「Interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming in-layer and interlayer air bridge structures, in a large scale integrated circuit (VLSI) device, a very large scale integrated circuit (ULSI) device, and a high-performance package.例文帳に追加

大規模集積回路（ＶＬＳＩ）と超大規模集積回路（ＵＬＳＩ）デバイスおよび高性能パッケージにおいて層内および層間のエアー・ブリッジ構造を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a membrane-forming composition excellent in coating uniformity, lowness in dielectric constant and leakage current, CPM resistance, preservation stability, etc., as interlayer insulating material e.g. in semiconductor elements.例文帳に追加

半導体素子などにおける層間絶縁膜材料として、塗膜の均一性、低誘電率、低リーク電流、ＣＭＰ耐性、保存安定性などに優れた膜形成用組成物に関する。 - 特許庁

Low-load flattening work is effected due by employing electrolytic grinding whereby a multi-layer wiring structure employing a low-k material 9 as an interlayer insulating film is constituted.例文帳に追加

電解研磨を用いるため低負荷な平坦化加工が可能となるので、層間絶縁膜としてＬｏｗ−ｋ材料９を用いた多層配線構造も構築可能となる。 - 特許庁

MOS transistors, Qn and Qn are formed, and after an interlayer insulating film 117, a conductive plug 120 and an aluminum wiring 121 are formed, a measurement of the threshold voltages of the MOS transistors is made.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタＱｎ、Ｑｐを形成し、層間絶縁膜１１７、導電性プラグ１２０、アルミニウム配線１２１を形成した後に、ＭＯＳトランジスタのしきい値電圧の測定を行う。 - 特許庁

To prevent a capacitor insulating film containing a ferromagnetic material of a metal oxide body from deteriorating its electrical properties due to the moisture discharged from an interlayer insulating film through a thermal treatment.例文帳に追加

金属酸化物からなる強誘電体を含む容量絶縁膜の電気的特性が、層間絶縁膜から熱処理により放出される水分によって劣化しないようにする。 - 特許庁

To provide a nonhalogenous flame-retardant resin used, e.g. for an interlayer insulation layer of a multilayered printed circuit board; a flame- retardant resin composition containing the same; and a multilayered printed circuit board having a cured film formed from the composition.例文帳に追加

多層プリント配線板の層間絶縁層用等のノンハロゲン材料の難燃性樹脂、難燃性樹脂組成物性及びその硬化膜を有する多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

A trench 102 is formed in a beltlike region sandwiched by a pixel array belonging to an OPB region and an adjoining pixel array out of a laminate structure 90 consisting of an interlayer dielectric, and the like.例文帳に追加

層間絶縁層等からなる積層構造体９０のうち、ＯＰＢ領域に属する画素列とその隣接画素列とに挟まれた帯状領域に、トレンチ１０２を形成する。 - 特許庁

To provide an electric junction box and a structure of interlayer connection in multilayer wiring board wherein the weight thereof is reduced, heat radiation is facilitated, and man-hours for assembly is reduced to accomplish cost saving.例文帳に追加

軽量化及び高放熱化が図れ、組立工数の削減によるコスト低減を図ることができる電気接続箱及び多層配線基板の層間接続構造を提供する。 - 特許庁

To provide a capacitor in which no cracking nor peeling occurs in an adhesive and an interlayer insulating resin layer under a thermo cycle condition when the capacitor is housed or incorporated in a multilayered printed wiring board.例文帳に追加

多層プリント配線板に収納または内蔵させた際に、ヒートサイクル条件下等で接着剤や層間樹脂絶縁層にクラックや剥離が発生しないコンデンサを提供する。 - 特許庁

To obtain such a structure that a fuse can be burnt out with a laser blow without giving any damage to an interlayer insulating layer, a base layer, or adjacent fuses with respect to a semiconductor device and a method for manufacturing the device.例文帳に追加

半導体装置およびその製造方法に関し、層間絶縁層、下地層または隣接する他のヒューズにダメージを与えることなく、レーザブローでヒューズを溶断できる構造を得る。 - 特許庁

After the photoresist pattern 6 is removed, an interlayer insulation film is formed, and then, by subjecting it to dry-etching with the P-SiN 15 as an etching stopper, a through-hole(TH) to the aluminum wring layer 4b is formed.例文帳に追加

フォトレジストパターン６を除去した後、層間絶縁膜を形成し、Ｐ−ＳｉＮ１５をエッチングストッパーとして、ドライエッチングすることによりアルミ配線層４ｂへのＴＨを形成する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 17 composed of a BPSG film, etc., is formed on the whole surface of the substrate 11, and a contact hole C3 is formed in an area including the area above the embedded conductive layer 16.例文帳に追加

基板１１の全面にＢＰＳＧ膜等から成る層間絶縁膜１７が形成され、埋め込み導電層１６上を含む領域にコンタクトホールＣ３が形成されている。 - 特許庁

The semiconductor layer has a plurality of fuse layers disposed on an interlayer dielectric 3 in parallel and dummy fuse layers 15 provided between adjacent fuse layers 5 in parallel to the fuse layers 5.例文帳に追加

層間絶縁膜３上に平行に配置された複数のヒューズ層５と、互いに隣接するヒューズ層５の間に、ヒューズ層５と平行に設けられたダミーヒューズ層１５とを備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electronic component by which the connection reliability of columnar conductors making interlayer connections can be improved without making the accuracy of the conventional mask strict, and to provide an electronic component.例文帳に追加

従来のマスクの精度を厳格にすることなく、層間接続をなす柱状導体の接続信頼性を向上させる電子部品の製造方法および、電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide metal wiring of a semiconductor device, which can prevent lifting of metal wiring due to a stress with an interlayer insulating film during a subsequent heat treatment, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

金属配線が後続熱処理時、層間絶縁膜とのストレスによりリフティングされる現象を抑えられる半導体素子の金属配線及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

If the lower-layer electrode 122, the insulating film 131 and the upper-layer electrode 143 within the short-included region 164 are removed, the interlayer short may be stably and reliably repaired.例文帳に追加

短絡包含領域１６４内の下層電極１２２、絶縁膜１３１および上層電極１４３を除去するようにすれば、安定した確実な修正が可能となる。 - 特許庁

An interlayer insulating film 29 is formed on the upper surface of a gate insulating film 22 including the electrostatic protection element 13, and contact holes 44, 45 and 46 are formed therein by photolithography.例文帳に追加

そして、静電保護素子１３を含むゲート絶縁膜２２の上面に層間絶縁膜２９を形成した後に、フォトリソグラフィ法により、コンタクトホール４４、４５、４６を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which is improved in a product yield and also in a product reliability, by suppressing delamination of an interlayer insulating layer.例文帳に追加

層間絶縁層の剥離を抑制し、製品の歩留まりが向上するとともに製品信頼性が向上した半導体装置を得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

There is formed an opening 25 with a planer size smaller than the frame-like member 9 in the gate-metal interlayer film 5 located inside the frame-like member 9 and insulating films 17, 23 thereon.例文帳に追加

枠状部材９の内側に位置するゲート−メタル層間膜５及びその上の絶縁膜１７，２３に枠状部材９よりも小さい平面寸法で開口部２５が形成されている。 - 特許庁

The conductive contact layer 11 contacts with the lower electrode 25 only at the bottom surface containing a corner where a bottom surface of the hole opening 20a in the second interlayer insulating layer 20 contacts with its wall surface.例文帳に追加

導電性密着層１１は、第２の層間絶縁膜２０におけるホール開口部２０ａの底面と壁面とが接する隅部を含む該底面でのみ下部電極２５と接している。 - 特許庁

This double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 11 exhibits preferable adhesion characteristic and can be repeeled without causing interlayer destruction, so it is preferable for applications, e.g. fixing a member for recycling.例文帳に追加

この両面粘着シート１１は、良好な粘着特性を示し、かつ層間破壊を起こさずに再剥離することができるので、例えばリサイクル用の部品を固定する用途に好適である。 - 特許庁

To provide an electro-optic device having a layered structure comprising scanning lines, data lines, switching elements and interlayer films in which a higher transmittance for light in the layered structure is achieved.例文帳に追加

走査線、データ線、スイッチング素子、及び層間膜からなる積層構造物を備えた電気光学装置にあって、当該積層構造物における、より高い光の透過率を実現する。 - 特許庁

As an insulating film used for the TFT, for example, a gate insulating film, a protecting film, an under film, an interlayer insulating film, or the like, a silicon nitride oxide film (SiN_XB_YO_Z) containing boron is formed by a sputtering method.例文帳に追加

ＴＦＴに利用する絶縁膜、例えばゲート絶縁膜、保護膜、下地膜、層間絶縁膜等として、ボロンを含む窒化酸化珪素膜（ＳｉＮ_X Ｂ_Y Ｏ_Z ）をスパッタ法で形成する。 - 特許庁

To provide a visual inspection system and a visual inspection method capable of preventing the useless rejection caused by interlayer positional displacement without lowering the precision of quality decision.例文帳に追加

良否判定の精度を低下させることなく、層間の位置ずれによって生じる無駄はねを防止することができる外観検査システムおよび外観検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel capable of reducing a minute bright spot defect by allowing a fragment of an inorganic insulating film which is formed on an interlayer film to be hardly produced.例文帳に追加

層間膜上に形成された無機絶縁膜の破片が生じ難くすることによって、微小輝点不良を低減するようにした液晶表示パネルを提供すること。 - 特許庁

To provide a glass load receiving structure of vertical band windows capable of following the great interlayer displacement of a building even though a horizontal joint between upper and lower glass panes can be made even narrower (slenderer).例文帳に追加

上下のガラス間の横目地をさらに狭く（細く）できるにも関わらず、建物の大きな層間変位に追従できる縦連続窓のガラス荷重受け構造を提供する。 - 特許庁

The interlayer film may includes the light-transmissive chromatic color resin layer and a light-blocking layer, and the light-blocking layer may be used as a film having a function of attenuating the intensity of transmitted visible light.例文帳に追加

また、有彩色の透光性樹脂層及び遮光層を含む層間膜とし、透過する可視光の光強度を減衰させる機能を有する膜として遮光層を用いてもよい。 - 特許庁

A hard pad is employed and slurry containing silica 5 treated to have a hydrophobic surface is used as the repair component of an interlayer insulation film 2 in which a Cu wire 4 is buried.例文帳に追加

ハードパッドを用い、かつＣｕ配線４が埋め込まれる層間絶縁膜２の修復成分として、表面が疎水性になるように処理されたシリカ５を含むスラリを使用する。 - 特許庁

In this way, an aspect ratio of the depth of a contact trench 11 plus the thickness of the interlayer insulating film 10 to the opening width of the contact hole 10a is made smaller than that in a conventional manufacturing method.例文帳に追加

これにより、コンタクトホール１０ａの開口幅に対するコンタクト用トレンチ１１の深さ＋層間絶縁膜１０の厚みで規定されるアスペクト比が従来と比較して小さくなる。 - 特許庁

To enable generation of a light receiving signal required for tracking control without being influenced by interlayer stray light, even if an optical disk has many recording layers, and lens shifting occurs.例文帳に追加

光ディスクが多数の記録層を有しレンズシフトが発生したときにも層間迷光による影響を受けずにトラッキング制御に必要な受光信号を生成できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of forming an interlayer insulating film which suppresses the hinderance of a polymerization reaction and has an excellent mechanical strength and a low permittivity, and to provide a precursor solution which is used in the method.例文帳に追加

重合反応の阻害を抑制し、機械強度に優れ且つ低誘電率である層間絶縁膜を形成する方法、及び該方法に用いる前駆体溶液を提供する。 - 特許庁

Further, in the interface between the rigid portion 802 and the flexible portion 801, the end surface of the base-material layer 300 retreats to the side of the rigid portion 802 relatively to the end surface of the interlayer bonding layer 200.例文帳に追加

そして、リジッド部８０２とフレキシブル部８０１との境界において、層間接着層２００の端面に対して、基材層３００の端面が、リジッド部８０２側へ後退している。 - 特許庁

Then, the insulating film 2 including the silicon wafer 1 outside the transparent substrate 20 and a protection film 18, a gate insulating film 9, an interlayer insulation film 11, and a protection film 17 are cut and eliminated.例文帳に追加

次に、透明基板２０の外側におけるシリコンウエハ１及び保護膜１８を含む絶縁膜２、ゲート絶縁膜９、層間絶縁膜１１及び保護膜１７を切断して除去する。 - 特許庁

An interlayer dielectric film 16, wiring layers 18-24, a silicon oxide film 26, a silicon nitride film 28, a silicon oxide film 30, and wiring layers 32-36 are sequentially formed on the upper surface of the substrate.例文帳に追加

基板上面に層間絶縁膜１６、配線層１８〜２４、シリコン酸化膜２６、シリコン窒化膜２８、シリコン酸化膜３０及び配線層３２〜３６を順次に形成する。 - 特許庁

Next, wiring 18 and a bonding pad 19 are formed on the interlayer insulating film 8, and a passivation film 20 is formed to form an opening 21 to expose an aluminium layer 16.例文帳に追加

次に、層間絶縁膜８上に配線１８及びボンディングパッド１９を形成し、パッシベーション膜２０を成膜し、開口部２１を形成してアルミニウム層１６を露出させる。 - 特許庁

The upper wiring 2 and the different layer wiring 3 are formed adjacent to each other, and the interlayer insulating film 4 is interposed between the adjacent wirings 2 and 3.例文帳に追加

上層配線２と異層の配線３とは隣り合うように形成されており、異層の配線３は隣り合う上層配線２との間に層間絶縁膜４を挟んで形成されている。 - 特許庁

To provide a composite membrane for an oil-immersed transformer conservator which has a high peel strength between an interlayer consisting of an EVOH film or the like and a nylon cloth layer and is excellent in a durability.例文帳に追加

ＥＶＯＨフィルム等からなる中間層と、ナイロン布層との間の剥離強度が高く耐久性に優れている油入変圧器コンサベータ用複合膜を提供する。 - 特許庁

Processing of a conductive film 13 to be a capacitor lower electrode is performed in a state that the conductive film 13 is supported by an interlayer insulating film 10, a conductive film 11 and a dielectric film 12.例文帳に追加

キャパシタ下部電極となる導電性膜１３は、層間絶縁膜１０、導電性膜１１および誘電体膜１２に支持された状態で、その処理が実行される。 - 特許庁

Furthermore, when second and third interlayer insulation films 20, 30 are formed, the film formation temperature of plasma TEOS layers 23, 33 and the temperature of HDP layers 22, 32 at that time are made the same.例文帳に追加

さらに、第２および第３の層間絶縁膜２０，３０形成の際に、プラズマＴＥＯＳ層２３，３３の成膜温度とそのときのＨＤＰ層２２，３２の温度とを同一にする。 - 特許庁

Moreover, a side wall 314 composed of the same material as the lower electrode 311 is formed in the region contacting the fourth interlayer film 308 in the side of the upper electrode 313.例文帳に追加

また、上部電極３１３の側面で第４の層間膜３０８と接する領域に下部電極３１１と同じ材料で構成されるサイドウォール３１４が形成されている。 - 特許庁

On a substrate provided with a capacitor lower part interlayer insulation film 1 and a plug 3, a line pattern by an electrode forming material 6 which reaches the plug 3 is formed by using a damascene process.例文帳に追加

まずキャパシタ下部層間絶縁膜１およびプラグ３を備える基板上に、ダマシンプロセスを用いてプラグ３まで達する電極形成材料６によるラインパターンを形成する。 - 特許庁

The electro-optic device has a layered structure comprising scanning lines 3, data lines 6, TFTs 30 and pixel electrodes 9 and various kinds of interlayer insulating films (51, 52, 53, 61, 62, 80) appropriately arranged among these elements.例文帳に追加

電気光学装置は、走査線３、データ線６、ＴＦＴ３０及び画素電極９と、これらの間に適宜配された各種の層間絶縁膜（５１，５２，５３，６１，６２，８０）からなる積層構造物を備える。 - 特許庁

Then the 1st metal film 7 formed on the 1st insulating film 4 is polished away by the CMP process, to form an interlayer connection plug 7a only in the opening part 6.例文帳に追加

その後、ＣＭＰ処理により第１の絶縁膜４上に形成されている第１の金属膜７を研磨除去して、開口部６内のみに層間接続プラグ７ａを形成する。 - 特許庁

At least a laminate of a gate insulation film 6 and a gate electrode 7, and an active region 13 are formed on a silicon substrate and then an underlying interlayer insulating film 10 is also formed.例文帳に追加

シリコン基板上に、ゲート絶縁膜６及びゲート電極７の積層体と、活性領域１３とを少なくとも形成し、更に下地層間絶縁膜１０を形成する。 - 特許庁

In this electroluminescence display device, an interlayer insulator film 20 and a gate insulator film 16 which are located in the optical path of luminescence light from the organic EL element to the outside, for example, in the rear of a transparent electrode 30 are eliminated.例文帳に追加

有機ＥＬ素子から外部への発光光の光路上に位置する、例えば透明電極３０の下方における層間絶縁膜２０、ゲート絶縁膜１６を除去する。 - 特許庁