「Design Rule」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In a design rule table DT, information is stored which defines a voltage level of a power supply signal and a voltage level to be supplied to a component.例文帳に追加

設計ルールテーブルＤＴには、電源信号の電圧レベル、及び部品に供給されるべき電圧レベルをそれぞれ定義する情報が格納されている。 - 特許庁

To avoid design rule violation regarding via density without decline in integration or without an increase in chip area even when a wiring cluster is used.例文帳に追加

束配線を用いた場合でも集積度の低下やチップ面積の増加を起こさずにビア密度に対するデザインルール違反を回避できるようにすること。 - 特許庁

To automatically design a fuzzy diagnostic rule, using the measured vibration/sound signal measured on an industrial rotating machine, for the fault diagnosis of the rotating machine.例文帳に追加

産業用の回転機械で測定された振動／音信号を利用し、その回転機械の故障診断のためのファジィ診断ルールを自動的に設計すること。 - 特許庁

SYNTAX ANALYSIS RULE INPUT SYSTEM TO BE USED FOR LANGUAGE DESIGN SUPPORT SYSTEM, SEMANTIC MAP INPUT SYSTEM, LEXICAL ANALYSIS INPUT SYSTEM AND VIRTUAL MACHINE SELECTION SYSTEM例文帳に追加

言語設計支援システムに用いる構文解析ルール入力システム、セマンティックマップ入力システム、字句解析入力システム、仮想マシン選択システム - 特許庁

To provide a floating-gate forming method for flash memory elements, whereby a space between floating gates can be minimized, using a comparably large design rule.例文帳に追加

比較的大きいデザインルールを用いてフローティングゲート間の間隔を最小化することができるフラッシュメモリ素子のフローティングゲート形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a nuclear reactor core design system for preparing a rule necessary for realizing an ideal fuel arrangement, and for preparing automatically the fuel arrangement used in core design of a nuclear reactor without requiring an input.例文帳に追加

理想の燃料配置を実現するために必要な規則を作成、及び、入力することなく、原子炉の炉心設計を行う際に用いる燃料配置を自動作成する原子炉炉心設計システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a layout creation device and a manufacturing method for a semiconductor circuit for preventing occurrence of a pseudo error in checking a design rule due to coexistence of an actual circuit pattern and a dummy pattern in a layout pattern for performing an accurate and reliable design rule check on the actual circuit pattern.例文帳に追加

レイアウトパターンにおける実回路パターンとダミーパターンとの混在に起因したデザインルール・チェック時の擬似エラーの発生を解消して、実回路パターンに対する正確で信頼性の高いデザインルール・チェックを行うことを可能とした半導体集積回路のレイアウト作成装置および半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve problems in layout design of a custom core such as memory core or analog core, in which it is difficult to recognize current information during manual layout design, and layout design based on electromigration becomes further difficult, resulting in increased man-hours for correction after layout design since a rule for electromigration is complicated due to segmented processes.例文帳に追加

メモリやアナログなどのカスタムコアのレイアウト設計では、人手によるレイアウト設計が多く、レイアウト設計中に電流情報の認識が困難であり、またエレクトロマイグレーションに関するルールがプロセスの微細化により複雑化するため、エレクトロマイグレーションを守ったレイアウト設計がより困難となり、レイアウト設計後の修正工数が大きい。 - 特許庁

To improve throughput and yield as the whole of processes at the time of forming an element pattern of different design rule by an exposure system different in resolution in a post stage.例文帳に追加

後工程で異なる解像度の露光系により異なるデザインルールの素子パターンを形成する際の工程全体としてのスループットと歩留まりの向上を図る。 - 特許庁

To provide a method of improving an yield of a semiconductor integrated circuit device which is maximized by correcting a layout of interest based on a fault rate of a design rule.例文帳に追加

デザインルールの欠陥率を用いて関心レイアウトを修正することによって歩留まりを極大化する半導体集積回路装置の歩留まり向上方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal spatial light modulator as a mask for exposure capable of accurately forming the desired mask pattern, even if making design rule to be more minute makes progress.例文帳に追加

設計ルールの微細化が進んでも、所望通りのマスクパターンを正確に形成することができる露光マスクとしての液晶空間光変調器を実現すること。 - 特許庁

A cell block 10 satisfies a predetermined design rule that is set for the field diffusing region, the gate forming region and the fixation of the potential of the well in the semiconductor device.例文帳に追加

そして、セルブロック１０は、半導体装置においてフィールド拡散領域およびゲート形成領域並びにウェルの電位固定に課される所定の設計ルールを満たす。 - 特許庁

To provide a method of acquiring and reusing an experience and a rule of thumb by a person in charge for core design, for enhancing process efficiency for developing a loading map.例文帳に追加

ローディングマップを開発するプロセスの効率を向上させるために、炉心設計担当者による経験及び経験則を獲得し、再利用するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a MOS semiconductor device capable of increasing channel density per unit area by the same design rule, and capable of reducing on-resistance; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

同一のデザインルールで、単位面積当たりのチャネル密度を高くでき、低オン抵抗とすることのできるＭＯＳ型半導体装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A width W_2 of each of the first dummy patterns 142 is smaller than a width W_1 of any of the circuit patterns 140, and is equal to a minimum design rule width, for example.例文帳に追加

そして、第１のダミーパターン１４２の幅Ｗ_2はいずれの回路パターン１４０の幅Ｗ_1より狭く、例えば最小デザインルールで規定されている幅である。 - 特許庁

In the liquid crystal display, openings of upper and lower substrates are formed in parallel to each other as far as possible for the sake of achieving the purpose while complying with a design rule.例文帳に追加

前記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置では、上下板の開口部を設計規則を守りながらできる限り平行に形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can be manufactured at a low cost even if the chip design rule and the chip size are changed, and also to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

チップの設計ルールが変更されてチップの寸法が変更されても低コストで製造することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The photographing date and hour information is information included in information attached to the photographed photograph images according to a prescribed file standard (e.g. DCF (design rule for camera file system) for a digital camera.例文帳に追加

撮影日時情報は、デジタルカメラの所定のファイル規格（例えば、ＤＣＦ）によって、撮影された写真画像に付与される情報に含まれる情報である。 - 特許庁

A specific application design rule (31) is applied to the resistance element and well region of the specific region so that the layout verification of margin value verification of the well region can be executed.例文帳に追加

この特定領域の抵抗素子およびウェル領域に対し特定用途デザインルール（３１）を適用して、ウェル領域の余裕値検証等のレイアウト検証を実行する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of rationally achieving a resistor element having a high resistance and high resistance accuracy and a nonvolatile semiconductor storage element even if a design rule is reduced.例文帳に追加

デザインルールが縮小しても高抵抗で抵抗精度の高い抵抗素子と不揮発性半導体記憶素子とを合理的に実現する半導体装置を提供する。 - 特許庁

Moreover, DCF (Design rule for Camera File system) fundamental thumbnail image data 118 are data of the result object which are executed the processing shown by the additional information tag 122 to thumbnail image data 116, and obtained.例文帳に追加

また、ＤＣＦ基本サムネイル画像データ１１８は、サムネイル画像データ１１６に付帯情報タグ１２２が示す処理が施されて得られた結果物のデータである。 - 特許庁

A constraint design rule and a library including AirGap defining the allowable range of circuit information and AirGap capacitive values described in RTL are input (ST101), and a net list is optimized, based on the circuit information and the design rule (ST102), and the total sum of the AirGap capacitive values of each logical cell described in the net list is calculated (ST103).例文帳に追加

ＲＴＬ記述の回路情報，ＡｉｒＧａｐ容積値の許容範囲を規定するＡｉｒＧａｐを含む制約設計ルール，ライブラリを入力し（ＳＴ１０１）、回路情報および設計ルールに基づいてネットリストを最適化し（ＳＴ１０２）、ネットリストに記述された各論理セルのＡｉｒＧａｐ容積値の総和を算出する（ＳＴ１０３）。 - 特許庁

A delay time calculation error between the timing design process 103 and the timing validation process 104 is calculated, and a minimum wiring width specified in a design rule is added, with a wide part containing the delay time calculation error, to generate a wiring pattern.例文帳に追加

タイミング設計工程１０３およびタイミング検証工程１０４間の遅延時間計算誤差を算出し、設計ルールで規定された最小配線幅に、前記遅延時間計算誤差を包含する幅広部分を加えた配線パターンを作成する。 - 特許庁

This design support device is provided with an equipment information database 14 in which equipment information is stored and a safety category database 15 in which safety relevant information including a safety category corresponding to equipment and the design rule of a safety circuit constituted of equipment are stored.例文帳に追加

機器情報が格納されている機器情報データベース１４と、機器が対応している安全カテゴリを含む安全関連情報，機器を用いて構成される安全回路の設計ルールを格納した安全カテゴリデータベース１５を備える。 - 特許庁

The initial arranging/wiring part 7-1 arranges and wires a function block in the arrangement/wiring region of the semiconductor device based on circuit drawing data, function block data, and design rule data.例文帳に追加

初期配置配線部７−１は、回路図データと機能ブロックデータと設計ルールデータとに基づいて、半導体装置の配置配線領域に機能ブロックの配置及び配線を行う。 - 特許庁

The verifying part 302 verifies whether the layout data 200 violates a design rule 310 on the basis of the representative form data 202 acquired by the acquiring part 301.例文帳に追加

また、検証部３０２は、取得部３０１によって取得された代表形式データ２０２に基づいて、レイアウトデータ２００が設計ルール３１０に違反しているか否かを検証する。 - 特許庁

To provide an electrical check system for circuit design capable of performing an appropriate electrical check by reducing a workload during a rule check in designing circuits of a PCB and a PWB.例文帳に追加

ＰＣＢ、ＰＷＢの回路設計におけるルールチェックに際し、作業の負担を軽減し、適切な電気的チェックを行うことのできる回路デザイン電気的チェックシステムを提供する。 - 特許庁

A signal limitation file reading unit 130 reads a signal to be fixed when checking a design rule and the signal limitation information such as a logical value from a signal limitation file 120.例文帳に追加

信号制約ファイル読み込み部１３０は、信号制約ファイル１２０から設計ルールチェックを行う際に固定するべき信号とその論理値等の信号制約情報を読み込む。 - 特許庁

According to the reference layout rule, equipment/piping/passage and a software volume of each floor are set as equipment layout positions on the coordinate system to form an equipment layout design drawing.例文帳に追加

前記基準配置ルールに沿って、機器・配管・通路および各階毎床のソフトボリュームを前記座標系上に機器配置位置として設置して機器配置設計図面を作成する。 - 特許庁

(1) If a right of priority is claimed by reason of an application for registration of a design(referred to in this rule as the priority application) filed例文帳に追加

(1)次の場所においてなされた意匠登録出願を理由に優先権が主張された場合は(本規則においては「優先権出願」という)，当該優先権の詳細を願書に含める。 - 特許庁

To provide a mask blank that prevents disappearance of a resist pattern and also prevent a pattern defect upon producing a transfer mask by a semiconductor design rule (for a DRAM with hp half pitch of 65 nm or less), and also to provide a mask.例文帳に追加

半導体デザインルール（ＤＲＡＭ ｈｐ６５ｎｍ以下）の転写用マスクを作製する際、レジストパターンの消失を防止し、パターン欠陥を防止できるマスクブランク、及びマスクを提供する。 - 特許庁

The verification part 302 verifies whether the layout data 200 violates to a design rule 310 or not, based on the representation form data 202 acquired by the acquiring part 301.例文帳に追加

また、検証部３０２は、取得部３０１によって取得された代表形式データ２０２に基づいて、レイアウトデータ２００が設計ルール３１０に違反しているか否かを検証する。 - 特許庁

A first light source shape is calculated on the basis of at least two pattern layouts defined in a design rule used when a semiconductor device is manufactured.例文帳に追加

本発明の一つの実施形態によれば、半導体装置を作製する際に用いるデザインルールで規定された少なくとも２つのパターンレイアウトに基づいて、第１の光源形状を算出する。 - 特許庁

Once an optimum separation is calculated, it is incorporated into the design rule to optimize the mask layout for improved ILS throughout the mask, including critical and non-critical parts of the mask.例文帳に追加

計算された最適な離間距離は設計ルール内に取り込まれ、マスクレイアウトは最適化され、マスクのクリティカル及び非クリティカル部分を含むマスク全体にわたってＩＬＳが改善される。 - 特許庁

In a semiconductor device layout method, a minimum space specified by a design rule is equal to or smaller than the via concerning the width and space of the via and a metal interconnecting line.例文帳に追加

デザインルールにおいて規定される最小スペースが、ビア及びメタル配線の巾と間隔に関して、同等、又は、ビアの方が大きい半導体装置レイアウト方法に係る発明である。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an interlayer insulating layer that has superior embedding characteristic of adjacent wiring layers even in the design rule of 0.13 μm generation or lower, for example.例文帳に追加

例えば０．１３μｍ世代以下のデザインルールであっても、隣接する配線層間の埋め込み性に優れた層間絶縁層を有する半導体装置、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Related to connection to other cells such as a random logic 20, a violation in the design rule is avoided from occurring between a via contact of the random logic 20 and the via contact 4 of the function macro 2.例文帳に追加

ランダムロジック２０等の他のセルとの接続においてランダムロジック２０のヴィアコンタクトと機能マクロ２のヴィアコンタクト４との間でデザインルールの違反が起こることを避けることができる。 - 特許庁

To provide an exposure system which is capable of forming resist patterns each having an identical line width with each of a plurality of photomasks used to manufacture semiconductor devices that are classified into the same product group and conform to the same design rule.例文帳に追加

同一デザインルールかつ同一製品群の半導体装置の製造に用いる複数のフォトマスクのそれぞれで、同一線幅のレジストパターンを形成可能な露光システムを提供する。 - 特許庁

Then, a provisional net is generated by synthesizing the initial data and the executed result of the 2-terminal net generation processing and the provisional net is corrected so as to satisfy the design rule of the package.例文帳に追加

そして初期データと、２端子ネット発生処理の実行結果とを合成することにより暫定ネットを発生し、この暫定ネットをパッケージの設計ルールを満たすように修正する。 - 特許庁

Layout polygonal data forming the test pattern is created, and informations on a design rule identifier, a check sort of rule, a check value, a fine adjustment range of check pattern, and steps are added to an edge of a counterpart as a checking object of polygonal data within a predetermined range, thereby, the correct test pattern can be formed.例文帳に追加

テストパターンを構成するレイアウトのポリゴンデータを作成し、そのポリゴンデータのチェック対象となる対のエッジに、デザインルール識別子、ルールのチェック種別、チェック値、チェックパターンの微調整範囲およびステップの情報を、所定の範囲内で順次付加させていくことで正しいテストパターンを生成する。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic [440], design rule check [450], optical process correction [430], and phase mask shift assignment [420]).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図［４４０]、設計ルールチェック[４５０]、光学プロセス修正[４３０]、位相マスクシフト割り当て[４２０]）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic 440, design rule check 450, optical process correction 430, and phase shift mask assignment 420).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図４４０、設計ルールチェック４５０、光学プロセス修正４３０、位相マスクシフト割り当て４２０）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

To provide a system for manufacturing newspaper requiring the variety and complexity of, especially, a nombre (pagination) design for solving the problem of software maintenance and management related with a nombre generation processing program and a nombre generation rule, and reducing the workload of a human being when changing a nombre design.例文帳に追加

特にノンブルのデザインにおいて多様性・複雑性を求められる新聞製作用のシステムにおいて、ノンブル生成処理用プログラムとノンブル生成ルールに関するソフトウェア保守・管理の問題を解決し、ノンブルデザイン変更時の人間の作業量を軽減すること。 - 特許庁

A critical area in which the yield can be estimated is defined as an evaluation cost, the evaluation cost is calculated by giving the predetermined dust distribution data to a plurality of layout data designed with the predetermined design rule to change the wiring width and wiring interval within the predetermined range, and the wiring width and the wiring interval which result in the minimum evaluation cost is determined as the design rule.例文帳に追加

歩留りの予測が可能なクリティカルエリアを評価コストと定義し、所定の設計ルールで設計された複数のレイアウトデータに対して所定のダスト分布データを与え配線幅と配線間隔を定められた範囲内で変化させて評価コストを算出し、その中から最小の評価コストとなる配線幅と配線間隔を設計ルールとするように構成する。 - 特許庁

When the roof floor of the house is designed in correspondence with purposes, a design selected from among a plurality of installations constituted of a plurality of design examples for the roof floor prepaired in advance, every price list for roof floor structures constituting the examples and every estimated price list or the like including prices of all roof floor structures is designed in accordance with a design rule set in advance.例文帳に追加

住宅の屋上を用途に対応させて設計するに際し、予め用意された複数の屋上の設計例や該例を構成する屋上設置物毎の価格表，全ての屋上設置物の価格を含む積算表等からなる複数のツールの中から選択し、予め設定された設計規則に従って設計する。 - 特許庁