「Design Rule」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

In this rule database method, a database 14 is prepared at first, and secondly a set of symbol equations are converted into a spread sheet formula, and thirdly the spread sheet formula is written in a spread sheet 18, and fourthly a set of parameters of the database 14 are shared with a computer support design geometry 22.例文帳に追加

規則データベース方法は、最初に、データベース（１４）を作り、２番目に、一組の記号方程式をスプレッドシート公式に変換し、３番目に、スプレッドシート公式をスプレッドシート（１８）に書き、４番目に、データベース（１４）の一組のパラメータをコンピュータ支援設計ジオメトリ（２２）と共有することを含む。 - 特許庁

This device comprises a library reading section 101, a design rule reading section 102, a net list reading section 103, a boundary recognition section 104 recognizing a boundary wire of a block in a lower layer, and a lower layer recognition section 105 recognizing in an upper layer the boundary wire of the simplified lower layer block.例文帳に追加

ライブラリ読み込み部１０１と、デザインルール読み込み部１０２と、ネットリスト読み込み部１０３と、下階層のブロックの境界配線を認識する境界認識部１０４と、簡易化した下階層ブロックの境界配線を上位層において認識する下位層認識部１０５と、を有する。 - 特許庁

To provide a generation method for mask data applied to manufacture of a semiconductor device provided with an inter-layer insulating layer with an excellent embedding property between adjacent wiring layers even for a design rule of 0.13 μm generation or lower for instance, and a mask, a recording medium and a manufacturing method for the semiconductor device.例文帳に追加

例えば０．１３μｍ世代以下のデザインルールであっても、隣接する配線層間の埋め込み性に優れた層間絶縁層を有する半導体装置の製造に適用されるマスクデータの生成方法、マスクおよび記録媒体、ならびに半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of rectangular figure data are generated at a coordinate position of a shield line 115 which can lead out a clock branch not to cause any line short or design rule error from a clock main line 112 to a block 105 having a clock input terminal 114b arranged at an arbitrary place.例文帳に追加

そして、クロック幹線１１２から、任意の場所に配置されたクロック入力端子１１４ｂを持つブロック１０５に対して、配線ショートまたはデザインルールエラーとならないようにクロック支線を引き出すことが可能なシールド配線１１５の座標位置に、予め複数の矩形の図形データを作成する。 - 特許庁

To simplify a system by simplifying design preparation of a control system for attaining the bank angle of an airframe computed according to a guide rule in guidance to a target point or a target path, and minimizing the changeover of a gain due to the change of flying environment and an airframe state.例文帳に追加

目標地点や目標経路に誘導する際に、誘導則によって算出される機体のバンク角を達成するための制御方式の設計準備を簡略化させ、飛行環境や機体状態の変化によるゲインの切り替えを最小限に抑えてシステムを簡略化させる。 - 特許庁

Provided that the requirements of this rule and clause (b) of Sub-section (1) of Section 15 of the Act shall be dispensed with as regards - (i) textile goods in which the design is printed or woven, other than handkerchiefs; and (ii) articles made of charcoal dust, which are brittle and which are now sold in single pieces. 例文帳に追加

ただし，本規則及び法第15条(1)(b)の要件については，次の場合は適用されない。 (i) ハンカチーフ以外であって，意匠が印刷され又は織り込まれた織物，及び (ii) 木炭粉から構成されている物品であって，脆いもの，かつ現に単片として販売されているもの - 特許庁

A transistor (see figure (a)) configuring a pulse delay circuit is compared with a transistor (see (b)) configuring a latch & encoder 12, and transistor length (pattern width of gate Gp, Gn) L is designed so as to be doubled (that is, the minimum line width of a design rule is doubled), and the transistor width is designed so as to be doubled.例文帳に追加

パルス遅延回路を構成するトランジスタ（図２（ａ）参照）は、ラッチ＆エンコーダ１２を構成するトランジスタ（図２（ｂ）参照）と比較して、トランジスタ長（ゲートＧｐ，Ｇｎのパターン幅）Ｌを２倍（設計ルールの最小線幅の２倍）、トランジスタ幅も約２倍に設計する。 - 特許庁

A specific (unique) character code showing original image data is given to a free character D2 of a DCF (design rule for camera file system) directory name and a free character F1 of a file name, and the original image data are identified and extracted among a plurality of image file groups including other device image data with high probability on the basis of the character code.例文帳に追加

画像記録時にＤＣＦディレクトリ名の自由文字Ｄ２、及びファイル名の自由文字Ｆ１へオリジナル画像データを示す特定（固有）の文字コードを与え、これを元に、高い確率で他機器画像データを含む複数の画像ファイル群からオリジナル画像データを識別し、抽出する。 - 特許庁

A mathematical formula indicating the relation between values of factors related to the life of soldered joint sections and the life of the soldered joint sections in the case that repetitive loads due to temperature changes are exerted is previously stored in a design rule database 11 in a data storage part 11.例文帳に追加

データ記憶部１１内の設計ルールデータベース１１には、温度変化による繰り返し負荷が与えられた場合における、はんだ接続部の寿命に関連する因子の値と当該はんだ接続部の寿命との関係を表す数式があらかじめ格納されている。 - 特許庁

The semiconductor integrated circuit device sets power-off priorities for each independent power area of AreaA to AreaI and establishes a rule that when higher-priority circuits are powered on, the power areas with lower priorities can not be powered off so as to simplify a design method thereof.例文帳に追加

半導体集積回路装置において、各独立した電源領域ＡｒｅａＡ〜ＡｒｅａＩごとに電源遮断の優先順を設け、優先順の高い回路がＯＮしている場合にはそれより優先順の低い電源領域はＯＦＦにできないという規則を設けて、設計方法の容易化を図る。 - 特許庁

In this semiconductor integrated circuit device, a priority order of power shutdown is set for each of power regions Area A-Area I independently of one another, a rule that the power area having a priority order lower than that of a circuit having a high priority order cannot be turned off when the circuit is on is established, and thereby a design method is facilitated.例文帳に追加

半導体集積回路装置において、各独立した電源領域ＡｒｅａＡ〜ＡｒｅａＩごとに電源遮断の優先順を設け、優先順の高い回路がＯＮしている場合にはそれより優先順の低い電源領域はＯＦＦにできないという規則を設けて、設計方法の容易化を図る。 - 特許庁

To provide an electrooptical device of high definition and of high display quality by changing a rubbing direction to control alignment of an electrooptical substance such as liquid crystal molecules to transfer a disclination generating region and using a design rule of transparent electrodes corresponding thereto, in the electrooptical device.例文帳に追加

本発明は、電気光学装置において、電気光学物質、例えば、液晶分子の配向を制御するラビング方向を変更することにより、ディスクリネーションの発生領域を移動させ、それに対応した透明電極の設計ルールを用いることにより、高精細かつ表示品位の高い電気光学装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor capable of obtaining a desired working speed and a desired optical sensing property from an element to which a design rule of a hyperfine line width is applied and capable of inhibiting the generation of a leakage current in a floating diffusion area which is a sensing node in a pixel region, a pixel of the image sensor, and a method of manufacturing the image sensor.例文帳に追加

超微細な線幅のデザインルールが適用される素子から所望の動作速度と光感知特性とを得ることができ、画素領域のセンシングノードである浮遊拡散領域の漏れ電流の発生を抑制することができるＣＭＯＳイメージセンサ、その画素及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since the above-described method is not only capable of forming a silicide film which does not contain the discontinuous part on a semiconductor gate electrode having the design rule of equal to or less than 80 nm but also not in need for an additional annealing process at a process for connecting the discontinuous part, it is possible to prevent the characteristic degradation of a transistor.例文帳に追加

前述した方法は、８０ｎｍ以下のデザインルールを有する半導体ゲート電極上に不連続部分を含まないシリサイド膜を形成することができるのみならず、不連続部分を連結する工程で追加熱処理工程を行わなくても良いので、トランジスタの特性劣化を防止することができる。 - 特許庁

In a document design terminal device 1, a form component indication selecting part 11 indicates, to a document designer in a GUI adaptation format, candidates of form components formed by dividing a form description where a control rule for converting a structured document in a display form of an aligned appearance is described in a form describing language.例文帳に追加

文書設計端末装置１で、フォーム部品提示選択部１１は、構造化文書を整った体裁で表示する形式に変換するための制御ルールをフォーム記述言語で記述したフォーム記述を部品化したフォーム部品の候補をＧＵＩ適合形式で文書設計者に提示する。 - 特許庁

A function macro 2 comprises wiring layers 5 and 6 of two or more layers allocated in a connection pin region 1, and a via contact 4 allocated in a region except for a region (contact inhibited region) 3 which is extended from the connection region 1 and the end part of the connection pin region 1 by a specified distance determined by a design rule.例文帳に追加

機能マクロ２は、接続ピン領域１に配置された２層以上の配線層５、６と、接続ピン領域１及び接続ピン領域１の端部からデザインルールから定まる所定の距離だけ広げた領域（コンタクト禁止領域）３以外の領域に配置されたヴィアコンタクト４とを有する。 - 特許庁

A circuit checking part 101 refers to a database file 202 and the design rule table DT, checks a circuit diagram designated by the file 202, extracts a component to which a voltage level which should not be supplied will be supplied, wraps up information on the component as the check result in an error report file ER, and outputs it.例文帳に追加

回路チェック部１０１は、データベースファイル２０２、及び設計ルーツテーブルＤＴを参照して、そのファイル２０２から特定される回路図のチェックを行い、供給されるべきでない電圧レベルが供給される部品を抽出し、その部品についての情報をチェック結果としてエラーレポートファイルＥＲにまとめて出力する。 - 特許庁

As a result, irrespective of reduction in design rule, the generation of dishing present condition in the measurement patterns is controlled using dummy patterns, while the measurement patterns corresponding to the beam size of the measuring facility are being formed in a sufficient size in the scribing region which is distant from the chip region, and consequently the measurement reliability is raised.例文帳に追加

よって、デザインルールの減少に関係なく計測設備のビームサイズに対応する測定用パターンをチップ領域から離れたスクライブ領域に十分なサイズで形成させつつダミーパターンを利用して測定用パターンでのディッシング現状の発生を抑制し、測定の信頼度を向上させられる。 - 特許庁

To quantitatively determine a shape of a semiconductor wafer, in particular, a shape of outer circumferential shape of the wafer, in a view point different from a conventional SFQR or the like, in shape quality of the wafer, and to allow exact evaluation even for specification of severe design rule.例文帳に追加

ウエーハの形状品質を従来のＳＦＱＲ等とは異なる観点から、半導体ウエーハの形状、特にウエーハ外周部の形状を定量的に評価でき、かつ厳しいデザインルールの仕様に対しても的確に評価することができる半導体ウエーハの形状評価方法及び形状評価装置を提供する。 - 特許庁

To thin a light-shielding layer (i.e., to thin a light-shielding film and a transfer pattern) necessary for generations of DRAM half-pitch (hp) 45 nm and after in a semiconductor design rule, especially for a generation of hp 32-22 nm, as to a photomask blank to be used for manufacturing a photomask for ArF eximer laser exposure.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー露光用フォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクに関し、半導体デザインルールにおけるＤＲＡＭハーフピッチ（ｈｐ）４５ｎｍ以降の世代、特にｈｐ３２−２２ｎｍ世代に必要な遮光層の薄膜化（ひいては遮光膜、転写パターンの薄膜化）を目的とする。 - 特許庁

119.3. The following provisions relating to patents shall apply mutatis mutandis to a layout -design of integrated circuits registration: Section 28 - Right to a Patent; Section 29 - First to File Rule; Section 30 - Inventions Created Pursuant to a Commission; Section 33 - Appointment of Agent or Representative; Section 56 - Surrender of Patent; Section 57 - Correction of Mistakes of the Office; Section 58 - Correction of Mistakes in the Application; Section 59 - Changes in Patents; Section 60 - Form and Publication of Amendment; CHAPTER VII - Remedies of a Person with a Right to Patent; CHAPTER VIII - Rights of Patentees and Infringement of Patents: Provided, That the layout-design rights and limitation of layout-design rights provided hereunder shall govern: CHAPTER X - Compulsory Licensing; CHAPTER XI - Assignment and Transmission of Rights例文帳に追加

119.3次の特許に係る条項は，，集積回路の回路配置登録に準用する。 第28条 特許を受ける権利 第29条 先願主義 第30条 委託によりなされた発明 第33条 代理人又は代表者の任命 第56条 特許の放棄 第57条 庁による誤りの訂正 第58条 出願における誤りの訂正 第59条 特許における変更 第60条 補正の様式及び公示 第7章 特許を受ける権利を有する者の救済 第8章 特許権者の権利及び特許の侵害-次の回路配置利用権及び権利制限規定 第10章 強制ライセンス許諾 第11章 権利の譲渡及び移転 - 特許庁

To provide an electronic component mounted board using a printed circuit board (PCB) and a flexible printed circuit board (FPC), wherein the electronic component mounted board can be improved in reliability by a design rule for uniformly and sufficiently applying a pressure required for thermocompression bonding.例文帳に追加

プリント回路基板（Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ Ｂｏａｒｄ：ＰＣＢ）およびフレキシブルプリント基板（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ：ＦＰＣ）を利用する電子部品の実装基板に関するものであり、熱圧着する圧力を均一かつ十分に加えることが可能な設計ルールを用いて、電子部品の実装基板の信頼性向上を図る。 - 特許庁

Wiring design is automatically and comprehensively simulated within a retrieval range as the conditions of at least designated one or more transmission path parameters by using the typical transmission path topology of wiring as a basic type, and a solution space in which predetermined waveform quality can be achieved is obtained is used as a wiring rule in wiring.例文帳に追加

配線設計において、配線の典型的な伝送路トポロジを基本型として、指定された少なくとも１つ又は複数の伝送路パラメータの条件である探索範囲内で自動的に網羅的にシミュレーションを実施し、あらかじめ指定された波形品質を実現できる解空間を求め、それを配線ルールとして使用して、配線を行う。 - 特許庁

To provide a TEG pattern, and a testing method of a semiconductor element using the pattern capable of confirming a leakage current level generated by erroneously aligned landing to an active region of M1C through silicon substrate data in a viewpoint of an active extension design rule to the M1C in a manufacturing method of a semiconductor device of 90 nm class or below.例文帳に追加

９０ｎｍ級以下の半導体素子の製造において、Ｍ１Ｃのアクティブ領域に対するミスアラインされたランディングによって発生する漏洩電流水準をＭ１Ｃに対するアクティブエクステンションデザインルールの観点でシリコン基板データを通じて確認可能にすることができるテグパターン及びそのパターンを利用した半導体素子検査方法を提供する。 - 特許庁

The system and method enumerate a set of variables and pattern intervals to construct (109) an inspection structure and analyze a series of layout patterns according to design rules by simulation (115) using a lithography model to obtain a partition of the pattern spaces into one portion 133 that requires only rule-based OPC and another portion 131 that requires model-based OPC.例文帳に追加

本システムおよび方法は、パターン空間の、ルールベースＯＰＣのみを必要とする部分１３３と、モデルベースＯＰＣを必要とする別の部分１３１との区分を得るために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーション１１５によって、設計ルールしたがって変数値とパタン間隔の集合を列挙して検査構造を構築し１０９、一連のレイアウト・パターンを分析する。 - 特許庁

To instantaneously extract layout constitutions of all combined devices in a new layout design, and to prepare and output a normal layout verification rule, and to clearly discriminate and output abnormal layout constitutions of an abnormal device or the like, and to easily discover an error part at the time of LVS or DRC verification for attaining the generating efficiency of a manufacturing process.例文帳に追加

新しいレイアウト設計に際しても即座に全組合せデバイスのレイアウト構成を抽出し、正規のレイアウト検証ルールを作成し出力する他、不正規デバイス等の不正規のレイアウト構成を明確に区別して出力しＬＶＳやＤＲＣの検証時にエラー個所を容易に発見し製造プロセス生成の効率化を図る。 - 特許庁

Concerning the consideration to crashing of aircraft, a standard assessment method is provided in the Assessment Criteria of the Probability of Aircraft Crashing on Commercial Power Reactor Facilities (bylaw) established by NISA as internal rule in July 2002, together with general criteria for determining whether or not design considerations should be given as “possible external man induced events.”例文帳に追加

航空機落下に対する考慮については、2002年7月に、原子力安全・保安院が内規として制定した「実用発電用原子炉施設への航空機落下確率の評価基準について（内規）」において、「想定される外部人為事象」として設計上の考慮を必要とするか否かの判断のめやすとともに、標準的な評価手法が示されている。 - 経済産業省

To provide an extensive acquisition and utilization method for type approval by organizing requirements, design specification or structure, rank and the like for acquisition of housing type approval and constructing a novel application and evaluation method for type approval which is applied to a free-plan application, instead of an application of conventional standardized housing, using a structure rule or structure specification, a span table and the like.例文帳に追加

住宅型式性能認定取得のための要求事項、設計仕様や構造、等級などを整理し、従来の規格住宅での申請でなく、構造ルールや構造仕様・スパン表等による対応でフリープランでの申請を可能とする新規の型式認定申請・評価手法を構築し、幅広い型式認定取得及び活用方法を提供する。 - 特許庁

Prior to a circuit optimization processing step S140 for performing the optimization of a circuit such as change of cell driving ability or insertion of a driver cell so as to satisfy a timing designated by timing limit information 101, a thick and wide interval wiring designation step S120 for performing the designation of a net for applying a thick and wide interval design rule to a net including paths having a long path-to-path distance.例文帳に追加

タイミング制約情報１０１で指定されたタイミングを満たすようにセル駆動能力の変更、ドライバセルの挿入など回路の最適化を行う回路最適化処理ステップＳ１４０の前に、パス間距離の長いパスを含むネットに対して太幅・広幅間隔設計ルールを適用するネットの指定を行う太幅・広幅間隔配線指定ステップＳ１２０を行う。 - 特許庁

The exposure data forming method comprises steps of arranging patterns inside a block so as to satisfy a pattern size and an inter-pattern distance determined by a design rule, of forming data for manufacturing a block mask mounted with the block, and of extracting a pattern layout satisfying the pattern size and inter-pattern distance of the block from layout data concerning semiconductor integrated circuits to form wafer manufacturing exposure data.例文帳に追加

露光データ生成方法は、設計規則で定められるパターンサイズ及びパターン間距離を満たすようにパターンをブロックの内部に配置し、該ブロックを搭載したブロックマスク製造用露光データを生成し、該ブロックの該パターンサイズ及び該パターン間距離を満たすパターン配置を半導体集積回路のレイアウトデータから抽出してウエハ製造用露光データを生成する各段階を含む。 - 特許庁

The eighth Shogun, Yoshimasa ASHIKAGA, while exceptionally gifted in the arts and in architectural design, had little interest in politics, so it naturally fell to his lawful wife Tomiko HINO, his inner circle of advisors, and the most powerful daimyo to rule and to solve disputes over authority; and upon the outbreak of the Kyotoku Rebellion, in which some sought to revive the fortunes of the Kubo of Kamakura, they failed to respond with sufficient force. 例文帳に追加

8代将軍・足利義政は芸術や建築に関しては優れた才覚の持ち主であったものの、政治的関心には乏しく、自然と政治は将軍の正室・日野富子や将軍側近、有力大名らによる権力抗争の場と化し、関東で鎌倉公方の復活を巡って生じた享徳の乱が発生しても、十分な対策を打とうとはしなかった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

We believe, however, that it is appropriate for the final rule to limit the audit only to the sections of the Conflict Minerals Report that discuss the design of the issuer’s due diligence framework and the due diligence measures the issuer performed because the provision’s requirement for an issuer to obtain an independent private sector audit is located in the provision’s subsection relating to due diligence.例文帳に追加

しかし、最終規則は、監査を紛争鉱物報告書のうちデュー・ディリジェンスの枠組のデザインを論じた部分、および発行者が行ったデュー・ディリジェンスの措置に限定することが適切であると我々は考える。独立した民間部門の監査を受けるという法律規定によって発行人に求められる要件は、デュー・ディリジェンスに関連したサブセクションに置かれているからである。 - 経済産業省

The layout design of a circuit comprises a simulation step for performing simulation of a circuit; a designation step for designating the maximum current value running between the terminals of elements configuring the circuit and element shape; and a layout composition step for automatically preparing and completing the layout of elements so that an electro-migration(EM) rule can be satisfied based on the designated maximum current value and element shape.例文帳に追加

回路のレイアウト設計において、回路のシミュレーションを行うシミュレーションステップと、回路を構成する素子の端子間を流れる最大電流値及び素子形状を指定する指定ステップと、素子のレイアウトを、指定された最大電流値及び素子形状に基づいて、エレクトロマイグレーション（ＥＭ）ルールを満足するように自動的に作成して完成するレイアウト合成ステップとを含むように構成する。 - 特許庁

(1) Where, by reason of an act or omission of any person employed in the Registry, an act or step in relation to any application for the registration of a design or any other proceedings before the Registrar, required to be done or taken within a period of time, has not been so done or taken, the Registrar may, notwithstanding rule 57, extend the period for doing the act or taking the steps by such period as the Registrar considers fit.例文帳に追加

(1)登録局に雇用されている者の作為又は不作為を理由に，ある期間内になし又は講じることが要求される，意匠登録出願又は登録官に対するその他の手続に関連する行為又は措置がそのようになされない又は講じられなかった場合は，規則57にかかわらず，登録官は，当該行為をなし又は措置を講じるための期間を自己が適当と認める期間だけ，延長することができる。 - 特許庁

At acquiring the kinds of input equipment and output equipment constituting the circuit, the operation specifications of control associated with the input equipment and output equipment and the safety category to be achieved, an MPU 13 performs access to each database according to acquired various conditions, and extracts the equipment matched with the conditions, and performs the arrangement and wiring of the extracted equipment according to the design rule to generate a safety circuit.例文帳に追加

回路を構成する入力機器及び出力機器の種類と、それら入力機器及び出力機器に関連づけた制御の動作仕様と、達成すべき安全カテゴリを取得すると、ＭＰＵ１３は、取得した各種の条件に従って各データベースをアクセスし、条件に合致する機器を抽出するとともに、抽出した機器を設計ルールに従って各機器の配置並びに配線を行い、安全回路を生成する。 - 特許庁

Sec.119 Application of Other Sections and Chapters 119.1. The following provisions relating to patents shall apply mutatis mutandis to an industrial design registration: Section 21 - Novelty; Section 24 - Prior art; Provided, That the disclosure is contained in printed documents or in any tangible form; Section 25 - Non-prejudicial Disclosure; Section 28 - Right to a Patent; Section 29 - First to File Rule; Section 30 - Inventions Created Pursuant to a Commission; Section 31 - Right of Priority: Provided, That the application for industrial design shall be filed within six months from the earliest filing date of the corresponding foreign application; Section 33 - Appointment of Agent or Representative; Section 51 - Refusal of the Application; Sections 56 to 60 - Surrender, Correction of and Changes in Patent; Chapter VII - Remedies of a Person with a Right to Patent; Chapter VIII - Rights of Patentees and Infringement of Patents; and Chapter XI - Assignment and Transmission of Rights.例文帳に追加

第119条 他の条及び章の適用 119.1特許に関する次の規定を意匠登録について準用する。 第21条 新規性 第24条 先行技術。ただし，その開示が印刷物又は現実の形状に含まれていることを条件とする。 第25条 不利にならない開示 第28条 特許を受ける権利 第29条 先願主義 第30条委託によりなされた発明 第31条 優先権。ただし，意匠出願は，対応する外国出願の最先の優先日から6月以内にしなければならない。 第33条 代理人又は代表者の選任 第51条 出願の拒絶 第56条から第60条まで 特許の放棄，訂正及び変更 第7章 特許を受ける権利を有する者の救済 第8章 特許権者の権利及び特許の侵害 - 特許庁

A layout device for the semiconductor integrated circuit includes: a first storage area for storing an optimization library which includes possibility of short circuit and association between a cell frame and an overlapping distance by combination of cells placed in adjacency; and a first optimization means for overlapping the cell frame with the combination of cells which can be short-circuited and placing them with reference to the optimization library stored in the first storage area in the cell placement satisfying a design rule.例文帳に追加

上記課題は、隣接して配置されるセルの組み合せ毎にショート可否とセル枠のオーバーラップ可能な距離との対応付けを含む最適化ライブラリを格納する第一記憶領域と、デザインルールを満たすセル配置において、前記第一記憶領域に格納されている前記最適化ライブラリを参照することによって、前記ショート可能なセルの組み合せに対して前記セル枠をオーバーラップさせて配置する第一最適化手段とを有することを特徴とする半導体集積回路のレイアウト装置により達成される。 - 特許庁

O.S.I.M.shall notify the applicant or his successor in title of the decision made by the Examination Board concerning the fulfillment of the conditions provided for by the Law (Articles 8, 9, 10 and 11) for the registration of the industrial design or model.The notification shall specify the time period allowed by O.S.I.M.for reply, which, as a rule, is of 30 days for the applicants residing within the territory of Romania, and of 60 days for the applicants residing abroad.If the applicant fails to reply within the allowed period of time, the application shall be rejected.例文帳に追加

OSIMは，出願人又はその承継人に対し，本法第8条，第9条，第10条及び第11条により規定される工業意匠又はひな形の登録条件の充足状況について審査委員会が行なった決定を通知する。かかる通知には，OSIMにより与えられる返答のための猶予期間(概して，出願人がルーマニアの領土内に居住する場合は30日，それ以外に居住する場合は60日とする。)が明記される。出願人が当該期間内に返答しない場合は，出願は拒絶される。 - 特許庁

Where a certificate is granted under this section, then if, in any subsequent proceedings before the court for infringement of the registered design concerned or for revocation of the registration, a final order or judgment is made or given in favour of the party relying on the validity of the registration that party shall, unless the court otherwise directs, be entitled to his costs on the indemnity basis within the meaning of that term as appearing in Order 62, rule 28 of the Rules of the High Court (Cap.4 sub. leg.) (other than the costs of any appeal in the subsequent proceedings). 例文帳に追加

本条に基づき証明書が付与された場合において，関係登録意匠の侵害又は当該登録の取消に関する，裁判所におけるその後の手続において，最終命令又は判決が，登録の有効性を信頼した当事者に有利なものであったときは，裁判所が別段の命令を与えない限り，当事者が，高等法院規則(Cap.4 sub. leg)の命令62，規則28に明記された用語の意味の範囲内の補償基準により(その後の訴訟手続における上訴の費用を除き)その費用の補償を受ける権利を有するものとする。 - 特許庁

Every assignment, and every other document containing, giving effect to or being evidence of the transmission of copyright in a registered design or affecting the proprietorship thereof or creating an interest therein as claimed in application under Rule 33 shall unless the Controller otherwise directs, be presented to him either in original, or notarially certified true copy together with the application and he may call for such other proof of title or written consent as he may require for his satisfaction: 例文帳に追加

各譲渡証書，及び登録意匠における意匠権の移転について記載し，効力を付与し，若しくは証拠となり，又は規則33に基づく申請により主張する通りその所有権に影響を及ぼし，若しくはそこに権利を創出する他の各書類については，長官が別段の指令をしない限り，その原本又は公証謄本の何れかを当該申請書と共に，長官に提出しなければならず，また，長官は，自己の納得のため必要な場合は，権原についての他の証拠又は同意書を請求することができる。 - 特許庁

The final rule states that the audit’s objective is to express an opinion or conclusion as to whether the design of the issuer’s due diligence framework as set forth in the Conflict Minerals Report, with respect to the period covered by the report, is in conformity with, in all material respects, the criteria set forth in the nationally or internationally recognized due diligence framework used by the issuer, and whether the issuer’s description of the due diligence measures it performed as set forth in the Conflict Minerals Report, with respect to the period covered by the report, is consistent with the due diligence process that the issuer undertook.例文帳に追加

最終規則には、監査の目的は、紛争鉱物報告書に記された発行人のデュー・ディリジェンスの枠組のデザインが、その報告書の対象期間に関してすべての重大な点で、発行人によって用いられた国内的または国際的に認められたデュー・ディリジェンスの枠組の基準に従っているか否か、および報告書の対象期間に関して紛争鉱物報告書に示されたデュー・ディリジェンスの措置に関する発行人の記述が当該発行人によって実行されたデュー・ディリジェンス・プロセスと一致しているかどうかについて、意見または結論を表明することであると規定されている。 - 経済産業省