「COMPRESSIVE STRESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

Thus, a residual austenite quantity in a depth position of 10 μm from a surface of a raceway surface 11a is set to 25-35%, and residual compressive stress in a depth position of at least 100 μm from the surface of the raceway surface 11a is set to 600 MPa or more.例文帳に追加

これにより、軌道面11aの表面から10μmの深さの位置での残留オーステナイト量25-35%、軌道面11aの表面から少なくとも100μmの深さの位置での残留圧縮応力６００MPa以上とする。 - 特許庁

And the film is formed by a thermal decomposition system of organic metal or sputtering to prevent the elution of the glass component and compressive stress is introduced to the surface of the glass to enhance the strength of the glass substrate.例文帳に追加

また、これらの膜を有機金属の熱分解方式あるいはスパッタリングで作製してガラス成分の溶出防止をすると同時に、ガラス表面に圧縮応力を導入してガラス基板の強度も向上させる。 - 特許庁

Then, a tensile nitride film 15 for inducing tensile stress to a channel of an NMOS transistor 3 is formed on the compressive nitride film 13 in the PMOS region 4 and on the Si substrate 1 in the NMOS region 5.例文帳に追加

次に、ＰＭＯＳ領域４では圧縮窒化膜１３上に、ＮＭＯＳ領域５ではＳｉ基板１上に、ＮＭＯＳトランジスタ３のチャネルに対し引張り応力を導入する引張り窒化膜１５を形成する。 - 特許庁

A tester has means (compressive stress adding device 5) for forming a sample 2 into a curved shape with an excitation direction of the sample 2 as an axis, and magnetically contacts and holds a yoke 1 with respect to the sample 2 in curved shape.例文帳に追加

試料２の励磁方向を軸として該試料２を湾曲形状にする手段（圧縮応力付加装置５）を有し、かつ該湾曲形状での試料２に対しヨーク１を磁気的に接触保持する試験器とする。 - 特許庁

In the warm shot-peening step S4, shots are projected while the spring element wire after the tempering is in the warm zone exceeding 100°C, and the compressive residual stress is generated to the deep position from the surface of the spring element wire.例文帳に追加

温間ショットピーニング工程Ｓ４では、焼戻し後のばね素線が１００℃を越える温間域にあるうちにショットが投射され、ばね素線の表面から深い位置まで圧縮残留応力が生じる。 - 特許庁

To improve surface strength (hardness and residual compressive stress) in a rolling part or a sliding part, to prevent shortage of oil film, and to improve durability with a simple method.例文帳に追加

比較的簡易な方法で、転動部や摺動部における表面強度（硬さおよび残留圧縮応力）を向上させることができると共に、油膜切れを防止することができて、耐久性の向上を可能にする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device using a semiconductor element capable of applying compressive stress to a region of a semiconductor film where carriers move is free from the material or film thickness of an interlayer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜の材料または膜厚にとらわれることなく、半導体膜のキャリアが移動する領域に圧縮応力を加えることができる半導体素子を用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁

Specifically, when forming the piezoelectric thin film layer 16 by a sputtering method, a bias not less than -30V nor more than 0V is applied to the substrate 11 at the time of sputtering to apply compressive stress to the piezoelectric thin film layer 16.例文帳に追加

具体的には、スパッタ法により圧電体薄膜層１６を形成する場合、そのスパッタ時に、基板１１に−３０Ｖ以上０Ｖ以下のバイアスを印加することで、圧電体薄膜層１６に圧縮応力を付与する。 - 特許庁

While the metal thin film 118 is not formed, the mirror substrate curves convexly, but after the metal thin film 18 is formed, the curvature of the mirror substrate is suppressed with its compressive stress and the mirror substrate becomes flat.例文帳に追加

金属薄膜１１８が成膜されない状態ではミラー基板は上に凸に湾曲するが、金属薄膜１１８を成膜した後は、その圧縮応力によりミラー基板は湾曲が抑えられ平坦になる。 - 特許庁

At construction of an underground structure, an annular support of reinforced concrete is used inside a breasting for bearing a circumferential compressive stress under an external force.例文帳に追加

地下構造物を構築するに際して、山留め壁の内側に、鉄筋コンクリート製の環状支保工を使用して外力による円周方向の圧縮応力度を負担させて地下構造物を構築する方法である。 - 特許庁

To provide a bending apparatus and a working method of a long size material by which compressive stress itself, which becomes a problem in push-through bending work using a conventional six-axis parallel linkage, which is generated during bending is reduced.例文帳に追加

従来の６軸パラレルリンク機構を用いた押通し曲げ加工で問題となる、曲げ加工中に発生する圧縮応力そのものを低減させた長尺材の曲げ加工装置及び加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a power transmitting chain where, when pretension is increased, and suitable residual compressive stress is applied to a link, the damage of a pin can be prevented, and to provide an apparatus for manufacturing the same.例文帳に追加

予張力を大きくしてより適切な残留圧縮応力をリンクに付与するに際し、ピンの損傷を防止することができる動力伝達チェーンの製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, hardness of an inner surface layer part of the through-hole 5 rises, the inside of the through-hole 5 is strengthened as compressive residual stress is introduced and fatigue strength of the crank throw 1, that is, fatigue strength of the crankshaft is improved.例文帳に追加

それにより、貫通孔５の内表層部の硬度が上昇し、圧縮残留応力が導入されて貫通孔５の内部が強化され、クランクスロー１の疲労強度、即ちクランク軸の疲労強度が改善される。 - 特許庁

A 7-MPa or more compressive stress layer 7 is formed from the welding end face 5 in the neck tube 2 and the funnel 12 and inner and outer surfaces 8 and 9 in their adjacent positions through the depth of 1/10 or more of the glass thickness.例文帳に追加

ネック管２及びファンネル12における溶着端面５とその近傍部位の内外表面8、9とからガラス肉厚の1／10以上の深さに亘って７ＭＰａ以上の圧縮応力層７を形成する。 - 特許庁

The surface of the part 110 within the surface treated region 136 is in a condition of residual compressive stress to prevent crack initiation at the boundary between the treated patch 132 and the remainder of the part 110.例文帳に追加

処理パッチ１３２と部品１１０の残る部分との境界における亀裂の始まりを妨げるように、表面処理領域１３６の内側における部品１１０の表面は、残留圧縮応力の状態にある。 - 特許庁

Another antifouling chemical for the receptacle pan is characterized by containing natural saccharides and/or natural proteins of a compressive stress of at least 150 g, measured by a rheometer, in a concentration of at most 20 mass% at 25°C.例文帳に追加

また、他のグリル受け皿汚れ防止剤は、２５℃において２０質量％以下の濃度で押圧応力が１５０ｇ以上となる天然多糖類及び／又は天然タンパク質を含有することを特徴とする。 - 特許庁

Since coefficient of expansion of the metal-frame is larger than coefficient of expansion of the glass, compressive stress occurs in the glass body, and the frame attached glass panel can be safely used as a wall material and a floor material since the impact strength becomes higher.例文帳に追加

金属枠の膨張係数がガラスの膨張係数よりも大きいため、ガラス体に圧縮応力が発生し、衝撃強度が強くなるので、この枠付ガラスパネルは壁材や床材として安全に使用できる。 - 特許庁

Furthermore, a tensile strain of -1.2% is introduced into a barrier layer inside the active region 15 so as to make up for stress caused by the compressive strain of the well layer, by which the semiconductor laser can be improved in reliability when it outputs a high power.例文帳に追加

さらに、活性領域１５内の障壁層に−１.２％の引張歪を導入して井戸層の圧縮歪による応力を補償することによって、高出力時の信頼性をさらに高くする。 - 特許庁

This constitution reduces a compressive stress since transformation contraction occurs due to the austenite transformation before temperature reaches a maximum temperature of 1000°C due to exhaust gas.例文帳に追加

これにより、昇温による熱膨張で圧縮応力が増大するにもかかわらず、排気ガスによる１０００℃の最高温度に至る前にオーステナイト変態により変態収縮するので、圧縮応力が低減する。 - 特許庁

This metallic part 110 which may be an airfoil 112 includes at least one treated patch 132, and the whole thickness of the part 110 on an inner side of the treatment patch 132 is in a condition of residual compressive stress.例文帳に追加

エーロフォイル１１２であってもよい金属部品１１０は、少なくとも１つの処理パッチ１３２を含み、処理パッチ１３２の内側における部品１１０の厚さ全体は、残留圧縮応力の状態にある。 - 特許庁

In the first process, the residual compressive stress is imparted to the inner surface by cooling the inner surface portions 32a, 32b, 37a and 37b after heating the outer surface portions 31a, 31b, 36a and 36b in the work 10.例文帳に追加

第１工程では、ワーク１０の外面部分３１ａ、３１ｂ、３２ａ及び３２ｂを加熱した後内面３２ａ、３２ｂ、３７ａ及び３７ｂを冷却することにより、内面に残留圧縮応力を付与する。 - 特許庁

The nitriding depth in the low-temperature nitriding can be increased by generating the compressive residual stress in the magnetic steel sheet through the shot-peening, and the quantity of nitrogen in the magnetic steel sheet can be increased.例文帳に追加

ショットピーニング処理により電磁鋼板に圧縮残留応力を発生させることにより、低温窒化処理における窒化深さを深くすることができ、電磁鋼板内における窒化量を増大させることができる。 - 特許庁

In the cooling process, compressive stress in an in-plane direction is applied to the ferroelectric substance due to the difference in the thermal coefficent of expansion, and a (c) axis in the ferroelectric substance is oriented in a thickness direction (vertical direction to a substrate surface).例文帳に追加

この冷却過程で熱膨張率の差により強誘電体に面内方向の圧縮応力が印加され、強誘電体のｃ軸が厚さ方向（基板面に対し垂直方向）に配向する。 - 特許庁

Thereby, compressive strain at the outer periphery side of the substrate is more reduced than that at the center side of the substrate, the stress of the substrate is relaxed and then the warping of the substrate is reduced and the occurrence of cracks is suppressed.例文帳に追加

これにより、基板外周部側の圧縮歪が基板中心部側の圧縮歪よりも低減し、基板の応力が緩和されので、基板の反りが低減するとともに、クラックの発生が抑制される。 - 特許庁

To provide a plating film capable of absorbing pressure, i.e., compressive stress on tin based plating particles by intermetallic compounds growing into the spaces of the plating particles as the main cause of generating whiskers.例文帳に追加

ウィスカの主発生原因となるスズ系めっき粒子間へ成長する金属間化合物によるめっき粒子の圧迫、すなわち圧縮応力を吸収することができるめっき皮膜を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a semiconductor component equipped with a semiconductor having the curved mirror integrated into the semiconductor monolithically, a semiconductor layer on a thinned stress fixing layer made of metal or an alloy is pressed via the stress fixing layer, thus giving compressive or tensile stress to the semiconductor layer for forming the curved semiconductor mirror.例文帳に追加

半導体が、モノリシックにより半導体に集積化されている湾曲ミラーを有している半導体を備えた半導体構成素子において、金属、または合金からなる薄肉化された応力固定層上の半導体層に対し、前記応力固定層を介して押圧を与えることにより前記半導体層に圧縮応力、または引っ張り応力を与え、湾曲した半導体ミラーを形成する。 - 特許庁

The degreasing method comprises the first step of preparing a ceramic laminate by laminating a plurality of unfired ceramic layers containing an organic component containing a plasticizer, the second step of removing the plasticizer by heating the ceramic laminate while compressive stress in the lamination direction is being applied to the ceramic laminate, and the third step of removing the remaining organic component by heating the ceramic laminate without applying compressive stress thereto.例文帳に追加

可塑剤を含む有機成分を含有する未焼成のセラミック層が複数積層されてなるセラミック積層体を準備する第１工程と、前記セラミック積層体に対して積層方向に圧縮応力を加えながら加熱を行い、前記可塑剤を脱脂する第２工程と、前記セラミック積層体に対して圧縮応力を加えずに加熱を行い、残りの有機成分を脱脂する第３工程とを備えるものである。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device which forms a tensile stress film and a compressive stress film, respectively, in an NMOS formation region and a PMOS formation region without causing such a problem as formation of a recess in an isolation portion or etching residue, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

素子分離部への凹部の形成やエッチング残りなどの問題を生じることなく、ＮＭＯＳ形成領域およびＰＭＯＳ形成領域にそれぞれ引張り応力膜および圧縮応力膜を選択的に形成することができる、半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁

A cold-worked Cu-Zn alloy containing at least 10% Zn is subjected to at least one treatment selected among shot peening, shot blasting, sand blasting, and steel ball shot blasting; thus, the tensile residual stress on the surface of the alloy is reduced or brought into the state of compressive residual stress.例文帳に追加

冷間加工を施した、少なくともＺｎを１０％より多く含むＣｕ−Ｚｎ系系合金に対して、ショットピーニング、ショットブラスト、サンドブラスト及び鋼球ショットブラストから選ばれる少なくとも１種該合金表面の引張残留応力を低減するかまたは圧縮残留応力の状態とする。 - 特許庁

The vibration plate 3 is formed with five layers of the constitutional films of a silicon oxide film 22 and a polysilicon film 23 having compressive stress deposited according to an LP-CVD method, a silicon nitride film 24 having tensile stress deposited according to the LP-CVD method, and a polysilicon film 25 and a silicon oxide film 26 deposited according to the LP-CVD method.例文帳に追加

振動板３を、ＬＰ−ＣＶＤ法で成膜された圧縮応力を有するシリコン酸化膜２２とポリシリコン膜２３、ＬＰ−ＣＶＤ法で成膜された引張応力を有するシリコン窒化膜２４、ＬＰ−ＣＶＤ法で成膜されたポリシリコン膜２５、シリコン酸化膜２６の５層の構成膜により形成する。 - 特許庁

In the liquid crystal panel produced by laminating transparent glass substrates 1, 2 with a columnar resin spacer 4 interposed and applying a sealing material 3 around the substrates by printing to join the substrates, the columnar resin spacer 4 is elastically deformed in the compressive direction to have assembling stress (initial stress) and accumulates elastic energy.例文帳に追加

透明ガラス基板１及び２を柱状の樹脂スペーサ４を介して重合し、周囲にシール材３を印刷して前記両基板が接合されてなる液晶表示パネルにおいて、柱状の樹脂スペーサ４は、圧縮方向に弾性変形して組立応力（初応力）を有しており、弾性エネルギを蓄えている。 - 特許庁

In a process of forming the piezoelectric thin film layer 16, a compressive stress is applied to the piezoelectric thin film layer 16 when it is formed in order to reduce the tensile stress occurring in the piezoelectric thin film layer 16 due to a difference in shrinkage between the substrate 11 and the piezoelectric thin film layer 16 when the piezoelectric thin film 16 is cooled after formation.例文帳に追加

圧電体薄膜層１６を形成する工程において、成膜時における圧電体薄膜層１６に圧縮応力を付与することにより、成膜後の冷却時に基板１１と圧電体薄膜層１６との収縮量の差によって圧電体薄膜層１６に生じる引張応力を緩和する。 - 特許庁

The apparatus 10 is the apparatus for forming an enlarged part at an optional position in a metallic shaft material (work W) and is provided with a fixed side rotating holder 11 and a pressurized bending side rotating holder 12 for giving a compressive stress and a bending stress to the work W while holding both end parts of the work W.例文帳に追加

軸肥大成形装置１０は、金属軸材（ワークＷ）における任意の位置に肥大部を形成するための装置であって、ワークＷの両端を保持しながら、ワークＷに対して圧縮応力と曲げ応力とを付与する固定側回転ホルダ１１と加圧・曲げ側回転ホルダ１２とを備えている。 - 特許庁

A heat shrinkable tube 12 covers a formed foaming material 11 and heat equivalent to the shrinking temperature of the heat shrinkable tube 12 is externally applied to the heat shrinkable tube 12 so as to allow the heat shrinkable tube 12 to be closely adhered to the outer surface of the foaming material 11 and cured, thereby strengthening resistance to tensile stress and compressive stress of the foaming material 11 having weak strength.例文帳に追加

成形した発泡材１１を熱収縮チューブ１２で覆い、外部から熱収縮チューブ１２の収縮温度の熱を加えて、熱収縮チューブ１２を発泡材１１の外表面に密着、硬化させ、強度の弱い発泡材１１の耐引張応力と耐圧縮応力を補強する。 - 特許庁

To provide a flexible/rigid multilayer printed circuit board which is improved in incorporating workability and effectively prevented from being disconnected by an improvement in durability while it is bent through a process of restraining the action of a very high restoring force caused by a compressive stress and a tensile stress generated at an FPC part composed of three FPC boards.例文帳に追加

３枚のＦＰＣ板よりなるＦＰＣ部分での圧縮応力及び引っ張り応力による著しい復元力の作用を抑制し、組み込みの作業性の向上と、屈曲時の耐久性の向上による断線の効果的な回避とを図り得るフレックスリジッド多層配線板を提供する。 - 特許庁

The process entails performing a first peening operation to form residual compressive stress layers in the near-surface region of the component, and then performing at least a second peening operation to cause surface smoothing of the surface of the component while retaining residual compressive stresses in the near-surface region of the component.例文帳に追加

この処理は、第１のピーニング工程を実施することによって部品の表面近くの領域内に残留圧縮応力層を形成するステップと、次に、少なくとも第２のピーニング工程を実施することによって部品の表面近くの領域内の残留圧縮応力を保持しながら部品の表面の表面平滑化を行うステップとを含む。 - 特許庁

The welding material consists of an iron based alloy containing Si in the range of 0.6 to 2.0 wt.%, and improves the strength of a welded joint by the introduction of compressive residual stress into the vicinity of the weld zone by transformation expansion.例文帳に追加

Ｓｉを０．６〜２．０重量％の範囲で含有する鉄基合金であって、変態膨張により溶接部近傍に圧縮残留応力を導入して溶接継手強度を向上させる溶接材料を提供する。 - 特許庁

To provide a shot peening processing method capable of giving high residual compressive stress even to metallic material having high hardness, and easily decreasing the surface roughness of a processed artricle, and to provide the processed article by using the shot peening processing.例文帳に追加

高硬度の金属素材においても高い残留圧縮応力を付与すると共に、被処理品表面粗さを小さくすることを容易に得ることができるショットピ−ニング処理方法、及び、それを用いた被処理品を提供する。 - 特許庁

The surface hardness of each surface layer part 3a is ≥700 Hv, the content of retained austenite in the surface layer part 3a is 15 to 50 vol%, and the residual compressive stress therein is 400 to 1,200 MPa.例文帳に追加

表層部３ａの表面硬さはＨｖ７００以上であり、表層部３ａの残留オーステナイト量は１５体積％以上５０体積％以下であり、残留圧縮応力は４００ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下である。 - 特許庁

As a result, compressive stress, generated when the AlCu layer is hardened is transferred to the Al_xTi_y alloy layer which is hardened on the lower surface of the AlCu layer, and amount of warpage X of a semiconductor wafer 41 containing a substrate 1, can be reduced.例文帳に追加

そのことで、ＡｌＣｕ層が硬化する際に発生する圧縮応力は、その下面に硬化するＡｌ_ｘＴｉ_ｙ合金層へと伝わり、基板１を含む半導体ウエハ４１の反り上がり量Ｘを低減することができる。 - 特許庁

The inorganic composition article comprises a Li_2O component and an Al_2O_3 component, wherein the mass percentage ratio of Li_2O to Al_2O_3 is ≥0.3, and at least one crystal phase, and has a compressive stress layer on its surface.例文帳に追加

Ｌｉ_２Ｏ成分と、Ａｌ_２Ｏ_３成分を含有し、Ｌｉ_２ＯとＡｌ_２Ｏ_３の質量％比率であるＬｉ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．３以上であり、結晶を含有し、表面に圧縮応力層を設けた無機組成物物品。 - 特許庁

Bolts 15 are allowed to penetrate the holes 13a of the bar and the holes 14a of the plate and fastened to apply tensile force to the reinforcing sheet 12 and in consequence to apply compressive stress to the cross section in the right-angled direction to an axis of the beam 11.例文帳に追加

棒の孔１３ａと板の孔１４ａへボルト１５を貫通させ締結することにより、補強シート１２に緊張力が作用するとともに、梁１１の軸直角方向断面に圧縮応力が作用することになる。 - 特許庁

To provide a method of more easily producing a composite roll in which suitable roll surface compressive residual stress is secured, and further, sufficient wear resistance can be obtained under optimum heat treatment conditions, and to provide the roll.例文帳に追加

本発明は、最適な熱処理条件を見出し、適切なロール表面圧縮残留応力を確保するとともに、十分な耐摩耗性の得られるより簡便な複合ロールの製造方法およびロールを提供することを目的とする。 - 特許庁

Before shot blast treatment, a casting surface 1s is subjected to shot peening treatment using spherical shot peening materials 2, compressive residual stress is applied to the surface part of the casting 1, and the surface part is made into a surface hardened layer 3.例文帳に追加

ショットブラスト処理前に、鋳物表面１ｓに対して球状のショットピーニング材２を用いてショットピーニング処理を行って、鋳物１の表面部に圧縮残留応力を付与し、表面部を表面硬化層３にする。 - 特許庁

To enhance a mechanical strength of a crystallized glass consisting of a β-quartz solid solution as a main crystal by a method capable of forming a compressive stress layer in the surface area while maintaining the appearance quality of the crystallized glass.例文帳に追加

結晶化ガラスの外観品位を維持しつつ、表面領域に圧縮応力層を形成し得る方法を提案することにより、β‐石英固溶体を主結晶とする結晶化ガラスの機械的強度を高めること。 - 特許庁