「電子線透過度」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

この同時に試料を透過した２つの電子線を結像光学系に配置した第２の電子線バイプリズムにより空間的に分離して結像させ、照射角度の異なる２つの電子顕微鏡像を得る。例文帳に追加

The two electron beams transmitting the sample at the same time are spatially separated and imaged by a second electron-beam biprism arranged in an imaging optical system to obtain two electron microscope images with different irradiation angles. - 特許庁

電子線2の照射によって試料4を透過した電子線の電子線エネルギー損失量とその強度を検出して、得られた複数の電子線エネルギー損失スペクトルから各元素ごとのピークに分離し、任意の元素の元素濃度を求める。例文帳に追加

An electron beam energy loss amount of electron beams transmitted through a sample 4 by radiation of electron beams 2 and its intensity are detected, and obtained a plurality of electron beam energy loss spectra, peaks for respective elements are separated individually, and then, an element concentration of an optional element is found. - 特許庁

その結果、線路パターンの接続部分は、半透過部２０ｃを透過した通常の強度の１／２の電子線ビームによって２重露光されることから、単位パターンの位置のずれに起因して発生する線路パターンの幅の誤差を減少させることが可能となる。例文帳に追加

As a consequence, since connection parts between the track patterns are exposed to electron beams which are transmitted through the semi-transmission parts 20c exhibiting an intensity of 1/2 of normal intensity two times, the error of width of the track patterns due to displacements of the unit patterns can be reduced. - 特許庁

そのような電子線透過膜に対向する初期加速電界生成曲面体（４）に零でない曲率を与えることにより、電子線密度の空間分布を適正化することができる。例文帳に追加

The space distribution of the density of the electron beams can be optimized by imparting the curvature other than 0 to the initial acceleration electric field generating curved-face body (4) opposite to the electron beam transmission film (6). - 特許庁

さらに、窓１２のうち電子線発生装置の照射口４と対向するリング状の領域だけを電子線が透過する金属薄膜とすることにより、窓１２の強度を増すと共に低コスト化することができる。例文帳に追加

In addition, the strength of the window 12 can be enhanced and the costs of it can be decreased by making only an area shaped like a ring in the window 12 which is opposite to an irradiation aperture 4 of the electron beam irradiator in a metal thin film which allows the electron beam to pass through. - 特許庁

散乱電子線検出器の取り込み角度範囲の設定と独立にエネルギー分光器の取りこみ角度範囲が設定でき、散乱電子線検出器の取り込み角度範囲の変化に対してエネルギー分光器の条件を変更する必要がない走査透過電子顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning transmission electron microscope capable of independently setting capturing angle ranges of a scattered electron beam detector and an energy spectrometer, and not requiring to change a condition of the energy spectrometer for the change of the capturing angle range of the scattered electron beam detector. - 特許庁

電子線エネルギー分光器(Energy−Filter)−透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscopy)において高い空間分解能を維持しながら複数の元素を含む試料中の任意の元素濃度を測定する。例文帳に追加

To measure a concentration of an optional element in a sample containing a plurality of elements while maintaining high spatial resolution in an electron energy spectroscope (energy-filter)-transmission electron microscope. - 特許庁

高精細陰極線管用の電子銃の製造において、電子銃電極のビーム透過孔を形成する薄板部を精度良く作製することを可能にする。例文帳に追加

To manufacture with accuracy a thin-plate part forming beam- transmission holes for an electron gun electrode, in manufacturing an electron gun for a high-definition cathode-ray tube. - 特許庁

結着樹脂及び着色剤を主成分とする電子写真用トナーにおいて、融点が９０〜１５０℃の範囲にある紫外線吸収剤を含有し、かつ、光の透過度が６５以上であることを特徴とする電子写真用トナーである。例文帳に追加

The electrophotographic toner contains a UV absorber whose melting point is in the range of 90-150°C besides a bonding resin and a colorant as principal components and has a light transmittance of ≥65. - 特許庁

試料上における走査範囲が変化しても、明視野信号電子と暗視野信号電子を明確に分離し、高精度の明視野信号像と暗視野信号像を得ることができる走査透過荷電粒子線装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a transmission-type scanning charged-particle beam device capable of obtaining highly precise bright and dark field signal images, by clearly separating a bright field signal electron from a dark field signal electron even if a scanning range on a sample changes. - 特許庁

基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備えるガスバリア性積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層において、該層の膜厚方向における該層の表面からの距離と電子線透過度との関係を示す電子線透過度曲線が少なくとも１つの極値を有することを特徴とするガスバリア性積層フィルム。例文帳に追加

The gas-barrier multilayer film includes a base and one or more thin layers formed on at least one surface of the base, wherein, in at least one layer of the thin layers, an electron beam transmission curve showing the relation between a distance from a surface of the layer in the film thickness direction of the layer and an electron beam transmission degree has at least one extreme value. - 特許庁

電子線照射後のガスバリアー層は、温度が２３℃、相対湿度が７０％の条件の下で、酸素透過度が１０ｃｃ／ａｔｍ・ｍ2・ｄａｙ未満という高い酸素バリアー性を示す。例文帳に追加

Gas barrier layer after electron beam irradiation exhibits a high oxygen barrier property of <10 cc/atm/m2/day oxygen permeability at 23°C and 70% relative humidity. - 特許庁

前記構造を評価すべき評価部位と、前記評価部位一体的に結合した単結晶部位とを有する試料の前記評価部位に前記電子線を照射して透過電子像を取得すると共に前記電子線の照射角度を変化させずに前記単結晶部位に前記電子線を照射して電子線回折像を取得する。例文帳に追加

A transmission electron image is obtained by radiating the electron beam to an evaluation site of the sample having the evaluation site where the structure is to be evaluated, and a single crystal site integrally joined with the evaluation site, and the electron beam diffraction image is obtained by radiating the electron beam to the single crystal site without changing a radiation angle of the electron beam. - 特許庁

管電流を熱陰極１の温度により制御し、熱陰極１からの電子ｅは、薄板タ−ゲット７に衝突し、Ｋ系列特性Ｘ線は、熱伝導の良いベリリウム（Ｂｅ）Ｘ線窓８を透過して出力する。例文帳に追加

A tube current is controlled by a temperature of a hot cathode 1, an electron e from the hot cathode 1 collides with a thin plate target 7, and K-series characteristic X-ray is outputted by being transmitted through a beryllium (Be) X-ray window 8. - 特許庁

ポリ乳酸、ポリ（メチル）アクリル酸メチルおよび難燃剤を含み、アイゾッド衝撃強度が２．７〜５ｋＪ／ｍ^2、４００ｎｍ〜７６０ｎｍの波長域における光線透過率が４０％以上である電子機器用透明部材。例文帳に追加

This transparent member for electronic equipment comprises polylactic acid, polymethyl (meth)acrylate and a flame retardant, which has Izod impact resistance of 2.7-5 kJ/m^2 and light transmittance in wavelength range of 400-760 nm of ≥40%. - 特許庁

第１の画像と同じ画素数で第２の倍率の透過電子線像を取り込み（Ｓ２５）、第１の画像と第２の画像の相関強度から２つの画像間の移動量を計算する（Ｓ２６）。例文帳に追加

In addition, the transmitted electron beam image at the second magnifying power is fetched with the same number of pixels as that of pixels of the first image (S25) and the moving amount between the first and second images is calculated from the relative intensity between the images (S26). - 特許庁

発光効率および透過率がよく、配線に自由度があり、大型の表示装置を形成することが可能な表示体および表示装置、並びに電子機器を提供する。例文帳に追加

To provide a display and a display device as well as an electronic equipment wherein light emitting efficiency and a transmission rate are superior, wherein wiring is flexible, and wherein a large-scale display device can be formed. - 特許庁

ＩＳＳ方式を採用した場合でも、筐体の透過板から伝わる熱に起因する、検出部の検出面内における温度むらが生じにくい放射線撮影用電子カセッテを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an electronic cassette for radiograph that hardly causes temperature unevenness within a detection surface of a detection unit which is caused by heat transmitted from a transmission plate of a housing even when an ISS (Irradiation Side Sampling) method is employed. - 特許庁

エージング工程における電子線もしくは電磁波の照射量または電子の注入量は、画像表示装置の画像表示面内の輝度の変動幅が目標値以内となるように、測定した透過率に応じて、領域ごとに予め決定される。例文帳に追加

An irradiation amount of the electron beam or electromagnetic wave or an implantation amount of electron in the aging step is predetermined on a regional basis according to the measured permeability so that a fluctuation range of brightness in the image display surface of the image display apparatus falls within a target value. - 特許庁

【解決手段】卓上型放射光治療診断装置は、６ＭｅＶ程度の高エネルギー電子を発生する装置と電子エネルギーをＸ線に変換する標的の断面サイズが１００ミクロン以下である変換装置と標的を透過した電子が再び標的に衝突するように電子を周回させる装置とＸ線イメージを検出する装置と治療部位以外を遮蔽する装置とから構成される。例文帳に追加

The desktop type radiation therapy/diagnosis apparatus consists of a device of generating about 6 MeV high-energy electrons, a conversion device with the target whose section size is not more than 100 microns for converting the electronic energy to X rays, a device of rotating electrons so that the electrons having penetrated the target hit at the target again, and a device of shielding regions other than the treated region. - 特許庁

微少標的でＸ線発生点の大きさを極めて小さくできる上に、透過した電子を再度周回することにより大強度のＸ線を発生できるために、極めて精細なＸ線診断が出来、かつピンポイントで病巣を治療できる。例文帳に追加

The apparatus can make the size of an X-ray generating point extremely small with an extremely small target, and X rays with great intensity can be generated by rotating electrons having penetrated again. - 特許庁

硬化物の光拡散性に優れ、透過光の色度座標は白色光領域であり、透過光に波長依存性がほとんどなく、耐光性試験後の黄変度が小さい光拡散フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物、及び当該組成物から得られた光拡散フィルム又はシートの提供。例文帳に追加

To provide an electron beam curable composition for formation of a light diffusion film or a sheet being excellent in light diffusion of a cured product, having a chromaticity coordinate of a transmitted beam in a white light region, preventing wavelength dependence of a transmitted beam and allowing a smaller degree of yellowing after light resistance test; and a light diffusion film or a sheet obtained from the composition. - 特許庁

処理に用いる水溶液としては塩濃度の高い水溶液が好ましく、放射線としては水溶液や容器に対して充分な透過性をもち、アスベストに充分に吸収されるだけのエネルギーをもつガンマ線や電子線が好ましい。例文帳に追加

It is preferable that an aqueous solution is of high salt concentration as the aqueous solution used for the treatment, and γ rays or electron beams that have sufficient transparency to the aqueous solution or vessel and has energy sufficiently absorbed in the asbestos is preferable as the radiation. - 特許庁

赤外域の透過性を保持しつつ、任意の外観色を得ることができ、意匠設計上の自由度を拡大できる赤外線受発光部、赤外線受発光部の製造方法、及び赤外線受発光部を備えた電子機器を提供すること。例文帳に追加

To provide an infrared beam receiving and emitting unit for acquiring desired appearance color, while maintaining transparency in the infrared region, and widening flexibility in industrial design, and to provide the manufacturing method of the infrared beam receiving and emitting unit, and to provide an electronic device equipped with the infrared beam receiving and emitting unit. - 特許庁

基材１上のパターン形成層２に接触するマスク基材１０と、マスク基材１０に形成される複数の電子線遮蔽領域１１と、マスク基材１０に形成される複数の電子線透過領域１２と、パターン形成層２に接触する電子線遮蔽領域１１の接触度を高める複数の微粘着層１４とを備える。例文帳に追加

The pattern mask comprises a mask substrate 10 which contacts a pattern formation layer 2 on a substrate 1, a plurality of electron beam shielding region 11 formed on the mask substrate 10, a plurality of electron beam transmission region 12 formed on the mask substrate 10, and a plurality of minute adhesive layers 14 for increasing the degree of contact of the electron beam shielding region 11 which contacts the pattern formation layer 2. - 特許庁

本発明の目的は、試料を透過した電子を用いて観察するＴＥＭやＳＴＥＭ、或いはＳＥＭにおいて、画像のサブミクロンから数１０μｍの微小寸法を高い精度で測定可能にする荷電粒子線用標準試料及びそれを用いる荷電粒子線装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a standard sample for charged particle beam and a charged particle beam device using the same, allowing measurement of fine dimensions of an image in a submicrometer to tens of micrometers in high accuracy in TEM and/or STEM for observation by using electrons transmitted through a sample, or SEM. - 特許庁

本発明の目的は、試料を透過した電子を用いて観察するＴＥＭやＳＴＥＭ、或いはＳＥＭにおいて、画像のサブミクロンから数１０μｍの微小寸法を高い精度で測定可能にする荷電粒子線用標準試料及びそれを用いる荷電粒子線装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a standard sample for a charged particle beam which enables high-accuracy measurement of a micro-dimension from the order of submicron to a several tens μm of an image, and a charged particle beam device using the sample. - 特許庁

さらに、ターゲット８をＸ線透過窓７から電気的に絶縁して、ターゲット８に流れる電流を測定しＸ線強度とみなし、偏向器３を調整することで、電子ビーム１０をターゲット８上に位置調整することができる。例文帳に追加

Furthermore, by electrically insulating the target 8 from an X-ray transmission window 7, current that flows in the target 8 is measured to be regarded as the X-ray intensity, and the electron beam 10 can be subject to position adjustment on the target 8 by adjusting the deflector 3. - 特許庁

紫外線に対するフッ化物結晶の耐久性、透過率を評価する光学特性評価法であって、電子スピン共鳴吸収を測定したときに、観測されるスピン濃度が求められる光学特性に対応する濃度以下であるものを特性の優れたフッ化物結晶とする。例文帳に追加

This optical characteristic evaluation method for evaluating the durability and transmittance of the fluoride crystal with respect to the ultraviolet ray determines, as the excellent characteristic of fluoride crystal, one having an observed spin concentration lower than a concentration corresponding to the required optical characteristics, when electron spin resonance absorption is measured. - 特許庁

高密度で円筒形の組合わせからなるような複雑な形状をした被照射物に対して、片面照射では電子線が透過できない部位に対しても、十分な滅菌線量を照射でき、かつ線量分布の不均等性が少なく概ね均一に電子線を照射することができる医療機器の滅菌方法およびその装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and device for sterilizing a medical appliances which can irradiate a sufficient quantity of sterilizing electron beams even on a part which the electron beams cannot permeate by the one-side irradiation on an object to be irradiated in a complicated form such as a combination of cylinders with a high density, and which can irradiate electron beams almost evenly with little unevenness in the distribution of electron beams. - 特許庁

波長２５０〜４５０ｎｍの領域における紫外線の透過率が５０％以上であって、ＴＭＡ（応力歪み測定）で測定したガラス転移温度が１８０℃以上である透明フィルムからなる電子ディスプレイ用の透明フィルム。例文帳に追加

The transparent film for the electronic display consists of a transparent film of ≥50% transmittance of the UV rays in a wavelength region of a 250 to 450 nm and ≥180°C glass transition temperature measured by a TMA (stress and strain measurement). - 特許庁

プリント配線基板等、特に光透過型電子基板の欠陥を、基板のずれを気にせずに光学的処理により高精度、迅速、かつ、自動的に検出することができる形状欠陥等の検査方法および検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inspection method for shape defect or the like by which the defect of a printed wiring board or the like, especially a light transmission type electronic substrate, can be detected accurately, quickly and automatically through optical processing without paying attention to the deviation of a substrate, and to provide an inspection device. - 特許庁

プラズマディスプレイの輝度、色調、コントラスト、視認性を損わない優れた透過率、可視光線反射率、色調を有し、さらに、プラズマディスプレイから発生する健康に害をなすといわれている電磁波を遮蔽する電磁波シールド能、および周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮断する近赤外線カット能を兼ね備えたディスプレイ用光学フィルターを得る。例文帳に追加

To obtain a display optical filter having high transmissivity capable of preventing the luminance, color tone, contrast, and visibility of a plasma display from being lost, a visible light reflection factor and a color tone and provided with both of electromagnetic wave shielding capacity for shielding electromagnetic waves radiated from the plasma display and suspected to damage human health and near infrared-ray cutting capacity for shielding near infrared rays causing the malfunction of peripheral electronic equipment. - 特許庁

試料が薄膜状であるとき、この試料に対して照射される電子線が当該試料を透過してその下方に位置する下部ポールピースに衝突して生ずるシステムピークの悪影響を受けないようにして、所望の特性Ｘ線を精度よく検出することのできるＸ線検出器を提供すること。例文帳に追加

To provide an energy dispersion type semiconductor X-ray detector that can detect a desired characterized X-ray with accuracy, by avoiding the bad influence of a system peak generated when an electron beam projected to a sample collides with a lower pole piece positioned below the sample after passing through the sample when the sample has a thin film-like shape. - 特許庁

透過基材フィルムの少なくとも一方の面に防眩層を積層してなる防眩性フィルムにおいて、基材フィルムに、透光性拡散剤を含有する透光性樹脂からなる防眩層を、酸素濃度が２％以下の雰囲気下で、紫外線、または電子線を用いて硬化することを特徴とする防眩性フィルムの製造方法を提供する。例文帳に追加

There is provided the manufacturing method of the glare shield film, which comprises laminating a glare shield layer on at least one surface of a transparent base film and which is featured in that, onto the base film, the glare shield layer consisting of a light-transmissive resin containing a light- transmissive diffusate is cured with UV or electron beams under the atmosphere of a 2% or less oxygen concentration. - 特許庁

基板上に、記録層、光透過層、ハードコート層が設けられてなる光情報記録媒体であって、 前記ハードコート層表面をＸ線光電子分光法で測定した際のＳｉのピーク強度と、Ｃのピーク強度との比（Ｓｉ／Ｃ）_surfaceが０．００１〜０．１であることを特徴とする光情報記録媒体である。例文帳に追加

The optical information recording medium is constituted of a recording layer, a light transmission layer and a hard coat layer on a substrate, wherein a ratio (Si/C)_surface of a peak intensity of Si to a peak intensity of C obtained when the surface of the hard coat layer is measured by an X-ray photoelectron spectroscopy is 0.001 to 0.1. - 特許庁

透過型電子顕微鏡によって測定されたストラクチャー長さを用いて描かれた粒度分布曲線の最大頻度径が０．５〜０．８μｍで、その半値幅が１μｍ以上であるカーボンブラック原料を、水素を含む気流中、加熱処理して酸性官能基を脱離させることを特徴とするカーボンブラックの製造方法。例文帳に追加

The method for producing the carbon black comprises subjecting a raw material of the carbon black having 0.5-0.8 μm mode diameter in the size distribution curve drawn by using the structure lengths measured by the transmission electron microscope, and ≥1 μm half width thereof to a heat treatment in a gas flow containing hydrogen to remove an acidic functional group. - 特許庁

酸素含有量が０．５％以下、ＪＩＳ Ｋ ６２１７によるＤＢＰ吸収量が１５０〜２５０ｍｌ／１００ｇ、透過型電子顕微鏡によって測定されたストラクチャー長さを用いて描かれた粒度分布曲線の最大頻度径が０．５〜０．８μｍで、その半値幅が１μｍ以上であることを特徴とするカーボンブラック。例文帳に追加

The carbon black has ≤0.5% oxygen content, 150-250 ml/100 g DBP absorption measured based on JIS K 6217, 0.5-0.8 μm mode diameter in a size distribution curve drawn by using structure lengths measured by a transmission electron microscope, and ≥1 μm half width thereof. - 特許庁

紫外線及び／又は電子線に対し透過性を有し、粘着剤と反応する官能基を持つフィルム基材面上にベース樹脂、放射線重合性化合物、放射線重合性重合開始剤、及び架橋剤を含む粘着剤を塗布してなる半導体基板加工用粘着テープの製造方法であって、粘着剤を塗布した後に４０〜７０℃の温度で１〜１４日間熱処理する工程を有することを特徴とする半導体基板加工用粘着テープの製造方法。例文帳に追加

The manufacturing process of the adhesive tape for processing a semiconductor substrate comprises coating an adhesive agent containing a base resin, a radiation-polymerizable resin, a radiation polymerization initiator and a crosslinking agent on the surface of a film substrate which has a functional group reactive with the adhesive agent and are transparent to ultraviolet and/or electron beam and heat-treating the coated film for 1-14 days at 40-70°C. - 特許庁