「Anodization」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Subsequently, the Al foil 11 is cleaned using a nitrohydrofluoric acid and distilled water, then, anodization is applied to the Al foil 11 in a solution of an adipic acid ammonium or ammonium pentaborate, thereby forming an anodic oxidation coating 13.例文帳に追加

続いて、フッ硝酸及び蒸留水を用いてＡｌ箔１１を洗浄し、その後、Ａｌ箔１１に対してアジピン酸アンモニウム又は五ホウ酸アンモニウム等の水溶液中で陽極化成処理を行うことにより、陽極酸化皮膜１３を形成する。 - 特許庁

By oxidizing the first internal electrodes or the second internal electrodes exposed to the first through-hole inner peripheral surfaces or the second through-hole inner peripheral surfaces by anodization, the first internal electrode insulation parts and/or the second internal electrode insulation parts are formed.例文帳に追加

第１貫通孔内周面または第２貫通孔内周面に露出した第１内部電極または第２内部電極を陽極酸化によって酸化させることにより、第１内部電極絶縁部および／または第２内部電極絶縁部を形成する。 - 特許庁

In this way, an electrolysis gas generated at the surface of the anode 11 during plating treatment is collected from the pores 111 and is exhausted to the outside of the system through the hollow part 112, and further, anodization or the like are suppressed by the diaphragm 12, thus high current efficiency can be obtained.例文帳に追加

これにより、メッキ処理中に陽極１１表面で発生した電解ガスは、気孔１１１から捕集され中空部１１２を通じて系外に排気されるとともに、隔膜１２により陽極酸化等が抑制され、高い電流効率が得られる。 - 特許庁

In an anodization apparatus, if a substrate holder 41 disposed in a storage tank 9 is allowed to hold a plurality of substrates and electrodes 21 and 23 are electrified, ions move between electrode tanks 21 and 23, which causes a chemical conversion reaction on the plurality of substrates through ion-exchange membranes 29 and 35.例文帳に追加

貯留槽９内に配置されている基板ホルダー４１に複数枚の基板を保持させ、電極２１，２３に通電すると、電極槽２１，２３間でイオンが移動し、イオン交換膜２９，３５を通して複数枚の基板に化成反応が生じる。 - 特許庁

A wet electrolytic capacitor is provided with: a porous anode body including a dielectric layer formed by anodization; a cathode including a metal base material covered with a conductive polymer; and an aqueous electrolyte disposed while abutting on the cathode and an anode.例文帳に追加

陽極酸化により形成された誘電体層を含む多孔質陽極体と、導電性ポリマーで被覆された金属基材を含む陰極と、陰極及び陽極に接触して配置された水性電解質とを備えた湿式電解コンデンサを開示する。 - 特許庁

Further, barrier type nonporous node oxidation films (BAO) 7 are formed between the electrode 4 and the film 5, and between the electrode 4 and the film 6 through anodization of the electrode 4.例文帳に追加

さらに、上記ゲート電極４を陽極酸化することにより、上記ゲート電極４と無孔質陽極酸化膜(ＭＡＯ)５との間およびゲート電極４と多孔質陽極酸化膜(ＳＡＯ)６との間にバリア型の無孔質陽極酸化膜(ＢＡＯ)７を形成する。 - 特許庁

To provide a method for masked anodization of an anodizable layer on a substrate, for example an aluminum layer present on a sacrificial layer, wherein the sacrificial layer needs to be removed from a cavity comprising a Micro or Nano ElectroMechanical System (MEMS or NEMS).例文帳に追加

基板上の陽極酸化可能な層、例えば犠牲層上に存在するアルミニウム層であって、該犠牲層は、マイクロ電気機械システム又はナノ電気機械システム（ＭＥＭＳ／ＮＥＭＳ）を備えたキャビティから除去する必要があるような層のマスク陽極酸化の方法を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, the potential difference between the substrate 3 and negative electrode 4 is detected by a voltage detecting element 11, and the current source 6 is turned off by a control part 12 when the potential difference detected by the element 11 begins to decrease to finish the anodization.例文帳に追加

また、電圧検出部１１は、ｎ形単結晶シリコン基板３と負極４との間の電位差を検出し、制御部１２は、電圧検出部１１により検出した電位差が低下し始めた時点で電流源６をオフさせることにより陽極酸化を終了させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a stamper by which a multi-rugged structure comprising a coarse rugged structure scattering light and a fine rugged structure having a period equal to or below the wavelength of visible light is formed on the surface by the anodization, and to provide a method of manufacturing a formed product using the stamper.例文帳に追加

光を散乱する粗い凹凸構造と、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造とからなるマルチ凹凸構造を陽極酸化によって表面に形成できるスタンパの製造方法及び該スタンパを用いた成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Anodization of the aluminum material is performed by controlling so that a bath temperature is 5-10°C, the concentration in a bath of sulfuric acid, oxalic acid or the like is 10-30 wt.% and current density in the bath is 0.1-0.6 A/dm^2 and by adding, at need, Zn, Mn, Mo and other metals.例文帳に追加

アルミニウム材料の陽極酸化処理時に浴温を−５〜１０℃に、硫酸，シュウ酸等の浴の濃度を１０〜３０ｗｔ％、浴電流を０.１〜０.６Ａ／ｄｍ^2にコントロールし、必要に応じてＺｎ，Ｍｎ，Ｍｏやその他の遷移金属イオンを添加して処理することを特徴とする。 - 特許庁

When the silicon substrate 101 is subjected to an anodization treatment, the first electrode 111 and the second electrode 112 are brought into contact with the rear of the substrate 101, and voltages are applied between the electrodes 111 and 112 and a negative electrode 105 respectively.例文帳に追加

シリコン基板１０１に陽極化成処理を施す際は、第１部分電極１１１及び第２部分電極１１２をシリコン基板１０１の裏面に当接させ、第１部分電極１１１及び第２部分電極１１２とマイナス電極１０５との間に電圧を印加する。 - 特許庁

In the hydration treatment method where Al or an Al alloy having an anodization film provided with a porous layer and a poreless barrier layer is dipped into heated treatment water, the treatment water is substantially made of pure water, and also comprises ionic silica.例文帳に追加

ポーラス層とポアのないバリア層とを備えた陽極酸化皮膜を有するＡｌまたはＡｌ合金を加熱した処理水中に浸漬することによる水和処理法であり、前記処理水が、実質的に純水からなり、かつイオン状シリカを含有することを特徴とする方法。 - 特許庁

According to the method, the anodization of the Al layer is done with the help of a first mask 20 which defines the area 21 to be anodized, and a second mask 22 which defines a second area to be anodized, the second area surrounding the first area.例文帳に追加

本発明の方法に従って、Ａｌ層の陽極酸化は、陽極酸化される領域２１を規定する第１マスク２０、及び陽極酸化される第２領域を規定する第２マスク２２であって、前記第２領域は第１領域を包囲するようなマスクの補助がある状態で行う。 - 特許庁

In an anodization apparatus, when a plurality of substrates are loaded on a first support unit 57 by alienating the first support unit 57 and a second support unit 73 disposed in a storage tank 9, the plurality of substrates are supported such that only the lower parts of the peripheral surfaces thereof are liquid-tight with an electrolyte solution.例文帳に追加

貯留槽９内に配置されている第１支持ユニット５７と第２支持ユニット７３とが離反され、複数枚の基板が第１支持ユニット５７に載置されることにより、前記基板の周面のうちの下部だけが電解質溶液に対して液密に支持される。 - 特許庁

To provide a dipping treatment method for reducing the power consumed, by turning off a heater power supply in standby when magazines are not thrown in integrated dipping treatment, for example anodization treatment, and to provide a dipping treating apparatus, an anodizing method, an anodizing apparatus, and a method for manufacturing a liquid crystal device.例文帳に追加

一体化された浸漬処理、例えば陽極酸化処理の中で、マガジンが投入されていない待機時にはヒータ電源をオフにして消費される電力を低減できる浸漬処理方法、浸漬処理装置、陽極酸化方法、陽極酸化装置及び液晶装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Between the lower electrode 2 and the function layer 5a, a second polycrystalline semiconductor layer 3b, which has a lower speed of anodization with the electrolytic solution as compared with the first polycrystalline semiconductor layer and which is to serve as a stop layer that selectively anodizes the first polycrystalline semiconductor layer, is provided directly under the function layer 5a.例文帳に追加

下部電極２と機能層５ａとの間において機能層５ａの直下に、第１の多結晶半導体層よりも電解液による陽極酸化速度が遅く第１の多結晶半導体層を選択的に陽極酸化処理するストップ層となる第２の多結晶半導体層３ｂが設けられている。 - 特許庁

To improve the problem that, when the whole of an Al film or a Ti film on an electrically conductive substrate is anodized to produce alumina or titania, the alumina or titania film is peeled from the substrate since a growth rate is nonuniform, and to perform the anodization to directly above the electrically conductive substrate with high precision.例文帳に追加

本発明の課題は、導電性基板上のAl膜あるいはTi膜をすべて陽極酸化しアルミナあるいはチタニアを作製する際に、成長レートが不均一であるため、アルミナあるいはチタニア膜が基板から剥離してしまうという問題を改善し、精度よく導電性基板直上まで陽極酸化することである。 - 特許庁

This invention relates to the anodization apparatus having the porous layer formed on the substrate to be treated which is arranged in an electrolyte solution by passing current between electrodes of an anode and a cathode in the electrolyte solution, wherein the electrode has a structure that at least metallic electrode member is covered with a non-metallic electrode member.例文帳に追加

電解質溶液中で陽極と陰極の電極間で通電して前記電解質溶液中に配置された被処理基板に多孔質層を形成する陽極酸化装置であって、前記電極は少なくとも金属電極部材が非金属電極部材で覆われた構造を有するものである陽極酸化装置。 - 特許庁

Nickel plating for a magnesium alloy is performed, thus an oxide film on the surface of magnesium is removed, and simultaneously, a nickel plating film of 1.9 to 10.0 μm is formed as an oxidation prevention layer, and next, by aluminum electroplating of ≥12 μm and anodization, the plating film having high corrosion resistance and excellent design properties is formed.例文帳に追加

マグネシウム合金用ニッケルめっきを行うことにより、マグネシウム表面の酸化膜を除去すると同時に酸化防止層として1.9〜10.1μmのニッケルめっき膜を形成し、次いで12μm以上の電解アルミニウムめっきと陽極酸化により高耐食性かつ意匠性に富んだめっき膜を形成する。 - 特許庁

To provide a surface treatment apparatus for partially forming an anodized coating on the outer circumferential face of the member to be treated consisting of an aluminum alloy by which the process and time of anodization treatment can be reduced while satisfying the quality of the anodized coating to be formed without using large-scale equipment and complicated control.例文帳に追加

大規模な設備や複雑な制御を用いることなく、生成される陽極酸化皮膜の品質を満足しながら陽極酸化処理の工程時間も低減可能な、アルミニウム合金からなる被処理部材の外周面に部分的に陽極酸化皮膜を形成する表面処理装置を提供すること。 - 特許庁

A substrate 1 composed of porous alumina in which a plurality of micropores 12a are formed by anodization, is used to fill a plurality of metal colloid particles 13 into each micropore 12a in the substrate 12 by coating, and thereafter, the metal colloid particles 13 are heated, thus organic molecules 13b are volatilized, and, further, the metal particulates 13a are dissolved.例文帳に追加

陽極酸化により複数の微細孔12ａが形成されたポーラスアルミナからなる基体12を用い、この基体12の各微細孔12ａ内に金属コロイド粒子13を塗布により複数個充填させた後、金属コロイド粒子13を加熱して有機分子13ｂを揮発させるとともに金属微粒子13ａを溶解させる。 - 特許庁

Then, the semiconductor layer 13, and a part directly below the semiconductor layer 13 in the semiconductor substrate 1 are made porous by anodization treatment, thus performing a process for making a film porous in which the electrical heating element 3 made of a second porous semiconductor layer and a heat-insulating layer 2 made of a first porous semiconductor layer are formed successively.例文帳に追加

次に、半導体層１３および半導体基板１における半導体層１３直下の部位を陽極酸化処理にて多孔質化することで第２の多孔質半導体層からなる発熱体３、第１の多孔質半導体層からなる断熱層２を順次形成する多孔質化工程を行う。 - 特許庁

The recessed structure with the high aspect ratio is formed by forming recessed portions directly or via a resist film on the surface of a semiconductor member by a physical operation, bringing an electrolyte into contact with the surface of the semiconductor on which the recessed portions are formed, performing anodization by using the inside of the semiconductor as a positive electrode, and deepening the recessed portions.例文帳に追加

半導体部材の表面に、直接またはレジスト膜を介し、物理的な操作を行なって凹部を形成し、凹部の形成された半導体部材の表面に電解液を接触させ、半導体内部を陽極として陽極酸化を行なって、凹部の深さを増大させることにより、アスペクト比の大きい凹み構造を形成する。 - 特許庁

In the active matrix type electrooptical device, a nonlinear element 10 used as a pixel switching element is provided with: a lower electrode 13 composed of an alloy film of tantalum and niobium; an insulator 14 obtained by subjecting the surface of the lower electrode 13 to anodization; and an upper electrode 15 confronted with the lower electrode 13 via the insulator 14.例文帳に追加

アクティブマトリクス型電気光学装置において、画素スイッチング素子として用いられる非線形素子１０は、タンタルとニオブとの合金膜からなる下部電極１３と、この下部電極１３の表面を陽極酸化してなる絶縁体１４と、この絶縁体１４を介して下部電極１３に対向する上部電極１５とを備えている。 - 特許庁

Alumina having fine recessed and projecting structure that distance between at least one of adjacent recessed parts and adjacent projecting parts is equal to or below the wavelength of visible ray is formed on a mirror surface of aluminum prototype free from roll mark by anodization and the height of the unevenness due to the crystal grain boundary is ≥600 nm.例文帳に追加

圧延痕のないアルミニウム原型の鏡面表面に、隣り合う凹部同士または凸部同士の少なくともいずれか一方の距離が可視光の波長以下の微細凹凸構造を有するアルミナが、陽極酸化により形成され、かつ、結晶粒界による凹凸の高さが６００ｎｍ以上であることを特徴とする鋳型。 - 特許庁

Since the anodization is carried out after a fine unevenness due to a chill layer or sand particles present on the surface of the joined surface in the cutting work is removed, the anodized coating film having a desired thickness to exhibit the rust preventive effect is formed with uniform thickness on the whole surface of the joined surface by controlling the voltage to be applied and voltage applying time.例文帳に追加

切削加工により接合面の表層に存在するチル層や砂粒子による細かい凹凸が除去された状態で、陽極酸化処理が行われることとなるので、印加電圧と電圧印加時間とを管理することで、防錆効果のある所望の厚さの陽極酸化処理被膜を、接合面全体に厚さ均一の状態に形成でき。 - 特許庁

Regarding the anodization method for an aluminum or aluminum alloy member in which voltage is applied to a treatment component 1 made of an aluminum or aluminum alloy member and immersed into a treatment bath 2, the treatment bath is made of a hydroxy acid aqueous solution, and the voltage is adjusted to a value of ≥270 V.例文帳に追加

処理浴２中に浸漬した、アルミニウム又はアルミニウム合金部材からなる処理部品１に電圧を印加することによるアルミニウム又はアルミニウム合金部材の陽極酸化処理方法であって、前記処理浴を、ヒドロキシ酸水溶液とし、前記電圧を、２７０Ｖ以上の値として調整するようにしてなることを特徴とする陽極酸化処理方法。 - 特許庁

A laminated substrate 100 obtained by laminating a first substrate 10 having a void-containing layer 2 (for example, a porous layer formed by anodization) on a main body substrate 1 and a layer containing no void 3 (for example, a single-crystal Si layer and insulating layer), and a second substrate 20 is housed in a sealed chamber and pressurized.例文帳に追加

本体基板１上に空洞含有層（例えば、陽極化成により形成された多孔質層）２を有し、その上に非空洞含有層（例えば、単結晶Ｓｉ層及び絶縁層）３を有する第１の基板１０と、第２の基板２０とを貼り合わせてなる貼り合わせ基板１００を密閉容器内に収容して圧力を印加する。 - 特許庁

In the cooling structure of electric or electronic equipment, the entire portion or one portion of a casing 5 of the electric or electronic equipment is formed by a far infrared radiation material 9 where a black anodization membrane is formed on the surface of a flat base made of an Al alloy, and the inside of the casing is cooled by the radiation of far infrared rays from the far infrared radiation material.例文帳に追加

電気又は電子機器のケーシング５の全体又は一部を、Ａｌ合金からなる板状基材の表面に黒色陽極酸化皮膜が形成されてなる遠赤外線放射材９によって形成し、遠赤外線放射材からの遠赤外線の放射によってケーシング内を冷却する電気又は電子機器の冷却構造を提供する。 - 特許庁

In the method of producing porous metal oxide by anodization, an electrolytic solution is obtained by mixing first acid of one or more selected from sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid and oxalic acid, and second acid of one or more selected from dicarboxylic acid and tricarboxylic acid.例文帳に追加

陽極酸化による多孔質金属酸化物の製造方法において、電解液は、硫酸、りん酸、クロム酸、しゅう酸から選択される１種又は２種以上の第一の酸と、ジカルボン酸あるいはトリカルボン酸から選択される１種又は２種以上の第二の酸とを混合したものであることを特徴とする多孔質金属酸化物の製造方法とした。 - 特許庁

The dipping treatment method including a process of performing dipping treatment (for example, anodization), and cleaning/drying to a substrate in which a metal film is formed as a thin film comprises a step for determining the start time for performing drying; and a step of determining time for turning on a heater so that a specified temperature is reached at the starting time.例文帳に追加

薄膜として金属膜が形成された基板に対して浸漬処理（例えば陽極酸化），洗浄及び乾燥を行なう工程を含む浸漬処理方法であって、乾燥を行なうための開始時間を決定するステップと、前記開始時間に所定の温度になるようにヒータをオンする時間を決定するステップと、を具備したものである。 - 特許庁

To provide a plating method in feed part in plating vessel which suppresses the concentration of plating at an end of continuous feeding of articles to be treated upon the feeding of rackless electric plating to the minimum, thereby, can enhance the precision drastically as compared to the conventional precision level and prevents spurious anodization to stabilize quality.例文帳に追加

本発明はラックレス電気メッキの投入時に於ける被処理物の連続投入の終端にメッキが集中することを最小限に押え、従来の高精度レベルよりも大幅に精度を引上げることが可能となると共に擬似陽極化を防止して品質が安定するメッキ槽内の投入部に於けるメッキ処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for anodizing an aluminum pipe for the base of a photoconductor drum, with which an anodized film can be formed on the surface of the pipe, and an aluminum pipe free from burr-shaped projection defects can be produced, and further, anodization for film formation can be carried out at high speed, and an anodized film which causes no significant elution of an electrolyte can be formed.例文帳に追加

管の表面に陽極酸化皮膜を形成できてササクレ状凸欠陥のないアルミニウム管の製造が可能となると共に、皮膜形成のための陽極酸化処理を高速で行うことができ、且つ電解質の溶出の少ない陽極酸化皮膜を形成できる、感光ドラム基体用アルミニウム管の陽極酸化処理方法を提供する。 - 特許庁

After an Al layer 3 and a metal seed layer 4 are formed, by a vapor deposition method, on a surface of an aluminum substrate 1 where an alumite coating 2 as an insulating film is formed using anodization, the Al layer 3 and alumite coating 2 are partially changed into a boehmite layer through hydration processing to form the boehmite layer 3a between the alumite coating 2 and metal seed layer 4.例文帳に追加

陽極酸化処理を用いて絶縁膜であるアルマイト皮膜２を形成したアルミニウム基板１の表面に、気相成長法によりＡｌ層３と金属シード層４を形成した後、水和処理によりＡｌ層３とアルマイト皮膜２の一部をベーマイト層に変化させ、アルマイト皮膜２と金属シード層４との間にベーマイト層３ａを形成する。 - 特許庁

The method for producing the aluminum electrode material includes the steps of: anodizing an aluminum material 1 in such a state as to align the resin spheres 2 on the surface of the aluminum material 1; and exposing outside, the aluminum base material 5 of the fine recessed bottom in which the resin spheres have existed by sequentially or simultaneously removing the resin spheres 2 and the anodized film 3 after anodization and making a peripheral anodized film remain.例文帳に追加

アルミニウム材１の表面に樹脂球２を配列させた状態で陽極酸化処理する工程と、陽極酸化処理後、前記樹脂球２と陽極酸化皮膜３とを順次的にまたは同時に除去して、樹脂球が存在していた微細凹部の底部のアルミニウム素地５を露出させ、周囲の陽極酸化皮膜を残存させる工程と、を含む。 - 特許庁

After forming a wiring electrode 1 on the upper surface of an aluminum substrate 3 while interposing a seed metal layer 4, anodization is performed according to the time corresponding to the width of a predetermined wiring electrode 1 thus obtaining a circuit board in which an alumite layer of a predetermined thickness is formed entirely on the upper layer of the aluminum substrate 3 including the lower part of the wiring electrode 1.例文帳に追加

アルミニウム基板３の上面にシードメタル層４を介して配線電極１を形成した後、所定の配線電極１の幅に対応した時間に応じて陽極酸化処理を行うことにより、配線電極１の下部も含めて、アルミニウム基板３の上層部全域に所定の厚みのアルマイト層を形成した回路基板であることを特徴とする。 - 特許庁

This self-compensation type spiral made of a paramagnetic alloy for a mechanical spiral balance-wheel oscillator in a clock wheel train or another precision instrument contains at least one kind of element among Nb, V, Ta, Ti, Zr and Hf, and is coated with a substantially homogenous oxide layer of a thickness of 20 nm or above formed by applying anodization treatment to the spiral.例文帳に追加

時計輪列または他の精密計器における機械的なスパイラル天輪ホイール振動器用の、常磁性合金から作られた自己補償型スパイラルは、Ｎｂ、Ｖ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆの元素の少なくとも１種を含有し、そして上記スパイラルに陽極酸化処理を施すことによって形成される２０ｎｍ以上の厚みを有する実質的に均質な酸化物層で被覆される。 - 特許庁

In the electrolytic oxidation treatment method, a metallic material composed of a metal capable of forming an oxide film by anodization method is subjected to repetition treatment of anode-cathode alternating electrolysis in an electrolytic solution comprising the hydroxide of alkali metal in fixed time continuation, respectively, thus an electrolytic oxide film having electrical conductivity and corrosion resistance is formed on the surface of the metallic material.例文帳に追加

陽極酸化法により酸化膜を形成できる金属からなる金属材に対して、アルカリ金属の水酸化物を含有する電解液中で、それぞれ一定の時間的継続を以て陽陰交番電解を反復処理することにより、前記金属材の表面に導電性と耐食性を有する電解酸化皮膜を形成させる電解酸化処理方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the microstructure obtains the microstructure having micropores on the surface thereof, by performing in this order: (A) a step of forming at least an oxide film 14 having the micropore 16 by anodization, on the surface of an aluminum substrate 12; and (B) a step of heating the oxide film 14 formed by the (A) at 50°C or higher for at least 10 minutes.例文帳に追加

（Ａ）アルミニウム基板１２表面に、少なくとも、陽極酸化処理によりマイクロポア１６を有する酸化皮膜１４を形成する処理、および（Ｂ）上記（Ａ）で形成された酸化皮膜１４を５０℃以上の温度で少なくとも１０分間加熱する処理、をこの順に施すことにより、表面にマイクロポアを有する微細構造体を得る、微細構造体の製造方法。 - 特許庁

To easily obtain an electrolytic capacitor with a large capacitance, which suppresses insulation drop of a dielectric layer being crystallized at anodizing, and the anodization is easily performed in a short time, in an electrolytic capacitor which is designed to anodize the positive electrode using a titanium and a titanium alloy to form a dielectric layer with a high dielectric constant on the surface of this positive electrode.例文帳に追加

チタン又はチタン合金を用いた陽極を陽極酸化させて、この陽極の表面に誘電率の高い誘電体層を形成するようにした電解コンデンサにおいて、陽極酸化時に誘電体層が結晶化して絶縁性が低下するのを抑制し、陽極酸化が短時間で簡単に行えて、高容量の電解コンデンサが容易に得られるようにする。 - 特許庁

In the method of manufacturing a metal member, a metal material containing aluminum as a main component is anodized in an anodization solution having a pH of 4 to 10 and containing a nonaqueous solvent having a dielectric constant smaller than that of water and capable of dissolving water, thereby forming a nonporous amorphous aluminum oxide passivation film on a surface of the metal member.例文帳に追加

アルミニウムを主成分とする金属材料を誘電率が水よりも小さくかつ水を溶解する非水溶媒を含むｐＨ４〜１０の化成液中で陽極酸化して金属材料の表面に無孔性非晶質膜アルミニウム酸化物不動態膜を形成する金属部材の製造方法であって、化成液の粘度を制御する工程を有することを特徴とする金属部材の製造方法。 - 特許庁

A stainless steel-and-resin composite includes: the shaped stainless steel base whose surface is coated by a film layer having innumerable pores with an average diameter of about 100-500 nm by anodization; and a resin member mainly composed of a crystalline thermoplastic resin, which is integrally bonded to the stainless steel base by being fitted into the pores of the surface by injection molding.例文帳に追加

本発明に係るステンレス鋼と樹脂の複合体は、陽極酸化処理によって、平均内径が１００〜５００ｎｍである無数の微細孔を有する膜層により表面が被覆されている形状化されたステンレス鋼基材と、結晶型熱可塑性樹脂を主成分とし、且つ射出成形によって前記表面の微細孔内に嵌め込まれて、前記ステンレス鋼基材と一体に接合される樹脂部材と、を備える。 - 特許庁

To provide a hydrogen catalyst member which can reduce a weight thereof, can be miniaturized, has high design flexibility and is optimally configured in accordance with heat circumstances in a hydrogen supply device, in the hydrogen catalyst member which performs dehydrogenation for taking out hydrogen or performing hydrogen addition for taking in hydrogen by using a medium which repeats chemically hydrogen storage and supply by means of catalyst carrier prepared by carrying a metal catalyst onto a porous oxide made by anodization.例文帳に追加

陽極酸化により多孔質酸化膜にし、それに金属触媒を担持した触媒担体により、化学的に水素貯蔵・供給を繰り返す媒体を用いて、水素を取り出す脱水素または水素を取り込む水素付加を行う水素触媒部材において、軽量化及び小型化を実現しながら、設計自由度が高く、水素供給装置内での熱状況に合わせて最適な水素触媒部材を構成する。 - 特許庁

The method of surface treatment by anodizing comprises: a pretreatment step of removing impurities and an oxide layer present on the surface of magnesium or a magnesium alloy using a strongly alkaline aqueous solution; and a micro-arc plasma anodization step of immersing the pre-treated magnesium or magnesium alloy in an alkaline electrolyte and applying a direct current having a current density of 3 A/dm^2 or less to the electrolyte to form a magnesium oxide coating.例文帳に追加

開示した陽極酸化表面処理方法は、強アルカリの水溶液を利用してマグネシウム又はマグネシウム合金表面の異物質と酸化層を除去する前処理工程と；該前処理工程を経たマグネシウム又はマグネシウム合金をアルカリ電解液中に浸した後、電流密度が３Ａ／ｄｍ^２以下の直流電流を加えてマグネシウム酸化物の皮膜コーティング層を形成する微細アークプラズマ陽極酸化工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the anodized alumina includes: a first anodizing step of forming the pores of a triangular lattice array by anodizing aluminum with a voltage v; a first alumina film removing step of removing the alumina film produced by anodization; and a second anodizing step of forming the pores by anodizing the aluminum with the alumina film produced in the first anodizing step removed with a voltage v/√3.例文帳に追加

アルミニウムを電圧ｖで陽極酸化して三角格子配列の細孔を形成する第１の陽極酸化工程と、該陽極酸化で生成されたアルミナ膜を除去する第１のアルミナ膜除去工程と、該第１の陽極酸化工程で生成されたアルミナ膜が除去されたアルミニウムを電圧ｖ／√３で陽極酸化して細孔を形成する第２の陽極酸化工程とを備えることを特徴とする陽極酸化アルミナの製造方法を提供する。 - 特許庁