「Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the signal-to-noise ratio, and to improve detection of defects of edge, in edge flaw detections for components.例文帳に追加

部品の縁部の傷検出において 信号対雑音比を向上し 縁部の欠陥検出を改善する。 - 特許庁

To easily fix a sheet for preventing defects and noises on the floor surface of the load carrying platform of a dump car with a simple structure.例文帳に追加

傷や騒音防止用のシートを、ダンプカーの荷台の床面に、簡易な構成で簡易に固定すること。 - 特許庁

Through such a configuration, defects in discontinuous image display caused at the frame skip can be minimized.例文帳に追加

このような構成により、フレームスキップ時の不連続画像表示の不具合を最小限に抑えることが可能となる。 - 特許庁

Concavity and convexity-like defects are inspected by addition signal based on the signals from the photodetectors 19a and 19b concerned.例文帳に追加

この光検出器１９ａ、１９ｂの信号に基づく和信号によってシミ状欠陥を検査する。 - 特許庁

To reduce air bubbles generated from developer liquid by a simple configuration, and to reduce undissected defects of a resist pattern.例文帳に追加

現像液から発生する気泡を簡易な構成により低減させ、レジストパターンの未解像欠陥を低減させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a cast slab for continuous casting, for simply preventing powder defects, at a low cost.例文帳に追加

簡易的かつ低コストでパウダー欠陥を防止するための連続鋳造用鋳片の製造方法を提供する。 - 特許庁

To easily and surely detect display defects of a liquid crystal device with, for example, operator's visual observation.例文帳に追加

例えば、作業者の目視によって容易に、且つ確実に、液晶装置の表示不良を検出可能にする。 - 特許庁

To provide an exposure system which can reduce the wafers having line width defects caused by the delay in line width measurement when manufacturing wafers.例文帳に追加

線幅測定の遅延に起因した線幅不良のウエハの製造を減少させる露光システムを提供する。 - 特許庁

A support module run in the support operating system identifies and remedies defects associated with the host operating system.例文帳に追加

支援ＯＳ内で実行される支援モジュールがホストＯＳと関係付けられる障害を識別し修復する。 - 特許庁

Thus, both of suppression of image defects such as image deletion and a longer operational life of the photoreceptor are achieved.例文帳に追加

これにより画像流れ等の画像欠陥の抑制と、感光体の長寿命化とを両立することができる。 - 特許庁

The projection defects produced in the master stamper are fused by heating and reduced or removed by irradiation of laser beams.例文帳に追加

凸欠陥が除去されたマスターから、マスターと逆の凹凸パターンを有するマザーを電鋳法により製造する。 - 特許庁

PROCESS FOR REVEALING CRYSTALLINE DEFECTS AND/OR STRESS FIELDS AT MOLECULAR ADHESION INTERFACE OF TWO SOLID MATERIALS例文帳に追加

２つの固体材料の分子接着界面における結晶欠陥および／または応力場の顕在化プロセス - 特許庁

To provide a vehicle AC generator which can avoid insulation defects in a rectifier.例文帳に追加

整流装置における絶縁不良の発生を防止することができる車両用交流発電機を提供すること。 - 特許庁

To manufacture a high-quality transfer board having improved smoothness and a small number of defects by preventing the transfer board from being deformed.例文帳に追加

転写基板の変形を防ぎ、平滑性が良く、欠陥の少ない、高品質な転写基板を作製する。 - 特許庁

To detect defects in a minute wiring pattern formed on a sample by improving the contrast of an optical image of the sample formed by the interference between the zeroth and higher-order diffracted light of reflected light arising from illuminating light reflected by the sample surface, in a defects detecting optical system which detects defects in a pattern formed on the sample surface.例文帳に追加

試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の０次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁

The optical waveguide constituted of two-dimensional photonic crystals is based on line defects which is obtained by removing one column of air holes in the crystal coordination direction from the two-dimensional photonic crystal, and is constituted of a plurality of coupled air holes formed by mutually coupling a plurality of air holes located most inside the line defects to air holes at symmetrical positions with respect to the center axis of the line defects.例文帳に追加

２次元フォトニック結晶に構成される光導波路において、結晶配位方向の１列の空気孔を除去した線欠陥を基本とし、前記線欠陥の最も内側に配位された複数の空気孔を、前記線欠陥の中心を軸として対称位置にある空気孔と互いに連結させた複数の連結空気孔から構成する。 - 特許庁

The defect-type classification part 6 classifies the types of defects, by comparing a previously prepared reference waveform with the detected waveforms and comparing inspection waveforms, acquired by TFT array inspection for classifying the types of TFT defects, with a known reference waveform and determines the types of defects that cannot be distinguished by image display.例文帳に追加

欠陥種類分類部６は、予め用意しておいた基準波形を検出波形と比較することによって、ＴＦＴの欠陥の種類を分類するＴＦＴアレイ検査で取得した検査波形を、既知の基準波形と比較することによって、欠陥種類の分類を可能とし、画像表示では区別できない欠陥種類を判別する。 - 特許庁

To provide an inspecting device for semiconductor pattern where, when a semiconductor circuit pattern region of a sample is inspected, a clear contrast between a defective part and a base material is obtained, various patterns of defects, voids and foreign matters of various materials are detected, and the defects are classified using the result of detection of the inspected defects, and a method for inspecting semiconductor pattern.例文帳に追加

試料の半導体回路パターン領域の検査を行う際に、欠陥部と下地で明確なコントラストが得られ、幅広い種類のパターンの欠陥，空隙，各種材質の異物を検出でき、その検査された欠陥検出結果を用いて欠陥を分類することができる半導体パターン検査装置及び半導体パターン検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a detection method and a detection apparatus of stain defects that have high detection output also for a defect having a low contract or a small size, automatically determine a threshold for detection as the stain defects, based on statistical brightness data in a detected image, and further achieve the quantitative evaluation of the detected stain defects.例文帳に追加

コントラストの低い、あるいはサイズの小さい欠陥に対しても高い検出力を有するとともに、シミ欠陥として検出するための閾値を検出画像内の輝度統計データに基づいて自動的に決定し、さらに検出されたシミ欠陥の定量評価を可能にしたシミ欠陥の検出方法及びその検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having good conformability to a liquid for liquid immersion during liquid immersion exposure and having good coverage dependence, from which a pattern reduced in the occurrence of watermark defects, bubble defects and development scum defects can be formed, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

The coating film free from the defects is formed by providing the coating layer after providing the under coat layer, in which a light emitting agent is incorporated, irradiating the coating film layer with a lamp, by which the light emitting agent emits light, to detect the defects of the coating film and repairing the detected defects of the coating film.例文帳に追加

基体上にアンダーコート層を設けたのち被覆層を設けて被覆塗膜を形成する際に、発光剤を含有させたアンダーコート層を設けたのち被覆層を設け、ついで被覆層上に発光剤を発光させるランプを照射し、被覆塗膜の欠陥を検出し、検出した被覆塗膜の欠陥を補修し、欠陥のない被覆塗膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for simply and more accurately evaluating the number, intra-surface distribution, and density of crystal defects existing within a surface of a substrate, etc., as to an evaluation method wherein the substrate is etched by means of anisotropic etching to expose etching residues owing to crystal defects and the crystal defects are evaluated based on the etching residues.例文帳に追加

異方性エッチングによって基板をエッチングし、結晶欠陥に起因したエッチング残渣を露出させ、前記エッチング残渣に基づいて結晶欠陥を評価する評価方法において、基板等の表面内部に存在する結晶欠陥の数、面内分布及び密度等を簡便かつより高精度に評価する方法を提供する。 - 特許庁

The device for inspecting the image defects is configured so that defect detecting processing S3 detecting the defects appearing in the sensed image on the sample surfaces, and reinspection processing S6 conducting reinspection or deciding truth or falsehood at a place of detection in the sensed image regarding the defects detected by the defect detecting processing are carried out by the same processor element.例文帳に追加

試料の表面の撮像画像に現れる欠陥を検出する欠陥検出処理Ｓ３と、この欠陥検出処理欠陥により検出された欠陥に関して撮像画像中の検出箇所を再検査する又は真偽を判定する再検査処理Ｓ６とが、同一のプロセッサエレメントによって実行されるように画像欠陥検査装置を構成する。 - 特許庁

To provide a heat exchanger that allows eliminating defects in welded parts by enabling detection and identification of internal defects through an inspection using radioactive rays or the like and that is excellent in manufacturability and a method for manufacturing the heat exchanger.例文帳に追加

放射線等を用いた検査により内部欠陥を検知、識別することが可能となり溶接部の欠陥を無くすことができると共に、製作性に優れた、熱交換器及び熱交換器の製造を実現することを目的とする。 - 特許庁

To enable an inspector to perform visual understanding as the relationship between plate thickness and flaw detection and to precisely evaluate defects for an ultrasonic flaw detection method and an ultrasonic flaw detection device that inspect internal defects at a welded joint section or the like nondestructively.例文帳に追加

複数チャンネルでの探傷結果がそれぞれ別々に表示されているため、検査者がそれら複数の画像から一つの探傷画像を想像しながら欠陥評価をする必要があり、正確な探傷が行えない。 - 特許庁

To provide an etching method, by which the accuracy of a connection hole or end point control of the connecting hole can be enhanced and occurrence of defects in a semiconductor device can be suppressed, and to provide a semiconductor device in which defects are suppressed.例文帳に追加

接続孔または接続孔の終点制御の精度を高めることができ、半導体装置に欠陥が生じるのを抑制し得るエッチング方法、および欠陥が抑制された半導体装置を提供することにある。 - 特許庁

To efficiently grow a bulk single crystal SiC which is almost free from the occurrence of micro-pipe defects or crystal defects or the like, in which polycrystallization by enclosing Si-lumps does not occur and which has high quality and high performance.例文帳に追加

マイクロパイプ欠陥や結晶欠陥等の発生が少ないとともに、Ｓｉ塊の封じ込みによる多結晶化もなく、非常に高品質高性能で、かつ、バルク状の単結晶ＳｉＣを効率よく育成できるようにする。 - 特許庁

To provide a toner for electrostatic charge image development and a method for manufacturing the toner by which both of low temperature fixing property and heat-resistant storage property (free from image defects such as hollow transfer, halftone irregularity and stripe defects) are made compatible and odor is not caused.例文帳に追加

低温定着性と耐熱保存性（転写抜け、ハーフトーンムラ、スジ故障等の画像欠陥がない）を両立するとともに、臭気を発生しない静電荷像現像用トナー及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁

Defects on the plate 100 for the 1st state are inspected before contacting the carrier and the plate, and compared with the defects on the plate 100 for the 2nd state after contacting.例文帳に追加

密着前に第１状態の検査用基板１００での欠陥検査をし、密着後の第２状態の検査用基板１００での欠陥検査結果と第１状態の検査用基板１００での欠陥検査結果とを比較する。 - 特許庁

The formation state of the crystal defects on a substrate and information on distribution can be grasped with information on the type of defects, and feedback to the quality evaluation/manufacture process management, or the like of a substrate can be achieved effectively.例文帳に追加

結晶欠陥の基板上での形成状態や分布の情報を欠陥種別の情報と合わせて把握することができ、基板の品質評価や製造工程管理等へのフィードバックも有効に図ることが可能となる。 - 特許庁

To eliminate peeling of a reflection layer or defects like through-holes, and pixel defects like bright spots, by forming a protection layer which functions to avert the problems caused by the reaction between a developer and the reflection layer on the reflection layer.例文帳に追加

現像剤と反射層との間の反応により生じる問題を回避するように機能する保護層を反射層上に形成して、反射層の剥離又は貫通孔のような欠陥、及びブライトスポットのような画素の不良をなくす。 - 特許庁

To detect defects on the structure of a test object speedily and with an improved signal noise ratio in a circuit device for processing signals which are generated from the defects on the structure of the test object by ultrasonic waves during the nondestructive test of the test object.例文帳に追加

被検体の無破壊試験で被検体の構造の欠陥の超音波によって生じる信号の処理のための回路装置において、被検体の構造の欠陥を高速度で、かつ改善された信号雑音比で検出すること。 - 特許庁

To provide a method if producing a matrix array substrate by which production of fatal defects in a substrate resulting in that the whole substrate can no be used is prevented even when some defects are present in a gate line pattern and by which the production yield can be improved.例文帳に追加

ゲート線パターンに欠陥があるような場合であっても、基板全体が使用不可となるような致命的な欠陥の発生を防止し、歩留まりの向上が可能なマトリクスアレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, the number of the defects associated with the analysis information of the respective failure modes is counted, and thereby the total number of the defects associated with the respective failure modes as well as the content of the respective failure modes are displayed on the display unit.例文帳に追加

そして、各故障モードに係る解析情報に関連付けされた不良の数を計数させることにより、故障モードの内容と共に、当該故障モードに関連付けされた不良の総数を表示装置に表示させる。 - 特許庁

The optical disc drive of this invention has a signal processing means that finds defects based on the optical signals received from a disc and makes calculation for the tracking or focusing servo signals when there are any defects or no defect.例文帳に追加

本光ディスク装置は、ディスクからの受光信号に基づいてディフェクトを検出し、ディフェクト検出時および未検出時にトラッキングあるいはフォーカスサーボ信号に対して演算処理を行う信号処理手段を備える。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for inspecting defects capable of determining overlapping defects in the case that defect detection processing is performed on an object to be inspected by a plurality of defect detection means.例文帳に追加

検査対象物について、複数の欠陥検出手段によって欠陥検出処理を行った場合に、重複して検出された欠陥を判定することができる欠陥検査装置及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which solves the problem of image defects caused by dielectric breakdown of an amorphous silicon photoreceptor and in which occurrence of image defects is effectively prevented particularly even when a toner image is transferred using a transfer roller.例文帳に追加

アモルファスシリコン感光体の絶縁破壊により生じる画像欠陥の問題を解消し、特に転写ローラを用いてトナー像の転写を行った場合にも、画像欠陥が有効に防止された画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Thus, since a different level part by the lower electrode is absent when the upper electrode is formed, the etching residue of the second conductive film is not generated and pattern defects and yield decline due to the working defects are suppressed.例文帳に追加

したがって、上部電極を形成する際に下部電極による段差部がないので、第２の導電膜のエッチング残渣が発生することがなく、加工不良によるパターン欠陥や歩留まりの低下を抑制することができる。 - 特許庁

Even if penetration defects occur in each film in a film formation process, the base material covering the protective film is not exposed if the first and second film defects do not overlap, thus preventing chemical attack of the base material.例文帳に追加

成膜工程において各膜に貫通欠陥が発生しても、第１の膜、第２の膜の欠陥が重ならないと、前記保護膜に被覆された基材が露出しないので、その基材の化学的侵食を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display device which decreases the bright point defects and line defects of liquid crystal cells by laser repair processing regulating the energy of a laser beam and the sizes of slits for controlling the regions to be irradiated with the laser beam.例文帳に追加

レーザー光のエネルギーとレーザー光の照射する領域を制御するスリットのサイズを調整したレーザーリペア加工により、液晶セルの明点欠陥、線欠陥を低減した液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the foreign substances, defects or the like can be inspected with uniform sensitivity without relying on the rotation angle of the primary scanning direction even if the intensity of the scattered light which is generated from in the foreign substances, defects or the like is dependent on the illumination direction.例文帳に追加

これにより、異物や欠陥等に由来して発生する散乱光の強度が照明方向に依存する場合であっても主走査方向の回転角に依存せずに均一な感度で異物や欠陥等の検査が可能となる。 - 特許庁

Hereby, since defect detection processing of the circumferential flaw or the island defect can be performed stepwise separately from other defects, even if the number of defects to be detected is increased, a processing load of a data processing device can be reduced.例文帳に追加

これにより円周疵あるいは島状欠陥を他の欠陥と分離して欠陥検出処理を段階的に行うことができるので、検出される欠陥数が増加してもデータ処理装置の処理ロードを低減することができる。 - 特許庁

To provide a method and a device for correcting a mask defect which realize the reduction of liquid chemicals for use in washing and the facilitation of discrimination between foreign matters and black defects to thereby realize efficient correction of mask defects with a high reliability.例文帳に追加

洗浄に使用する薬液を減少させることができ、かつ、異物および黒欠陥の判定を容易にして、効率的かつ信頼性のあるマスク欠陥修正装置およびマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a large-area X-ray detector which minimizes the structural defects that are potentially generated at the formation of an amorphous selenium (a-Se) semiconductor thick film, minimizes the changes in defects, as nearing the charge trapping center, and the sensitivity of which will not deteriorate.例文帳に追加

アモルファス・セレン（ａ−Ｓｅ）半導体厚膜形成時に潜在的に生成される構造欠陥と、欠陥の電荷捕獲中心への変化を最低限に抑えて、感度が劣化しない大面積Ｘ線検出器を提供する。 - 特許庁

The void aggregate defects in a silicon layer 3 is set to 1×10^4/cm^2 or more, and the interface defects 6 on the interface at least between a surface oxide film 4 and the silicon layer 3 is set to 1×10^11/cm^2 or less.例文帳に追加

シリコン層３中の空孔集合体欠陥５を１×１０^4 個／ｃｍ^2 以上にするとともに、少なくとも、表面酸化膜４／シリコン層３の界面の界面欠陥６を１×１０^11個／ｃｍ^2 以下にする。 - 特許庁