| 意味 | 例文 |
After processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8069件
A manufacturing method of a thermoelectric material includes: a process of preparing fine particles containing a clathrate compound; a first cleaning process of cleaning the fine particles with acid; a second cleaning process of cleaning the fine particles with pure water after the first cleaning process; and a sinter process of sintering the fine particles after the second cleaning process.例文帳に追加
クラスレート化合物を含む微粒子を調製する工程と、前記微粒子に対して酸洗浄を行う第一洗浄工程と、前記第一洗浄工程後の前記微粒子に対して純水洗浄を行う第二洗浄工程と、前記第二洗浄工程後の前記微粒子を焼結する焼結工程とを有する熱電材料の製造方法である。 - 特許庁
In the method for producing high-purity terephthalic acid, having a slurrying process, dissolution process, reduction process, crystallization process, separation process, cleaning process and drying process, cleaning waste fluid after cleaning discharged in the cleaning process is kept in a state at ≥120°C and ≤200°C and used as a water solvent in the slurrying process to produce high-purity terephthalic acid.例文帳に追加
スラリー化工程、溶解工程、還元工程、晶析工程、分離工程、洗浄工程、及び乾燥工程を有する高純度テレフタル酸の製造方法において、上記洗浄工程で排出される洗浄後の洗浄排液を、120℃以上、200℃以下の状態を維持させて、上記スラリー化工程の水溶媒として使用して、高純度テレフタル酸を製造する。 - 特許庁
This characteristic constitution includes a first etching process 13a wherein acid etching is performed in the etching process and a second etching process 13b wherein alkaline etching is performed after the first etching process, and includes a back light polishing process 14 for polishing the uneven part of the back of the wafer which is formed by the first etching process, between the first etching process and the second etching process.例文帳に追加
この特徴ある構成は、エッチング工程が酸エッチングする第1エッチング工程13aとこの第1エッチング工程の後にアルカリエッチングする第2エッチング工程13bとを含み、第1エッチング工程と第2エッチング工程との間に第1エッチング工程で形成されたウェーハ裏面の凹凸の一部を研磨する裏面軽研磨工程14を含む。 - 特許庁
A manufacturing method for a pigment including a process (1) to do the phosphate formation treatment, a process (2) to do a washing treatment after the process (1), a process (3) to do an electrolysis treatment of the washing wastewater in the process (2) and a process (4) to dry the sludge generated by the process (3) by a drum dryer is provided.例文帳に追加
リン酸塩化成処理を行う工程(1)、上記工程(1)の後、水洗処理を行う工程(2)、上記工程(2)における洗浄廃水を電気分解処理する工程(3)、並びに、上記工程(3)で生成するスラッジを円筒乾燥機により乾燥する工程(4)を含むことを特徴とする顔料の製造方法。 - 特許庁
When a single-wafer thin-film process device performs thin-film process for attaining a prescribed thickness, the device once suspends the process before the process reaches the prescribed thickness, and after measuring the film thickness obtained in the process performed thus far, starts the remaining thin film process by deciding the condition of the process, based on the measured film thickness.例文帳に追加
枚葉式薄膜プロセス装置において、薄膜プロセスを所定の厚みまで行う際、処理が所定の厚みにまで達する前に処理を一時中断し、そこまでの処理により行われた膜厚を測定した後、測定した膜厚をもとに,残りの薄膜プロセスの条件を決定し処理を行う。 - 特許庁
A coloration process of applying a colorant to the leather material, a dry process of drying after applying the colorant, a decoloration process of wiping and partially decolorizing a surface of the leather material, and a repetition process of repeating the coloration process, the dry process, and the decoloration process are included.例文帳に追加
皮革材へ着色剤を塗布する着色工程と、上記着色剤の塗布後乾燥させる乾燥工程と、上記皮革材の表面を払拭して部分的に脱色させる脱色工程と、上記着色工程、乾燥工程及び上記脱色工程を繰り返す反復工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁
In the method for manufacturing the substrate for the information recording medium by a manufacturing process including a grinding process and a polishing process from substrate material, the grinding process is performed in the atmosphere, and the polishing process and the process after it are performed in a clean room.例文帳に追加
基板材料から研削工程及び研磨工程を含む製造工程により情報記録媒体用基板を製造する情報記録媒体用基板の製造方法において、研削工程を大気中で行い、研磨工程及びそれ以降の工程をクリーンルームで行なう。 - 特許庁
To provide a polishing apparatus, a washing apparatus and method, and a wafer saving program by which a wafer surface is prevented from oxidation and property change in respective processes of a polishing process, a carrying process after this, a washing process, a drying process, an inspection process, and a housing process of a wafer.例文帳に追加
ウェーハの研磨加工工程、その後の搬送工程、洗浄工程、乾燥工程、検査工程、収納工程等の各工程において、ウェーハ表面の酸化や改質を防止することが可能な研磨装置、洗浄装置、洗浄方法並びにウェーハ退避プログラムを提供する。 - 特許庁
Then, the plant monitoring control device associates a process execution history, which includes input data to be inputted to each process, process internal data before and after execution and output data being a process execution result, with the event number and with a process ID to record them.例文帳に追加
そして、各プロセスに対して入力される入力データ、実行の前後におけるプロセス内部データおよびプロセスの実行結果である出力データからなるプロセス実行履歴をイベント番号およびプロセスIDと関連付けて記録する。 - 特許庁
A performance prediction process for predicting the performance after being adjusted in the 2nd adjustment process is carried out before the 2nd adjustment process S4, and further, the manufacturing method includes a judgement process for judging the performance on the basis of the performance predicted in the performance prediction process.例文帳に追加
第2の調整工程S4の前には、第2の調整工程において調整された後の性能を予測する性能予測工程が実行され、性能予測工程で予測された性能に基づいて判断する判断工程をさらに有する。 - 特許庁
To enable a work to be cleaned in as-held state by a work support, in a process for cleaning a hardening oil after a hardening process and before a tempering process, without removing a cap for preventing carburization, which covers a non-hardened part, and provide a method for sequentially sending the work to a tempering process after the hardening process.例文帳に追加
焼入れ工程後、焼もどし工程に送る前の焼入れ油の洗浄に際し、非焼入れ部に被せた浸炭防止用キャップを除去することなく、ワークがその保持体に配置された状態のままで洗浄することを可能とし、焼入れ工程の後、連続して焼もどし工程に送れる方法を提供する。 - 特許庁
This image measuring system is provided with a display device 9 displaying one or two or more measured images, a measuring process section 21 measuring the displayed images, an image process section 55 applying an image process after the measurement by the measuring process section 21, and a re-measuring section 57 conducting measurement again after applying the image process.例文帳に追加
1又は2以上の被計測画像を表示する表示装置9と、表示した画像を計測する計測処理部21と、計測処理部21によって計測した後に、画像処理を施す画像処理部55と、画像処理を施した後に、再度計測を行う再計測部57を有して構成される。 - 特許庁
In the wastewater treatment method, a biological treatment process for biologically treating wastewater is carried out, a filtration process for filtering the wastewater after the biological treatment process with a screen is carried out, and a membrane separation process for separating the wastewater after the filtration process into permeate and concentrate with a penetration membrane is carried out.例文帳に追加
排水を生物学的に処理する生物学的処理工程を実施し、該生物学的処理工程後の排水をスクリーンでろ過するろ過工程を実施して、該ろ過工程後の排水を透過膜により透過水と濃縮液とに膜分離する膜分離工程を実施することを特徴とする排水処理方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device includes an etching process stage of etching the low permittivity insulating film formed on a substrate, a CO_2 plasma process stage of exposing the substrate to the CO2 plasma after the etching process stage, and an ultraviolet process stage of irradiating the low permittivity insulating film with ultraviolet rays after the CO_2 plasma process stage.例文帳に追加
基板に形成された低誘電率絶縁膜をエッチングするエッチング処理工程と、当該エッチング処理工程の後に基板をCO_2プラズマに晒すCO_2プラズマ処理工程と、CO_2プラズマ処理工程の後に、低誘電率絶縁膜に紫外線を照射する紫外線処理工程とを有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁
In a method of manufacturing this glass substrate for magnetic disk, a substrate surface grinding process carried out after a shaping process is replaced by a substrate surface grinding process using a fixing abrasive grain, and order of processes is changed so that the substrate surface grinding process may be carried out after an edge polishing process.例文帳に追加
この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、形状加工工程の後に実施される基板表面研削工程を、固定砥粒を用いた基板表面研削工程に置き換え、かつ、当該基板表面研削工程を端面研磨工程の後に実施するように工程の順序を入れ替える。 - 特許庁
The method for producing dried persimmons comprises a peeling process of peeling fresh persimmons, an astringency removal and sterilization process of washing the persimmons after being subjected to the peeling process to remove the astringency from the surfaces of the persimmons and sterilize the surfaces of the persimmons, and a drying process of drying the persimmons after the astringency removal and sterilization process with a dryer or in the sun.例文帳に追加
生柿の皮を除去する皮剥き工程と、この皮剥き工程を経た柿を熱湯で洗い表面の渋を除去するとともに殺菌する脱渋殺菌工程と、この脱渋殺菌工程後に乾燥機や天日乾燥で乾燥させる乾燥工程とで干し柿の製造方法を構成している。 - 特許庁
In an after heating process after the splicing process, the additive is diffused by heating the area including the fusion splicing point 3 between the first optical fiber 1 and the second optical fiber 2.例文帳に追加
融着工程の後の後加熱工程において、第1の光ファイバ1と第2の光ファイバ2との間の融着接続点3を含む領域を加熱して添加物を拡散させる。 - 特許庁
To select, in accordance with original scan conditions, whether to start an original reading process after user authentication or to perform the user authentication after starting the original reading process.例文帳に追加
原稿のスキャン条件に応じて、ユーザ認証後に原稿の読み取り処理を開始するか、あるいは、原稿の読み取り処理の開始後にユーザ認証するかを選択可能とする。 - 特許庁
To make responsiveness compatible with low noise resistance in an image forming device which has a process carried out immediately after door opening is detected, and a process to be performed after the door opening is determined.例文帳に追加
ドアオープン検知時に直ちにおこなうべき処理と、ドアオープンが確定した後で行うべき処理を有する画像形成装置において、応答性とノイズ耐性とを両立させること。 - 特許庁
To smoothly carry out a work that a case and a cover body after a coating process are removed from a hanger and are conveyed to a next process.例文帳に追加
塗装処理が終了した後のケース及びカバー体をハンガーから取外し、次工程へ搬送する作業を円滑に行うこと。 - 特許庁
After it is shifted to the dwelling process, while the positional command is renewed on every time interval again, the screw is moved at a speed corresponding to the dwelling process.例文帳に追加
保圧工程に移行後、再度、時間間隔毎に位置指令を更新しながら、保圧工程に対応する速度でスクリュを移動させる。 - 特許庁
In a process a3, the resist after exposure is left at rest for at least five minutes, and in a process a4, a heat treatment is performed at a temperature equal to or above the pre-baking temperature.例文帳に追加
工程a3で露光後のレジストを5分間以上静置し、工程a4でプリベーク温度以上の温度で熱処理を行う。 - 特許庁
The tree structure means a structure for indicating a cooking process just before or after each cooking process.例文帳に追加
なお、ツリー構造とは、各調理工程について、その調理工程の直前または直後にある調理工程を示す構造を意味する。 - 特許庁
To obtain a highly precise die cast product without needing the other working process after the casting process, in the die casting using a core.例文帳に追加
中子を用いたダイカスト鋳造において、鋳造工程の後に他の加工工程を必要とせずに、高精度のダイカスト製品を得る。 - 特許庁
A glass substrate after an abrasion process is treated with functional water having a plus oxidation-reduction potential(ORP) for a fixed time in the final cleaning process.例文帳に追加
研磨工程を経た後のガラス基板を、最終洗浄工程において、ORPプラスの機能水で所定時間処理するようにした。 - 特許庁
A second drying process is performed after the mist process to spray air to the cylinder head again to remove the cleaning liquid from the cylinder head.例文帳に追加
ミスト工程の後は、第2乾燥工程が行われ、シリンダヘッドにエアが再び吹き付けられて、シリンダヘッドから洗浄液が除去される。 - 特許庁
To provide a method that allows a super-critical process to be conducted after a liquid process for drying with pattern deformation suppressed.例文帳に追加
パターンの変形が抑制された状態で、液処理に引き続いて超臨界処理を行うことによる乾燥処理ができるようにする。 - 特許庁
If an SHT2 is superposed with the Area, after the starting position P is shifted to the back, the timing of the Process is shifted so that the Area is not superposed with the SHT2.例文帳に追加
開始位置P1を後ろにずらした後に、SHT2とAreaとが重なっている場合には、AreaがSHT2と重ならないようにProcessのタイミングをずらす。 - 特許庁
In a deaerating process, a closed space storing the lid 31 and the fire extinguishant storage container 10, 20 is deaerated after the sealing process.例文帳に追加
また、排気工程は、封入工程の後、蓋体31及び消火剤貯蔵容器10,20を収容する密閉空間を排気する。 - 特許庁
To provide a post-printing process support system in which even an inexperienced user can reliably perform a process which should be performed after printing.例文帳に追加
不慣れなユーザであっても印刷後に行うべき処理を確実に行うことができる印刷後処理支援システムを提供する。 - 特許庁
The warm setting is desirably performed during the annealing process (in the last stage in particular) and/or in the cooling process after the annealing.例文帳に追加
温間セッチングは、焼鈍工程中(特に最後の段階)及び/又は焼鈍工程後の冷却過程で行うことが望ましい。 - 特許庁
To provide a sheet for fumigation easy to handle in fumigation process, decomposed after fumigation process by burying in a soil.例文帳に追加
薫蒸処理中には取り扱いが容易であり、薫蒸処理後は土壌中に埋めることによって、分解される薫蒸用シートを得ること。 - 特許庁
The method comprises a process of distilling away the extraction solvent and water from the washing water after being used for washing the polyol extraction liquid with water, and returning the washing water to an extraction process.例文帳に追加
ポリオール抽出液の水洗した後の洗浄水から抽剤および水を留去し、該洗浄水を抽出工程に戻す。 - 特許庁
After the arrangement process, positioning of the ground electrode 27 along a peripheral direction is carried out in the positioning process.例文帳に追加
配置工程の後、転造工程の前における位置合わせ工程では、周方向に沿った接地電極27の位置合わせが行われる。 - 特許庁
If necessary, a grinding process for grinding the lumps of the flaky pieces to form the crystalline flaky pieces is performed after the heating process.例文帳に追加
必要に応じて、加熱工程の後に、フレーク状片の塊を粉砕して結晶フレーク状片にする粉砕工程を遂行する。 - 特許庁
That is, many crystal grains are formed to improved the strength of the steel member by performing quick heating process after the cooling process.例文帳に追加
つまり、冷却工程の後に急速加熱工程を行うことにより多くの結晶粒が生成し、鋼部材の強度が向上する。 - 特許庁
The setting-up of a molding process prior to a carbonizing process permits the changing of a shape after the carbonization to a shape of granule form or pellet form.例文帳に追加
炭化工程の前に成形工程を設けることにより、炭化後の形状を顆粒・ペレット形状にすることが可能となる。 - 特許庁
After the compression process, a heat-reshaping process in which the compressed lumber is reshaped while being heated under the atmospheric air may further be performed.例文帳に追加
この圧縮工程の後、圧縮した木材を大気中で加熱しつつ整形する加熱整形工程をさらに行ってもよい。 - 特許庁
When a development process is carried out after a pattern exposure process, the resist film is removed from the film thickness measuring region 42 to make the region 42 flat.例文帳に追加
パターン露光を経て現像処理すると、膜厚測定領域42のレジスト膜を取り去り、平坦な状態にすることができる。 - 特許庁
The image obtained after removing noise in the process 12 is vectorized by a batch recognition function in a batch vectorization process 13.例文帳に追加
この除去工程12でノイズ除去後の画像を対象に一括認識機能により、一括ベクトル化工程13で、画像をベクトル化する。 - 特許庁
The POS terminal 11 is also provided with a function of registering sales of the fee for the downloading process after end of the downloading process.例文帳に追加
また、ダウンロード処理の終了後に当該ダウンロード処理によって生じた料金の売上を登録処理する機能を有する。 - 特許庁
After a GaN film is grown in a growth furnace in a process S101, a substrate product is taken out from the growth furnace in a process S103.例文帳に追加
工程S101で成長炉でGaN膜を成長した後に、工程S103で基板生産物を成長炉から取り出す。 - 特許庁
Then, each object after gradation correction is combined, and then a screen process and a pulse width modulation control process are carried out to form an image.例文帳に追加
そして、階調補正後の各オブジェクトを合成してスクリーン処理、パルス幅変調制御処理を行って画像形成を行う。 - 特許庁
In the manufacturing process, impressing voltage value at the aging process is reduced after a certain time or at a certain cycle.例文帳に追加
本発明では、エージング工程時の印加電圧値をある時間後に、あるいはある一定周期毎に低下させることを特徴としている。 - 特許庁
In the regular machining process, the product 12 is divided from the sheet material 11 after the preliminary machining process using a cutting edge 5 for regular machining.例文帳に追加
本加工工程において、本加工用切断刃5を用いて、予備加工工程後のシート材11から製品12が分割される。 - 特許庁
Finally, an equalization process is performed by using the estimated channel characteristic and the data signal is reproduced based on the signal after the equalization process.例文帳に追加
最後に、推定したチャネルの特性を用いて等化処理を行い、等化処理後の信号に基づいてデータ信号を再生する。 - 特許庁
According to the layout of the format of each process from data after addition, documented work instruction data of each process is created according to the output format.例文帳に追加
付加後のデータから各工程の書式のレイアウトに従って、各工程の作業指示書データを出力形式に従って作成する。 - 特許庁
In the cooling process, the melted active component is solidified by cooling the raw material composition after the completion of the heating process.例文帳に追加
冷却工程では、加熱工程完了後の原料組成物を冷却することにより溶融状態の活性成分を固化する。 - 特許庁
After the first process, the n^- epitaxial layer 2 is annealed at a temperature of 1,200°C or more and a melting point of the n^- epitaxial layer 2 or less (the second process).例文帳に追加
第1工程後、1200℃以上n^-エピタキシャル層2の融点以下の温度でn^-エピタキシャル層2をアニールする(第2工程)。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|