でのサーメット濃度分布制御例文帳に追加

To provide a processing method useful for controlling the physical properties of a ceramic layer, lowering the processing temperature, shortening the processing time and controlling the distribution of cermet concentration on an interface in the direct modification of a metal surface into the cermet. - 特許庁

(1)反応ガスの圧力、湿度、温度、流量、流路形状による圧損特性の少なくとも1つを調整して、セル面内の液滴または水蒸気としての水分量の分布制御する燃料電池の制御方法。例文帳に追加

(1) In the fuel cell control method, the distribution of the moisture content as water droplets or steam in the cell surface is controlled by regulating at least one of the pressure of a reactive gas, humidity, temperature, flow, or pressure loss property caused by a passage profile. - 特許庁

反射部材(CM)の反射面(CMa)に亘って所要の温度分布を形成するために反射部材の内部に設けられた伝熱体(31,32)と、伝熱体を制御するための制御部(33)とを備えている。例文帳に追加

The optical system is provided with heat transfer bodies 31, 32 disposed inside a reflective member for forming a required temperature distribution over a reflection surface CMa of the reflective member CM and a control part 33 for controlling the heat transfer bodies 31, 32. - 特許庁

制御装置114によってランプヒーター108を制御し、加熱ローラ104を軸方向の中央部よりも両端部の温度が高くなるような配熱分布とする。例文帳に追加

A lamp heater 108 is controller by a controller 114, and the heating roller 104 is made into heat dissipation distribution so that temperature becomes higher at both ends than at the center part in the axial direction. - 特許庁

この時、コントローラ82はノズルの温度分布を補正するためのデータを、画像を表す画像データの印字ライン間に加えて印字ノズル制御回路80へ出力することによってノズル58の発熱素子を制御する。例文帳に追加

The controller 82 controls the heating elements of the nozzles 58 by providing data for correcting temperature distribution of the nozzles between the print lines of image data representative of an image and outputting it to the print nozzle control circuit 80. - 特許庁

また、印字ノズル制御回路80は、記録ヘッド40の両端付近のノズル58に設けられた発熱素子の発熱を制御して、ノズルの温度分布を補正する。例文帳に追加

The print nozzle control circuit 80 corrects temperature distribution of the nozzles by controlling heating of heating elements provided for the nozzles 58 in the vicinity of the opposite ends of a recording head 40. - 特許庁

該検出温度27はコントロール装置28に入力され、コントロール装置28は該検出温度27と予め記憶された排ガスに含まれる水蒸気の露点とに基づいて、分布板10の表面温度が水の露点以下に維持されるようにポンプ25を制御する。例文帳に追加

A detected temperature 27 is input to a controller 28, which controls the pump 25 so as to keep the surface temperature of a distribution plate 10 at dew point of water or lower based on the detected temperature 27 and a previously stored dew point of steam contained in a waste gas. - 特許庁

昇華再析出法によるSiC単結晶の製造において、坩堝の自己発熱によらない加熱方法により、種結晶の温度、原料の温度、及び成長空間領域の温度分布を容易に制御できるSiC単結晶の製造装置および製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for producing a SiC single crystal by which the temperature of a seed crystal, the temperature of a raw material and the temperature distribution in a growth space area can be easily controlled by a heating method not depending on self-heating of a crucible, in the production of the SiC single crystal by a sublimation and redeposition method. - 特許庁

食品の収納等により冷蔵室の何れか一部分の温度が上昇すると、温度が上昇した部分に集中的に冷気を吐出させることで、冷蔵室全体の温度分布を短期間内に均一に維持し得る冷蔵庫の冷気供給制御装置を提供しようとする。例文帳に追加

To provide a cold air supply controller of a refrigerator capable of keeping temperature distribution of an entire refrigeration compartment uniform in a short time by intensively discharging cold air to part in which temperature is raised when temperature of part of the refrigeration compartment is raised due to housing of food or the like. - 特許庁

例文

加熱ローラについて、所要の加熱を高い効率で、かつその長さ方向に制御された温度分布で行うことができると共に、加熱ローラの温度制御を正確に行うことができる定着装置および画像形成装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a fixing device and an image forming device by which the necessary heating of a heating roller is performed with high efficiency in temperature distribution controlled in the longitudinal direction of the heating roller and the temperature control of the heating roller is accurately performed. - 特許庁

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