「Formation Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The elastic contact material absorbs dimensional fluctuations of an injected material during a formation process.例文帳に追加

前記弾性接触部材は、前記形成プロセスの間の前記注入材料の寸法変動を吸収する。 - 特許庁

CONVEX AND CONCAVE PATTERN FORMATION SHEET, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR MANUFACTURING OPTICAL DIFFUSER, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DIFFUSER例文帳に追加

凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 - 特許庁

To provide a filter circuit which is reduced in a capacitor dedicated area and eliminates the need of an exclusive process only for capacitor formation.例文帳に追加

キャパシタ専有面積が小さく、キャパシタ形成のためだけの専用プロセスが不要なフィルタ回路を提供する。 - 特許庁

In addition, after the fixing process, a heating process for heating to a temperature which is comparable to that for the melting point of solder is performed, before the resin-insulating layer of the outermost layer is laminated in the wiring laminating section formation process.例文帳に追加

なお、固定工程後であって、配線積層部形成工程において最外層の樹脂絶縁層を積層する前には、はんだの融点と同程度の温度に加熱する加熱工程を行う。 - 特許庁

To form bit lines wherein the composition and formation conditions of a bit line hard mask pattern and a bit line nitride film spacer are varied and bit lines are formed, to improve a process margin of an SAC process and decrease an SAC process failure.例文帳に追加

ＳＡＣ工程のマージンを高め、ＳＡＣ工程失敗を低減させるため、ビットラインハードマスクパターン及びビットライン窒化膜スペーサの成分及び形成条件を変化させてビットラインを形成する。 - 特許庁

In a second discharge process, the droplets are discharged with the same pitch as the first process to a location different from the discharge location of the first discharge process of the whole wiring formation region.例文帳に追加

第２吐出工程では、前記液滴を前記配線形成領域全体の前記第１吐出工程における吐出位置と異なる位置に前記第１吐出工程と同じピッチで吐出する。 - 特許庁

To form an image with demanding a low energy in an image formation process but without removing a material and make a development process unnecessary after an infrared ray exposing process.例文帳に追加

画像形成工程において低エネルギーを要求し、材料を除去することなく、画像を形成し、かつＩＲ線暴露工程後に現像処理が不要である、感熱性組成物を提供する。 - 特許庁

In a film formation method of a color cathode-ray tube to sequentially perform a coating process 1, a shaking off process 2 of a coating solution and a drying process 3 while rotating the panel 22, at least one process of the shaking off process 2 and the drying process 3 is performed while changing rotating directions of the panel 22 into 2 directions of forward and reverse directions.例文帳に追加

パネル２２を回転させながら、塗布工程１、塗布液の振り切り工程２、乾燥工程３を順次行うカラー陰極線管の膜形成方法において、前記振り切り工程２と、前記乾燥工程３のうち少なくとも一方の工程をパネル２２の回転方向を正逆２方向に変えて行う。 - 特許庁

A hard coat layer formation process comprises: an application process of applying a hard coat liquid which is hardened by hydrolytic reaction and condensation reaction on the base material; a drying process of drying the hard coat liquid after the application process to form a coated film; and a pressurization process of pressurizing the coated film after the drying process to harden the coated film.例文帳に追加

ハードコート層形成工程は、加水分解反応および縮合反応により硬化するハードコート液を前記基材上へ塗布する塗布工程と、前記塗布工程後に前記ハードコート液を乾燥して塗膜とする乾燥工程と、前記乾燥工程後に前記塗膜を加圧して硬化させる加圧工程とを備える。 - 特許庁

This manufacturing method for the tag comprises: a through hole formation process for forming the through hole in a prescribed position of an insulative sheet allowing the fixing of the electroconductive ink; and an antenna circuit formation process for printing the antenna circuit on the upper face and the lower face of the insulative sheet by the electroconductive ink such that the through hole is closed up, after the through hole formation process.例文帳に追加

導電性インクを定着させることができる絶縁シートの所定部位にスルーホールを形成するスルーホール形成工程と、このスルーホール形成工程後に絶縁シートの上面および下面に導電性インクによって、前記スルーホールが塞がるようにアンテナ回路をプリントするアンテナ回路形成工程とでタグの製造方法を構成している。 - 特許庁

In the main formation step, the semiconductor film is formed by including a process for alternately performing a plurality of times a process S32 for forming the epitaxial film under the formation conditions set on the basis of the quantity of evaporation obtained in the evaluation step, and a process for ion-implanting the first impurity into the epitaxial film.例文帳に追加

本形成工程では、評価工程で得られた蒸発量に基づいて設定される形成条件でエピタキシャル膜を形成する処理Ｓ３２と、エピタキシャル膜に第１不純物をイオン注入する処理と交互に複数回数行う処理を含んで半導体膜を形成する。 - 特許庁

In regard to the semiconductor device resin-sealed in the wafer level on a semiconductor substrate having a formed device, through the rewiring layer formation process, the metal post formation process and the resin sealing process, it is inhibited to lay out devices 33, 35, 37 at positions overlapped with the circumference of a metal post 21 when viewed from above.例文帳に追加

素子が形成された半導体基板に対して、再配線層形成工程、メタルポスト形成工程及び樹脂封止工程を経てウェハレベルで樹脂封止される半導体装置について、上方から見てメタルポスト２１の周縁と重なる位置に素子３３，３５，３７を配置しないようにする。 - 特許庁

To effectively implement the removal process of a specific element just after the formation of an Hf-based oxide film, and to improve thermal stability and hence suppress the diffusion of an impurity by mixing nitrogen into the Hf-based oxide film formed in a film formation process.例文帳に追加

Ｈｆ系酸化膜形成直後に特定元素の除去工程を効率的に実施し、さらに、成膜工程で成膜したＨｆ系酸化膜に窒素を混入させて、その熱的安定性を高め、不純物の拡散を抑える。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, capable of solving adverse effects to image formation due to a difference of line speeds between new and old process cartridges, which are generated at the time of image formation, after substituting a process cartridge having a photoreceptor and an intermediate transfer body for an old one.例文帳に追加

感光体及び中間転写体を有するプロセスカートリッジ交換後の画像形成の際に生じる、新旧プロセスカートリッジ間の線速の差異による画像形成の悪影響を解消する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

More concretely, at a nucleus formation stage, the W film formation is carried out by a CVD process using WF6-SiH4-based gas, at which time it is controlled that the film formation based on reduction of H2 gas is not carried.例文帳に追加

具体的には、核形成段階において、Ｗの成膜を、ＷＦ_6 （六フッ化タングステン）−ＳｉＨ_4 （シラン）系のガスを用いたＣＶＤ法により行なうが、このとき、Ｈ_2 ガスの還元による成膜が行なわれないようにする。 - 特許庁

The following processes are performed successively, namely a laminate manufacture process of manufacturing an unfired ceramic laminate, a break groove formation process of forming a break groove, a firing process of obtaining a ceramic sintered compact, and a division process of dividing the ceramic sintered compact along the break groove.例文帳に追加

未焼成セラミック積層体を作製する積層体作製工程と、ブレイク溝を形成するブレイク溝形成工程と、セラミック焼結体を得る焼成工程と、セラミック焼結体をブレイク溝に沿って分割する分割工程とを順次行う。 - 特許庁

To enable the oxide film formation process and etching process of a nitride semiconductor material such as GaN to be executed efficiently without causing damage to the semiconductor material.例文帳に追加

ＧａＮなどの窒化物半導体材料の酸化皮膜形成処理、エッチング処理を半導体材料にダメージを与えることなく効率よく行うことを可能にする。 - 特許庁

Further, the process is performed even for contact hole formation after the flattening film coating in an array process and then problems of positioning and problems of the height of the column spacer are solved.例文帳に追加

また、アレイ工程での平坦化膜塗布後のコンタクトホール形成と同時に兼ねることにより、位置合わせの問題および柱スペーサの高さ問題を解決する。 - 特許庁

The manufacturing method desirably has a process for attaching the catalytic core of the electroless plating film 5 before the process for performing the pattern formation of the plated resist 2.例文帳に追加

そして、これらの製造方法は、めっきレジスト２をパターン形成する工程の前に無電解めっき膜５の触媒核を付与する工程を有していることが好ましい。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a power MOSFET, which can be used also as a process for forming a peripheral element at the formation the power MOSFET and the peripheral element.例文帳に追加

パワーＭＯＳＦＥＴと共に周辺素子を形成する場合に、パワーＭＯＳＦＥＴの製造工程と周辺素子の形成工程を兼用できるようにする。 - 特許庁

To provide a lead-acid battery for highly maintaining utilization rate of a positive electrode active material from a chemical formation process up to float charge.例文帳に追加

化成工程からフロート充電まで、正極活物質の利用率を高度に維持できる鉛蓄電池を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip that can suppress void formation in a die attachment process, and to provide a semiconductor package equipped with the semiconductor chip.例文帳に追加

ダイ接着工程のボイド形成を抑制する半導体チップ及びこれを備える半導体パッケージを提供する。 - 特許庁

To remarkably improve the surface quality of a saturated norbornene resin film to be produced by a melt film formation process.例文帳に追加

溶融製膜法により製造される飽和ノルボルネン系樹脂フィルムの面質を顕著に改良することができる。 - 特許庁

The secondary filter 206 is configured to remove a remaining material without being decomposed in a biomass ethanol formation process.例文帳に追加

２次フィルタ２０６は、バイオマスエタノールの生成過程で分解されずに残留する物質を除去可能に構成される。 - 特許庁

To improve throughput of an exposure process for exposing mutually different patterns in a plurality of pattern formation areas of a substrate.例文帳に追加

露光工程のスループットを高め、基板の複数のパターン形成領域に互いに異なるパターンを露光できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for forming a gear with which the formation of the gear can be performed by a simple process and in good precision.例文帳に追加

簡単な工程で精度良く歯車の成形を行うことができる歯車の成形方法を提供すること。 - 特許庁

The stabilizing resistor element 5 can be prepared by an impurity-introducing process different from that in source-drain electrode formation of a transistor.例文帳に追加

安定化抵抗素子５は、トランジスタのソースドレイン電極形成と別の不純物導入工程により作製され得る。 - 特許庁

To obtain a coating composition prevented from foaming development in the coating film formation process for acid-epoxy-based coating materials.例文帳に追加

酸・エポキシ系塗料の塗膜形成工程における「ワキ」の発生が防止された塗料組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an appropriate etching rate with a titanium nitride layer which is a barrier metal in an etching process, related to a tungsten embedded wiring formation.例文帳に追加

タングステン埋込み配線形成におけるエッチング工程のバリアメタルである窒化チタン層とのエッチングレートの適正を図る。 - 特許庁

MAGNETIC PARTICLE DISPERSION LIQUID FOR IMAGE FORMATION, PARTICLE DISPERSION LIQUID CARTRIDGE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS, AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加

画像形成用磁性粒子分散液、粒子分散液カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置および画像形成方法 - 特許庁

To provide a processor capable of easily carrying out an additional process of page components including formation of tabs and insertion of pages.例文帳に追加

タブの形成やページの挿入を含めたページ構成要素の追加処理を容易に行える処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide polyester fiber woven fabric in low cost by suppressing wrinkle formation, even when the preset is omitted before the dyeing process.例文帳に追加

染色加工前のプレセットを省略してもシワの発生を抑え、低コストでポリエステル繊維織物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method for forming a pattern where unevenness is reduced on a sidewall by a multilayer resist process.例文帳に追加

側壁の凹凸を低減したパターンを、多層レジストプロセスを用いて形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the efficiency of the process from recovery of livestock excreta to formation of compost and to form the good-quality compost.例文帳に追加

家畜の糞尿の回収から堆肥の生成に至る過程の効率化を図ると共に、良質な堆肥を生成する。 - 特許庁

A continuous process in vacuum of laser crystallization, plasma treatment and formation of an insulation film is executed, while gradually lowering the temperature.例文帳に追加

レーザー結晶化、プラズマ処理、絶縁膜形成の真空中連続プロセスを徐々に温度を下げながらおこなう。 - 特許庁

To provide a method of estimating a real time amount of formation of NO_x within a cylinder during a combustion process of an internal-combustion engine.例文帳に追加

内燃機関の燃焼プロセス中のシリンダ内ＮＯ_x生成量の実時間推定を行う方法を提供すること。 - 特許庁

TONER FOR IMAGE FORMATION, SINGLE-COMPONENT DEVELOPER, TWO-COMPONENT DEVELOPER, IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

画像形成用トナー、一成分現像剤、二成分現像剤、画像形成方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ。 - 特許庁

TONER AND ITS MANUFACTURING METHOD, DEVELOPER, TONER CONTAINING CONTAINER, PROCESS CARTRIDGE, AND APPARATUS AND METHOD FOR IMAGE FORMATION例文帳に追加

トナー及びその製造方法、並びに、現像剤、トナー入り容器、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法 - 特許庁

TITANYL PHTHALOCYANINE CRYSTAL, ITS PREPARATION PROCESS AND ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR AND ELECTROPHOTOGRAPHY IMAGE FORMATION APPARATUS USING IT例文帳に追加

チタニルフタロシアニン結晶とその製造方法、及びそれを利用した電子写真感光体と電子写真画像形成装置 - 特許庁

The nano/micro machine designing/machining method is composed of process design, machining database, machining pattern formation and machining processes.例文帳に追加

ナノ・マイクロマシン設計・加工方法は、プロセス設計、加工データベース、加工パターン生成及び加工工程から構成される。 - 特許庁

To provide a support for image formation which hardly causes blocking in an annealing process and having good adhesion property with other layers.例文帳に追加

アニール処理時にブロッキングを起こさず、他層との密着性の良好な画像形成用支持体を提供すること。 - 特許庁

If an obstacle was recognized during the previous image pickup, a stereoscopic image is formed in the second stereoscopic image formation process.例文帳に追加

前回撮像時に障害物が認識されている場合には、第２ステレオ画像作成処理でステレオ画像を作成する。 - 特許庁

To improve a picture quality by eliminating picture quality deteriorating factors resulting from unevenness in the dot formation in a multiple value error diffusion process.例文帳に追加

多値誤差拡散処理におけるドット形成のばらつきによる画質劣化要因を除去し、画質を向上させる。 - 特許庁

Thus formation of bumps, esp., forming of its seed layer is made commonly to processes of forming the wiring and a protective film, and the semiconductor manufacturing process is simplified to shorten the manufacturing time.例文帳に追加

つまり、配線形成時に、その配線表面に、バリア層１６およびシード層１７を積層させればよい。 - 特許庁

To deal with the case that it is impossible to process a plurality of pieces of image information related to formation instructions by a single image forming apparatus.例文帳に追加

形成指示に係る複数の画像情報が、単一の画像形成装置で処理不能な場合に対応する。 - 特許庁