「温度分布制御」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

熱間圧延を完了した厚鋼板を制御冷却するに当り、該制御冷却の初期の段階において前記厚鋼板の幅方向に亘る温度分布を均一化させる幅方向温度分布均一化冷却処理を行い、しかる後、厚鋼板の幅方向に亘って実質的に同一の冷却水量によって冷却する。例文帳に追加

When performing the controllable cooling of the thick steel plate completing hot rolling, a width-direction temperature distribution uniformizing cooling process for uniformizing the temperature distribution over the width direction of the thick steel plate uniform is performed in the early stage of the controllable cooling and, after that, cooling is performed with substantially the same quantity of cooling water over the width direction of the thick steel plate. - 特許庁

熱入力タイミング制御手段として動作する制御部１０５は、熱源１０４から電池１０１への熱入力の後、温度分布の判定結果に基づき、熱源１０４から電池１０１に次の熱入力を行うタイミングを制御する。例文帳に追加

The control part 105 acting as heat input timing control means controls the timing at which the next heat input to the battery 101 from the heat source 104 takes place based on determination results of the temperature distribution after the heat is inputted to the battery 101 from the heat source 104. - 特許庁

本発明はインクを安定的に吐出させるために行われるインクの加熱制御において、加熱制御の目標温度やそのときの記録ヘッドの温度に依存して記録ヘッドの温度分布が変わる現象によって、印字物へのムラや記録ヘッドへの損傷を解消することができるインクジェット記録装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inkjet recording device that eliminates unevenness on printed matter or damage on a recording head due to phenomenon in which temperature distribution of the recording head varies depending on a target temperature of heating control or the temperature of the recording head at that time, in ink heating control that is performed to stably discharge ink. - 特許庁

成長速度が大きく、高周波コイルだけに頼らないで四角形状の温度分布が容易に制御でき、結晶欠陥の形成が抑制され、抵抗率の面内分布が均一化された四角形の断面を有する単結晶シリコンの育成方法、及び四角形のシリコンウェ−ハを提供する。例文帳に追加

To provide a method for growing single crystal silicon having a square cross section which has a high growth rate, capable of easily controlling temperature distribution having a square shape without depending only on high-frequency coil, which suppresses the formation of crystal defects, and which uniforms in-plane distribution in resistivity, and to provide a silicon wafer having a square section. - 特許庁

また圧縮着火燃焼時には吸排気気バルブ６、８のタイミングをマイナスオーバーラップ状態となるように開閉時期可変手段１６、１７を制御し、筒内排気側に内部ＥＧＲガスが分布し、筒内排気側が吸気側に対して高温となる温度分布とする。例文帳に追加

Accordingly, compressed ignition is caused on the exhaust side and the exhaust valve 8 is closed in the process of an exhaust stroke. - 特許庁

本発明は、画像形成装置内部で発生する温度や相対湿度の環境分布を汎用的、かつ簡便に計測を行い、その環境特性分布を測定した結果から個別の部位にフィードバック制御を行うことで安定した画像品質が得られる。例文帳に追加

To obtain stable image quality by universally and easily measuring the environmental characteristic distribution of temperature and relative humidity generated inside an image forming apparatus and feedback-controlling individual parts based on the result of the measurement of the environmental characteristic distribution. - 特許庁

成膜条件に合わせて温度制御可能なシャワーヘッド、良好な膜厚分布、組成分布、成膜レートを再現しつつ、パーティクル数が少なく、長期にわたって連続成膜を安定して行えることが可能な生産性、量産性に優れた薄膜製造装置及び製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a shower head in which temperature can be controlled in accordance with film deposition conditions, and to provide a thin film production apparatus and a production method excellent in productivity and mass-productivity which enable continuous film deposition to stably be performed over a long period causing the reduced number of particles while reproducing satisfactory film deposition distribution, compositional distribution and film deposition rate. - 特許庁

時間の経過と設定温度との関係を表した設定温度プロファイルによって熱処理装置を制御すると共に、設定温度プロファイルとして、成膜中の基板面上の温度分布が基板の中央近傍が高温の中央高温状態と基板の周縁が高温の周縁高温状態の双方が含まれるように規定されたものを用いる。例文帳に追加

This heat treatment apparatus is controlled with a programmed temperature profile that represents a relation between elapsing time and programmed temperature, wherein the programmed temperature profile is specified so as to contain both a center high-temperature condition where the temperature of the central part of the substrate is higher under film deposition and a periphery high-temperature condition where the temperature of the peripheral part of the substrate is higher. - 特許庁

室内機１，２に設けられている温度センサ５，６によりそれぞれ検出された室内温度から得られる室内の温度分布情報と、ユーザが設定した設定室内温度と、予め記憶されている室内機１，２の配置関係情報とに基づいて、リモートコントローラ３が各室内機１，２を個別に自動制御するようにした。例文帳に追加

The remote controller 3 separately and automatically controls the indoor machines 1 and 2, based on the information on the temperature distribution in the room obtained from indoor temperatures detected, by means of temperature sensors 5 and 6 which are respectively installed to the indoor machines 1 and 2, a set indoor temperature set by the user, and prestored information on the positional relation between the indoor machines 1 and 2. - 特許庁

本発明では、ウェーハを載置するためにチャンバーの内部に配設したサセプターと、このサセプターを加熱するための加熱手段と、この加熱手段の駆動制御を行うための制御手段とを有するエピタキシャル成長装置において、前記制御手段は、複数の温度センサーを用いてサセプター表面の温度分布を計測できるように構成した。例文帳に追加

In a device for epitaxial growth having the susceptor arranged in a chamber to mount a wafer, a heating means for heating the susceptor, and a control means for performing driving control over the heating means; the control means is configured to measure a temperature distribution on a susceptor surface by using a plurality of temperature sensors. - 特許庁

シリコン単結晶を育成している際のシリコン融液表面の温度分布を制御することができ、シリコン融液表面の温度に起因する直径の変動を小さくすることができる単結晶製造装置およびシリコン単結晶の製造方法を実現する。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for producing a silicon single crystal controlling the surface temperature distribution of a silicon melt when growing the silicon single crystal and thus lessening fluctuation of diameter caused by variation of the temperature of a silicon melt surface. - 特許庁

研磨時、シリコンウェーハＷの面内の各異なる位置の温度を、ウェーハ裏面側から５本の熱電対１７Ａ〜１７Ｅにより測定し、その検出信号に基づき、制御部ＣによりウェーハＷの面内の温度分布を作成する。例文帳に追加

At the time of polishing, temperatures at different positions in the plane of a silicon wafer W are measured from the rear side of the wafer by means of five thermocouples 17A-17E and a control section C creates temperature distribution in the plane of the wafer W based on the detection signals. - 特許庁

加熱プレート５００内のラバーヒータを８分割し、分割されたラバーヒータに対応する加熱プレート部分の温度を熱電対６Ａ〜６Ｈによって測定し、加熱プレート５００の温度分布を制御することによって液晶セルシール材および外周シール材を均一に仮硬化せる。例文帳に追加

A rubber heater in the heating plate 500 is divided into 8, and temperatures of heating plate portions corresponding to divided rubber heaters are measured by thermocouples 6A to 6H, and a temperature distribution of the heating plate 500 is controlled to uniformly temporarily harden the liquid crystal cell sealant and the outer peripheral sealant. - 特許庁

また、その制御部５１には、タイヤ表面温度分布の熱画像６１ａに表される夫々の温度帯に所定段階の隔たりがある場合に、タイヤ異常発生の虞ありとして警告手段８を作動させるタイヤ異常予測判定部５１Ｃを設けてもよい。例文帳に追加

When a gap of predetermined stage exists in the respective temperature bands represented by the heat image 61a of the tire surface temperature distribution, a tire abnormality prediction determination part 51C for operating a warning means 8 as existence of fear of generation of tire abnormality may be provided. - 特許庁

液晶表示装置内の少なくとも１ヶ所の部位の温度と、予め予想される液晶表示パネルの垂直方向の温度分布に応じて作成された垂直周期の制御電圧により、ガンマ補正用電圧もしくは容量結合駆動における補償電位差Ｖｅｐｐを変調するようにした。例文帳に追加

The liquid crystal display device is arranged so a to modulate a gamma correction voltage or a compensation potential difference Vepp in capacitance coupling driving by a vertical cycle control voltage generated according to the temperature of at least one point in the liquid crystal device and the expected temperature distribution in the vertical direction of the liquid crystal panel. - 特許庁

シリンダブロックのウォータージャケットに対する冷却液流通量とシリンダヘッドの上下２段のウォータージャケットに対する冷却液流通量とを制御可能な構成のエンジンにおいて、比較的簡易な構成でありながら、エンジンを均一な温度分布で温度調整できるようにする。例文帳に追加

To adjust a temperature of an engine in a uniform temperature distribution with a relatively simple configuration, in the engine that controls a coolant flow rate to a water jacket of a cylinder block and a coolant flow rate to a two-tiered water jacket of a cylinder head. - 特許庁

スパイラル鋼管の内面溶接部のシーム位置検出装置と、温度分布検出装置３と、温度ピーク位置とシーム位置との位置ずれ量を演算する演算装置４と、位置ずれがゼロになるように溶接トーチ７の位置を移動させる制御装置５とを備えた。例文帳に追加

A device is equipped with the seam position detecting device of a weld zone on the inside surface of a spiral steel tube, a temperature distribution detecting device 3, an arithmetic unit 4 performing the arithmetic of the shift quantities of a temperature peak position and a seam position and a controller 5 moving the position of a welding torch 7 so that the shift of the position becomes zero. - 特許庁

記録再生光スポット内の媒体の温度分布を、媒体自体の温度に関係なく、また回転中のスキュー変動の影響を受けることなく、常に所定レベルとなるように制御し、情報の読み書きを安定して実行できるようにする。例文帳に追加

To stably perform reading and writing of information by controlling the distribution of a temperature of a medium within a recording/reproducing light spot so as to always become a prescribed level regardless of the temperature of the medium itself and also without being influenced by variations of a skew during rotation. - 特許庁

合成樹脂フィルムに傷や変形を与えずに、かつ省エネルギーで合成樹脂フィルムの温度分布および温度を均一に制御、物理的、化学的に均一な薄膜を形成する真空成膜装置とそれを用いた成膜方法の提供にある。例文帳に追加

To provide a vacuum film deposition apparatus which uniformly controls the temperature distribution and the temperature of a synthetic resin film in an energy-saving manner and forms a physically and chemically uniform thin film without any damages or deformation on the synthetic resin film, and a film deposition method using the apparatus. - 特許庁

このように、発熱体１７をノズル本体１０に内蔵しているため、常に同じ状態でノズル本体１０を加熱することができるので、ノズル温度および温度分布のばらつきが極めて少なくなり、固体栓１４を好適に制御できる。例文帳に追加

In such a way, since the exothermic body 17 is included in the nozzle body 10 and the nozzle body 10 can be heated always in the same state, the unevenness of the nozzle temp. and the temp. distribution is extremely small, and the solid plug 14 can suitably be controlled. - 特許庁

このようにすることによって、前記発熱体の発熱領域を（電極数−１）個の領域に分けてそれぞれ独立に発熱させ、個別に温度制御することが可能となり、様々な要求の温度分布の均一性に同一の設計で対応することができる。例文帳に追加

This enables individual temperature control by dividing the heating region of the heater into (the number of electrodes -1) pieces of regions to heat generate them respectively and independently, and then the same design can be coped with uniformity of the distribution of different requirements. - 特許庁

室内に存在する発熱体の状態に基づいて室内の空間全体の温度分布を推定するオブザーバ（21）を用い、オブザーバ（21）によって推定した温度に基づいて空調機（31，32）とサーキュレータ（33，34）とを制御することにより、室内をゾーニングして空調を行う。例文帳に追加

The air conditioning is performed, while zoning the room by controlling air conditioners 31, 32 and circulators 33, 34 on the basis of a temperature estimated by an observer 21, by using the observer 21 that estimates the temperature distribution of the entire indoor space, on the basis of the state of a heating element existing inside the room. - 特許庁

これによって、単一の熱電対３４で、鍋底面から熱伝達の３つのモード（輻射、伝導、対流）の全てを検出できるため、鍋底形状や表面状態あるいは鍋底温度分布の影響を受けにくく、鍋温度を精度よく検出し、良好な加熱制御が実現できる。例文帳に追加

Since all three modes of heat transfer (radiation, conduction, and convection) is detected from the bottom surface of a pan using a single thermocouple 34, the temperature of the pan is precisely detected, being hard to be affected by the bottom shape of the pan, surface state thereof, or temperature distribution of pan bottom, thus achieving proper heating control. - 特許庁

下地にメタルや高熱伝導度絶縁膜を用いずに、従来の絶縁膜のみを使用して温度勾配を作り、所望の位置に下地絶縁膜の段差を設け段差形状に対応して発生する半導体内部の温度分布を利用してラテラル成長の発生場所、方向を制御する。例文帳に追加

Only a conventional insulation film is used to create temperature gradient without using any metals and insulation films with high pyrogenic electrical conductance for the ground, a step of a ground insulation film is provided at a desired position, and temperature distribution inside a semiconductor being generated corresponding to the step shape is utilized, thus controlling location and direction where lateral growth is generated. - 特許庁

微細流路内で多相層流を実現し、流れ方向の下流で各層を分離するマイクロチップデバイスであって、流路内が流れ方向に直交する流路断面方向に異なる温度分布を形成するように、温度制御機構を配してなることを特徴とするマイクロチップデバイス。例文帳に追加

The micro-chip device achieves a multi-phase laminar flow in a microscopic passage and separates individual layers in the downstream in the flowing direction, and a temperature controlling mechanism is arranged so that different temperature distributions are formed in the direction of the cross section of the passage perpendicular to the flowing direction in the passage. - 特許庁

熱負荷等の輻射温度検知手段と吹出気流の特性を変更する気流変更手段とを備えた空気調和装置において、室内空間の温度分布に応じた適切な気流制御を可能にして、空調対象空間の快適性向上を図る。例文帳に追加

To improve the amenity of an air-conditioned space by properly controlling the air flow in accordance with the distribution of temperature of an indoor space, in an air conditioner comprising a means for detecting a temperature of radiation of thermal load, and an air flow changing means for changing the property of the discharged air flow. - 特許庁

マイクロ流路と同一の基体に配置した抵抗体を加熱し、抵抗体の抵抗値変化によって、マイクロ流路内の温度を制御するマイクロ流体デバイスにおいて、流路内の流体に温度分布が生じてしまうこと。例文帳に追加

To improve a temperature distribution of fluid in a flow channel, in a microfluidic device in which a resistive element disposed in the same substrate as in a micro flow channel is heated and a temperature of the micro flow channel is controlled in accordance with change of a resistance value of the resistive element. - 特許庁

結晶育成時の炉内温度分布を従来と同等の条件で適正に制御する機能を保ちながら、結晶冷却時の雰囲気温度を冷却に適した特性とすることができる結晶育成装置を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a crystal growth apparatus which can control the characteristics of atmospheric temperature during cooling a crystal to be suitable for cooling while keeping a function of properly controlling the temperature distribution in the furnace during growing a crystal under the same conditions as conventional conditions. - 特許庁

本発明は、結晶育成時の炉内温度分布を適正に制御しながら、結晶冷却時の雰囲気温度を育成した単結晶に亀裂が入らないような冷却条件とすることができる抵抗加熱式結晶育成装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a resistance heating type crystal growing apparatus capable of controlling the atmospheric temperature during cooling of a grown single crystal into a cooling condition that the grown single crystal does not cracks while appropriately controlling the temperature distribution during growth of the crystal in a furnace. - 特許庁

円管状の抵抗発熱体を有する糸条の加熱装置において、加熱走行路の温度分布を平坦化し、これによって、被加熱線条材の温度制御を行い易くするとともに、各加熱管毎のバラツキのない熱処理製品を得る。例文帳に追加

To provide a heating apparatus making temperature control of line materials to be heated easy without unevenness in each heating tube by flattening a temperature distribution of a heating and running path in a heating apparatus of yarns having a circular tube-like resistance heating body. - 特許庁

また、炉内の空気の速度および温度の分布の時間的な変化を予測して供給空気量を制御することで、燃焼室の熱容量に伴う温度変化の行き過ぎを回避して、瞬間的な高温や低温の生成も回避する。例文帳に追加

The excessive change of temperature corresponding to the calorific capacity of a combustion chamber is prevented by controlling the air supply amount by estimating the time change of the distribution of the speed and temperature of air in the furnace, whereby the instantaneous high-temperature and low-temperature can be prevented. - 特許庁

垂直ブリッジマン法による、たとえばＫ（Ｔａ，Ｎｂ）Ｏ３結晶の作製において、種子結晶近傍の温度分布を局所的に制御して、最適な温度条件により、高品質結晶を歩留まりよく成長させる結晶製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a crystal producing apparatus to grow a high quality crystal with good yield at an optimum temperature condition by locally controlling the temperature distribution of the neighborhood of a seed crystal in the production of, for example, a K(Ta,Nb)O3 crystal by a vertical Bridgman method. - 特許庁

温度検出手段２５による被加熱物の温度情報に基づきインピーダンス可変手段２１を回転制御することにより、加熱室１０の定在波分布を変化させ、マイクロ波を被加熱物の低温領域に集中させて加熱むらを解消する。例文帳に追加

The uneven heating can be dissolved by changing the standing wave distribution in a heating room 10 and the microwave is concentrated on the low-temperature region of heated substance by rotation controlling an impedance varying means 21 based on temperature information of heated substance by temperature detecting means 25. - 特許庁

熱プレート１０を平面視で複数の区画に分割し、各区画ごとに個別に制御可能な分割ヒータを配設し、熱プレート上に支持されて熱処理されている基板Ｗの温度および温度分布を計測するサーモグラフィ２８を備える。例文帳に追加

A thermography 28 is provided, where thermography divides a heating plate 10 into a plurality of compartments in a plan view, arranges a separately controllable division heater for each compartment, and measures the temperature and temperature distribution of the substrate W supported on the heat plate for heat treatment. - 特許庁

アルミニウム金属板の圧延過程で、圧延材の板幅方向の温度制御を行ない、この板幅方向の温度分布を均一化することにより材料特性を向上させるようにしたアルミニウム金属板の製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an aluminum metal sheet by which the material characteristics can be enhanced by uniformizing temperature distribution in the sheet width direction of a material to be rolled by performing temperature control in the sheet width direction of the material in a rolling process of the aluminum metal sheet. - 特許庁

チャープファイバグレーティング３２が形成されたグレーティング部を含む少なくとも１つの光ファイバ３１と、光ファイバ３１のグレーティング部の軸方向温度分布を調節する温度制御機構とを備えた可変分散補償モジュールである。例文帳に追加

The variable dispersion compensation module is provided with at least one optical fiber 31 including a grating part with a chirped fiber grating 32 formed, and a temperature control mechanism for adjusting an axial temperature distribution of the grating part of the optical fiber 31. - 特許庁

プロセスチューブのゾーンコントロール誘導加熱を適用することによって急速加熱・温度分布制御し、昇降温時間を短縮し、スループット向上を図ることができる半導体製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor manufacturing apparatus which can realize rapid heating/temperature distribution control, reduce a temperature increase/ decrease time and improve throughput by applying zone control induction heating of a process tube. - 特許庁

シフト反応に用いられるシフト触媒の温度分布を、供給されるガス中の水蒸気含有量を制御することによって変化させ、一酸化炭素の除去効率を向上させる。例文帳に追加

The temperature distribution of a shift catalyst used for shift reaction is changed by controlling the steam content in a supplied gas to enhance the removal efficiency of carbon monoxide. - 特許庁

ＣＯ変成器内の温度分布を適切に制御することができ、また最小限の触媒量で所期のＣＯ変成目的を達成できるＣＯ変成器を得る。例文帳に追加

To provide a CO transformer which can control temperature distribution inside and can accomplish CO transformation with least volume of catalyst. - 特許庁

バーナ６０から噴出する燃料の燃焼で形成される火炎、火炉内の温度分布を制御するに好適な固体燃料バーナ６０、固体燃料バーナ６０を用いた燃焼装置とその運転方法を提供する。例文帳に追加

To provide a solid fuel burner 60, a combustion device using the solid fuel burner 60, and its operation method suitable for controlling flame formed in combustion of fuel injected from the burner, and temperature distribution in a furnace. - 特許庁

プレート型触媒反応装置に係り、該反応帯域の触媒層内の温度分布を効率的に制御することにより、反応成績の向上及び触媒寿命の延長が期待できるプレート型触媒反応装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plate type catalytic reactor whose reaction achievement is improved and of which catalyst life is prolonged by efficiently controlling the temperature distribution in a catalyst layer in a reaction zone. - 特許庁

本発明は、複数の燃焼室部分３８Ａ〜３８Ｆを有する燃焼器１０内部の温度分布を制御するための方法に関するもので、前記燃焼室部分３８Ａ〜３８Ｆにおける空燃比を調整することを含む。例文帳に追加

A method for controlling a temperature distribution within a combustor 10 having a plurality of combustion chamber sections 38A-38F comprises adjusting a fuel-to-air ratio in the chamber sections 38A-38F. - 特許庁

本発明の方法及び関係するセンサは、ガスタービン（１３）の監視、診断及び制御のために使用される排気ガス温度分布に関連した検出限界を向上させる。例文帳に追加

This method and the related sensor improve a detection limit related to the exhaust gas temperature distribution used for monitoring, diagnosing, or controlling a gas turbine 13. - 特許庁

加硫缶１内に供給する蒸気流れを、開閉弁３０，３１の開閉を制御することによって任意にコントロールすることができ、加硫缶１内の温度分布を均一にすることができる。例文帳に追加

The flow of the steam to be supplied into the vulcanization can 1 can be controlled by controlling the opening/closing of the valves 30 and 31 so that temperature distribution in the vulcanization can 1 can be made uniform. - 特許庁

加硫缶１に供給する蒸気流れを、開閉弁２６，２７の開閉を制御することによって任意にコントロールすることができ、加硫缶１内の温度分布を均一にすることができる。例文帳に追加

The flow of the steam to be supplied to the vulcanization can 1 can be controlled optionally by controlling the opening/closing the valves 26 and 27 so that temperature distribution in the vulcanization can 1 can be made uniform. - 特許庁