1016万例文収録!

「温度分布制御」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 温度分布制御に関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

温度分布制御の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 312



例文

加硫缶1内に供給する蒸気流れを、開閉弁32〜36の開閉を制御することによって任意にコントロールすることができ、加硫缶1内の温度分布を均一にすることができる。例文帳に追加

The flow of the steam to be supplied into the vulcanization can 1 can be controlled by controlling the opening/closing of the valves 32-36 so that temperature distribution in the vulcanization can 1 can be made uniform. - 特許庁

このとき、加熱される円筒状金属コイル1の一端面を冷却し、その他の外面を断熱することで板幅方向の温度分布制御しながら円筒状金属コイル1を昇温させる。例文帳に追加

One end face of the heated cylindrical metallic coil 1 is cooled while the other outer surface is heat-insulated to raise the temperature of the cylindrical metallic coil 1 while controlling the temperature distribution in the plate width direction. - 特許庁

半導体ウェーハ処理装置、より詳細には半導体基板支持台は基板支持、アイソレータ、及び第1及び第2熱伝達板を有し、半導体ウェーハの直径を横切って制御可能で一定の温度分布を供給する。例文帳に追加

A semiconductor wafer processing apparatus, more specially, a semiconductor substrate support pedestal has a substrate support, an isolator, and first and second heat transfer plates for providing a controllable, uniform temperature distribution across the diameter of a semiconductor wafer. - 特許庁

加硫缶1内に供給する蒸気流れを、開閉弁9,10,11,12の開閉を制御することによって任意にコントロールすることができ、加硫缶1内の温度分布を均一にすることができる。例文帳に追加

The flow of the steam to be supplied into the vulcanization can 1 can be controlled optionally by controlling the opening/closing of the valves 9, 10, 11, and 12 so that temperature distribution in the vulcanization can 1 can be made uniform. - 特許庁

例文

単結晶棒内の熱的ストレスを低減し、点欠陥濃度分布を均一に制御し、固液界面付近での引上げ方向の結晶温度勾配を径方向に均一で高くできる。例文帳に追加

To permit uniform and higher temperature gradient of a single crystal in the crystal pulling direction in the vicinity of the solid-liquid interface by reducing the thermal stress and controlling the distribution of point defects uniformly in the single crystal rod. - 特許庁


例文

処理ガス導入部の効率化を図り、プラズマ密度分布の均一性ないし制御性に優れた高密度・低電子温度のプラズマ生成を可能とすること。例文帳に追加

To provide a plasma treatment apparatus capable of improving efficiency of a treatment gas introducing portion and generating plasma having superior uniformity and controllability of plasma density distribution and high-density/low electron temperature. - 特許庁

冷却媒体流路での冷却媒体の流れを制御するだけで、電極面内の温度分布を均一に設定するとともに、構成の簡素化を図ることを可能にする。例文帳に追加

To enable to set a temperature distribution uniform inside an electrode face and aim at simplification of a structure, only by controlling flow of a cooling medium in a cooling medium flow channel. - 特許庁

誘導コイル冷却用ファンを複数設け、その回転数・回転方向を種々制御することにより、誘導コイルを直接冷却しつつローラの軸方向温度分布の片寄りを低減させる。例文帳に追加

To reduce the partiality of the axial temperature distribution of a roller while directly cooling an induction coil by providing fans for cooling the induction coils and variously controlling their number of rotations and rotating directions. - 特許庁

前記温度分布制御手段171が、前記電子源を有する基板71上の前記部材160が接触している領域を加熱する手段であることを特徴とする電子源。例文帳に追加

The temperature distribution control means 171 is a means for heating a region where the member 160 on the substrate 71 having the electron source is brought into contact. - 特許庁

例文

コイル3とは非接触に金属管2を配置し、コイル3に供給する交流電流の電流量を電源回路4で制御することで金属管2に付加する温度分布を調整する。例文帳に追加

A metal tube 2 is disposed without contacting a coil 3, and a current amount of an AC current supplied to the coil 3 is controlled by a power source circuit 4 to adjust a temperature distribution to be added to the metal tube 2. - 特許庁

例文

従来の乾式法に比べて、より低い温度での焼成を含む工程によって、制御された粒径を有し、しかも、その粒度分布が狭い球状粒子からなる蛍光体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a phosphor which comprises a spherical particle having a controlled particle size and a narrow particle-size distribution, by a process comprising calcining at a lower temperature than in the conventional dry process. - 特許庁

未定着トナー像を加熱加圧して記録媒体に定着させる定着装置において、定着ロールの軸線方向における外周面の温度分布制御する。例文帳に追加

To control a temperature distribution on the outer circumferential face in the axis direction of a fixing roll in a fixing device heating and pressurizing an unfixed toner image for fixing it on a storage medium. - 特許庁

空調冷凍サイクルの冷媒蒸発器において、冷媒流れの圧損低減、コア部を幅方向での温度分布の均一化を可能として、風量の左右独立制御空調に最適な冷媒蒸発器を提供すること。例文帳に追加

To provide a refrigerant evaporator optimum for right-left independent control air-conditioning of air flow as well as reducing pressure loss of refrigerant flow and achieving even distribution of temperature of a core part in a width direction. - 特許庁

制御装置に設けられた判別部が、赤外線カメラ16で撮像された歩行者及び周囲の温度分布を画像として捉えて認識する撮像データから、歩行者の頭部の高さ位置を検知して、歩行者を推定する。例文帳に追加

A determination part provided on the control device detects a height position of the head of the pedestrian from the photographing data for grasping and recognizing the pedestrian photographed by the infrared camera 16 and peripheral temperature distribution as an image to presume the pedestrian. - 特許庁

比較的簡単な構成でウエーハの面内での温度分布を均一性を高めることができるウエーハ加熱装置及びその制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a wafer heating apparatus in a simple structure and its method for improving uniformity in temperature distribution in the plane face of a wafer. - 特許庁

燃焼器内の熱音響的不安定性から発生する問題を低減する一助として、燃焼器内の温度分布など、燃焼器の条件を制御することのできるエンジン部品を提供すること。例文帳に追加

To provide an engine part capable of controlling conditions of a combustor such as temperature distribution in the combustor to help reduce problems generated from thermoacoustic instability in the combustor. - 特許庁

熱処理室内の温度分布の均一性と制御性とを向上させ、熱エネルギーを効率的に使用する糸条の横型熱処理炉及びその熱処理方法の提供。例文帳に追加

To provide a horizontal heat treatment furnace for thread and its heat treatment method in which the uniformity and controllability for temperature distribution in a heat treatment chamber are improved, and the thermal energy is efficiently used. - 特許庁

蓄熱式バーナーの蓄熱体の過熱を抑えるとともに炉内の温度分布の均一化を図ることができる蓄蓄熱式バーナーの制御方法、加熱炉及び均熱炉を提案する。例文帳に追加

To provide a control method for a regenerative burner, a heating furnace and a soaking furnace, which suppress overheating of a heat storage body of the regenerative burner and achieving homogenous temperature distribution in the furnace. - 特許庁

サセプタに対して水平磁束を与える場合であってもサセプタ水平面の温度分布制御を可能とし、かつバッチ処理による熱処理を可能とする半導体基板熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor substrate heat treating device allowing control of a temperature distribution on a susceptor horizontal plane even when giving a horizontal magnetic flux to the susceptor, and allowing heat treatment by batch processing. - 特許庁

サセプタに対して水平磁束を与える場合であっても積層配置されたサセプタの温度分布制御を可能とし、かつバッチ処理による熱処理を可能とする半導体基板熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor substrate heat treatment apparatus which can control a temperature distribution of a susceptor disposed by lamination even when a horizontal magnetic flux is provided to the susceptor, and can carry out heat treatment by batch processing. - 特許庁

ウォーターポンプの負荷を低減させ、かつ適切な温度分布を実現することでエンジンの性能を向上させることができるエンジンの冷却構造及び冷却制御方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an engine cooling structure and a cooling control method improving engine performance by reducing the load of a water pump and achieving an appropriate temperature distribution. - 特許庁

コークス炉炭化室内の炉長方向の正確な温度分布を測定することにより、炭化室内の状況を把握し、適切な制御および補修を可能とする、コークス炉の補修方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for repairing a coke oven capable of appropriately controlling and repairing by measuring an accurate temperature distribution in an oven length direction of a carbonization chamber of the coke oven to grasp the status of the carbonization chamber. - 特許庁

冷蔵庫設置場所の室内の上下温度分布等の外乱に対しても外気温状態を正確に把握して適切に冷却ファンを運転制御できる冷蔵庫を提供する。例文帳に追加

To provide a refrigerator capable of properly controlling an operation of a cooling fan by correctly grasping an outside air temperature condition, even to the disturbance such as indoor vertical temperature distribution and the like of a refrigerator installation place. - 特許庁

被加熱物の表面に金属膜等の導電性部材が形成されていた場合であっても、安定した温度分布制御を行うことができる誘導加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide an induction heating device capable of stable temperature distribution control, even if a conductive member such as a metal film is formed on the surface of a heated object. - 特許庁

薄い金属板であっても、磁性、非磁性を問わず加熱温度分布制御でき、また、板幅変更、蛇行に追従加熱できる誘導加熱装置および誘導加熱方法を提供する。例文帳に追加

To provide an induction heating apparatus and an induction heating method that can control a heating temperature distribution irrespective of a magnetic or non-magnetic property for even a thin metal plate, and perform heating while following change of plate width and meandering. - 特許庁

第一焼成温度をより厳重に制御することによって(若干粒径分布は幅広くなるが)エルトリエーション工程を省略することができる。例文帳に追加

A process for elutriating the powder may be omitted, by more strictly controlling a temperature of the first firing (while the particle size distribution is somewhat widen). - 特許庁

加熱ドラムとフィルムとの相対位置を制御しなくともまたユーザの使用条件によりサイクルタイムが変化してもフィルム搬送方向の温度分布を低減させることのできる熱現像装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heat developing device capable of reducing a temperature distribution in the direction of feeding a film without having to control relative positions of a heating drum and the film even when there occurs a change in a cycle time according to user's use conditions. - 特許庁

異なる同位体組成比を持つPuを用いて高速炉の炉心特性を低下させず、特に制御棒による出力分布のひずみを緩和して、長期サイクル運転・高燃焼度化や、冷却材炉心出口温度増大を図る。例文帳に追加

To achieve a long-term cycle operation, higher burnup and an increase of temperature of a coolant at a reactor core outlet, through not reducing the core properties of a fast reactor by using Pu having a different isotope composition ratio, and especially mitigating strain in output distribution by control rods. - 特許庁

制御回路17はマイクロコンピュータを含んで構成されており、これは温度分布検出手段18による検出結果に基づいて回転体6を所定の位置で停止させるようになっている。例文帳に追加

The control circuit 17 is built containing a microcomputer to stop the rotating body 6 at a specified position based on the results of the detection by the temperature distribution detecting means 18. - 特許庁

画像形成装置の定着部の起動時において、定着部の特定箇所への温度分布の偏りを低減しつつ、定着部の加熱制御の状態を変更できる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology for changing a heating control state of a fixing unit of an image forming device while decreasing biasing of temperature distribution to a specific position of the fixing unit when starting the fixing unit. - 特許庁

第1の絶縁層3は熱伝導層2への熱の流出速度を制御する機能を有し、基板1上の温度分布の差を利用して第1の絶縁層3上に単結晶半導体膜を形成する。例文帳に追加

The first insulating layer 3 has a function to control the flow rate of heat that is transferred to the thermal conductive layer 2, and a single-crystal semiconductor film 3 is formed on the first insulating layer 3 taking advantage of a temperature distribution difference on the substrate 1. - 特許庁

端子部の発熱を効果的に抑えると共に、簡単な方法にて温度分布制御することが可能となるため、センサー等の微小部分を効果的に加熱することができる。例文帳に追加

To provide a long life reliable thin plate far infrared ray heater that can heat effectively the fine portion such as a sensor and the like as it can suppress effectively heating at the terminal portion and control the temperature distribution by a simple method. - 特許庁

本発明によれば、熱可塑性樹脂シート11の平面的な温度分布を容易に、かつ、柔軟に制御することができるので、成形の精度を損なうことなく隔壁15の細幅化を実現できる。例文帳に追加

According to the present invention it is possible to achieve width-narrowing of the separation wall 15 without damaging the forming precision since flat temperature distribution of the thermoplastic resin sheet 11 can be easily flexibly controlled. - 特許庁

蓄熱式バーナをそなえた炉において、被熱物を加熱むらの少ない良好な温度分布状態に加熱できる炉温制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for controlling the temperature of furnace by which an object to be heated can be heated in a good temperature distributing state containing less heating unevenness in a furnace provided with a heat storage burner. - 特許庁

従来と比べて簡単な構成,制御,信号処理により、室内の温度分布及び人体の存在や挙動の検出を行う赤外線センサシステムを提供すること。例文帳に追加

To provide an infrared sensor system capable of detecting the indoor temperature distribution, and the existence and behavior of a human body, using constitution, control and signal processing that are simpler than those of the conventional types. - 特許庁

ウェハへの不純物の付着を抑制しつつ,ウェハ表面の温度分布を維持するように気流の制御を実施し得る現像処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a development device capable of controlling the flow of air, so as to prevent impurities from attaching to a wafer and keep the temperature distribution of the surface of the wafer. - 特許庁

試料を励磁することができ、かつ前記試料の物性を測定する磁気的測定装置において、前記試料の温度分布制御する装置を備える。例文帳に追加

The magnetic measurement device capable of exciting the sample and also measuring the physical properties of the sample is provided with a device for controlling the temperature distribution. - 特許庁

発熱体部分の構造(制御)が簡単でウォームアップ時間も短くて済み、効率的に加熱ローラの軸線方向における温度分布の均一化を図る。例文帳に追加

To provide a fixing device that can shorten a warming-up time, has a simple the structure (control) of a heat generating body and can efficiently uniformize temperature distribution in the axial direction of a heating roller. - 特許庁

マンドレルミル出側および/または同ミルスタンド間で管の表面温度分布を計測し、その結果に基づいて水冷条件を制御することが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the surface temperature distribution of the tube is measured on the outlet side of the mandrel mill and/or between the same mill stands and it is preferable to control the water-cooling condition on the basis of that result. - 特許庁

停止時あるいは低速運転時における被加熱物の温度分布制御を高精度に行い、従来よりも捨て材を減らすことができる誘導加熱方法を提供する。例文帳に追加

To provide an induction heating method capable of reducing waste material as compared with a conventional one by accurately controlling the temperature distribution of a heating object in stopping or in a low-speed operation. - 特許庁

また、制御手段は、第一発熱体と従属発熱体の被加熱材搬送方向と直交する長手方向の温度分布に応じて給送装置による被加熱材の給送タイミングを決定する。例文帳に追加

Further, the control means determines the timing of feeding of the heated material by the feeding device according to a temperature distribution along the lengths of the first heating body and subordinate heating body orthogonal to the heated material conveying direction. - 特許庁

このため、推定された定着ローラ1および加圧ローラ2の温度分布状態に応じて、非通紙領域の昇温を抑制する最適な制御を行うことができる。例文帳に追加

Thereby, optimal control can be implemented to suppress the temperature rise in the non-paper feed area according to the estimated temperature distribution of the fixing roller 1 and the pressure roller 2. - 特許庁

小サイズシート通過時に定着部材の端部の過昇温を防止して、定着部材の温度分布を均一に制御できるとともに、応答時間に起因する定着品質の問題を解消できる定着装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a fixing device capable of uniformly controlling temperature distribution of a fixing member by preventing excessive temperature rise at the end of the fixing member when a small-size sheet passes, and solving a problem about fixing quality resulting from response time. - 特許庁

本発明は、PTCヒータに通電したときの突入電流を減少させると共に、PTCヒータの温度分布が不均一となることを抑制するPTCヒータ制御装置を提供する。例文帳に追加

To provide a PTC heater controller which reduces the rush current when a PTC heater is conducted and prevents the temperature distribution of the PTC heater from becoming uneven. - 特許庁

小サイズシート通過時に定着部材の端部の過昇温を防止して、定着部材の温度分布を均一に制御できるとともに、応答時間に起因する定着品質の問題を解消できる定着装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a fixing device preventing excessive temperature rise of an end part of a fixing member when a small-size sheet passes through it, uniforming the distribution of temperature of the fixing member, and solving the problem of fixing quality caused by response time. - 特許庁

基体2の背面2bと側面2cとの少なくとも一方において、加熱面2aの温度分布制御するための材料除去部6A、6Bが設けられている。例文帳に追加

At least at either of the rear face 2b and the side faces 2c of the substrate 2, material removing parts 6A, 6B for controlling temperature distribution of the heating face 2a are installed. - 特許庁

また光コネクタ9−1に意図的に温度分布を付与しまたは非線形性・音響光学効果を付与してレーザ光を能動的または固定的に制御できる。例文帳に追加

The optical connector 9-1 can be deliberately given a temperature distribution or a nonlinear acousto-optic effect so as to actively or fixedly control a laser beam. - 特許庁

石炭性状の違いに起因するガス温度分布の変動を防止し、ボイラの制御調整期間の短縮化やボイラ設計の最適化が図れるボイラ装置を提供すること。例文帳に追加

To shorten a controlling/regulating period of a boiler and to optimize boiler designing by preventing a change in a gas temperature distribution caused by a difference of coal properties. - 特許庁

少なくとも、複数の電子放出素子74が形成された基板71と、該基板上に接触して設けられた部材160を有する電子源において、該部材160を介した熱伝導による前記基板71の温度分布を補償するための温度分布制御手段171を有することを特徴とする電子源。例文帳に追加

This electron source having a substrate 71 where at least plural electron emitting elements 74 are formed, and a member 160 installed in contact on the substrate 71, has such a characteristic as to have a temperature distribution control means 171 for compensating a temperature distribution of the substrate 71 by thermal conduction through the member 160. - 特許庁

例文

抵抗発熱体の熱的エネルギーを利用した接合方法では、抵抗発熱体の抵抗値あるいは単位時間当たりの抵抗発熱体への投入熱量を一定に制御することによって、抵抗発熱体の温度あるいはその分布を一定に制御する。例文帳に追加

To control the temperature and its distribution constant of a heater resistor by regularly controlling resistance value of the heater resistor and inputted amount of heat into the heater resistor per unit hour in a bonding method utilizing thermal energy of the heater resistor. - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS