Isolationを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 7498件
Namely, both the flanks of the channel regions 2b and 3b in the (x) direction do not have an insulator of the STI element isolation structure 4 (contactless state), so that they are prevented from receiving the (z)-directional stress from the STI element isolation structure 4.例文帳に追加
即ち、各チャネル領域2b,3bのx方向に沿った両側面には、STI素子分離構造4の絶縁物は無く(非接触状態)、従ってチャネル領域2b,3bがSTI素子分離構造4からz方向の応力を受けることが防止される。 - 特許庁
There is provided a semiconductor device comprising a first element region, a second element region, and a first isolation region in a thin-film region TA1 and a third element region, a fourth element region, and a second isolation region in a thick-film region TA2.例文帳に追加
薄膜領域TA1中に第1の素子領域、第2の素子領域および第1の分離領域を有し、厚膜領域TA2中に第3の素子領域、第4の素子領域および第2の分離領域を有する半導体装置を次のように製造する。 - 特許庁
The base-isolation structure 10 is constituted by forming a through hole 19 at the lower flange plate 16c of the base-isolation rubber 16, and by providing a removable projection member 18 which penetrates the through hole 19 and can be fixed to a base plate 14a at the top of the base 14.例文帳に追加
免震構造10は、免震ゴム16の下部フランジ板16cに貫通孔19を形成すると共に、この貫通孔19を貫通して基礎部14上部のベース板14aに着脱可能に固定される突起部材18を設けることで構築される。 - 特許庁
A filter 122 covering the hole 90 communicating with the atmosphere is provided at the part surrounded by the the isolation wall 120 and ink mist does not leak to the hole 90 communicating with the atmosphere even if a gap occurs between the isolation wall 120 and the waste ink absorbing member 94.例文帳に追加
また、遮断壁120で囲まれた部分には大気連通孔90を覆うフィルター122が設けられており、遮断壁120と排インク吸収部材94に隙間が発生しても大気連通孔90にはインクミストは漏出しない構造となっている。 - 特許庁
To provide a base isolation rubber structure which can exert a required base isolation performance and load supporting, even with a light weight and a small number of laminating members, by making at least the modulus of elasticity in the vertical direction of a large part of a soft plate higher than the modulus of elasticity in the horizontal direction.例文帳に追加
少なくとも大部分の軟質板の鉛直方向の弾性率を、水平方向の弾性率よりも高くして、軽量で積層部材点数が少なくても、所要の免震性能と荷重支持を発揮できる免震ゴム構造体を提供する。 - 特許庁
To provide a countermeasure technique for safely and reliably transmitting supporting reaction to upper structures during work for the base isolation of a structure when installing a temporarily supporting jack or a base isolation device on a position of bias from a column to support the vertical load of the upper structures.例文帳に追加
構造物の免震化工事において、柱から偏倚した位置に仮受けジャッキ又は免震装置を設置して上部構造の鉛直荷重を支持させる場合に、その支持反力を上部構造へ安全、確実に伝達させる対策工法を提供する。 - 特許庁
To provide a sorting method for restraining accumulation probability, where an operating voltage V is within a standard voltage range, to less than a predetermined reference accumulation probability even if an isolation valve 44 is reused in a next second period W2 in the isolation valves 44 for gas meters used in a first period W1.例文帳に追加
第1の期間W1、使用したガスメータの遮断弁44のうち、次の第2の期間W2、再使用しても、動作電圧Vが規格電圧範囲内になる累積確率を、予め定める基準累積確率未満に小さく抑えるための選別。 - 特許庁
Heat insulating materials 5 are disposed between the water W received in a seismic isolation pit 2 and the seismic isolation pit 2, and between the water W and a floating structure body 3, respectively, and a heat insulating closing member 6 is disposed near a water level of the water W to achieve heat insulation at the circumference of the water W.例文帳に追加
免震ピット2内に収容された水Wと免震ピット2との間及び水Wと浮体構造物本体3との間に断熱材5設置し、水Wの水面付近に断熱ふさぎ部材6を設置して水Wの周囲に断熱を施す。 - 特許庁
This semiconductor device is good enough to be provided with an element isolation region E1 only on both sides of one element region E2, so that the semiconductor device has a structure of small occupation area wherein element regions E2 and element isolation regions E1 are both as small in number as possible.例文帳に追加
又、この半導体装置の場合、一つの素子領域E2の両側にだけ素子分離領域E1を設ければ良いので、素子領域E2及び素子分離領域E1の両方が可能な限り少ない個数で占有面積の小さな構造を持つ。 - 特許庁
The process for fabricating the nonvolatile memory includes forming the isolation structures protrudent over the substrate in the substrate, forming the tunneling layer over the substrate, and then forming the floating gates as conductive spacers on the sidewalls of the first isolation structures protrudent over the substrate.例文帳に追加
また、不揮発性メモリの製造プロセスは、基板上に突き出た分離構造が基板に形成され、トンネル層が基板上に形成され、その後、浮遊ゲートが基板上に突き出た第1分離構造の側壁上に導電性スペーサーとして形成されることを含む。 - 特許庁
A semiconductor device having an air isolation structure is fabricated by employing polycarbonate having a cycloaliphatic ring in the main chain of polymer as sacrifice polymer and removing the sacrifice polymer from an air isolation structure precursor where the sacrifice polymer is arranged between metallizations.例文帳に追加
脂肪族環をポリマー主鎖に有するポリカーボネートを犠牲ポリマーとして用い、犠牲ポリマーが金属配線間に配置されたエアアイソレーション構造前駆体から該犠牲ポリマーを除去することによってエアアイソレーション構造を有する半導体装置を製造する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which can secure a gate work margin and can suppress the fluctuations of transistor characteristic by reducing the drop of a trench end part in the semiconductor device, where an element isolation region by means of STI(shallow trench isolation) is formed.例文帳に追加
STIによる素子分離領域が形成された半導体装置において、トレンチ端部の落ち込みを低減することにより、ゲート加工マージンを確保でき、また、トランジスタ特性の変動を抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The upper part building 4 is constituted by arranging a base isolation member 2 having a rigid frame structure and composed of a sliding piece 2b and a receiving board 2a just below a column 10 and attaching the end beam 13 to a tip of a cantilever beam 11 to cover the receiving board 2a constituting the base isolation member 2 in a plane manner.例文帳に追加
上部建物4をラーメン構造で柱10直下に摺動子2bと受板2aからなる免震材2を配置し、片持ち梁11の先端に鼻先梁13を取り付けて、免震材2を構成する受板2aを平面的に覆う。 - 特許庁
The surface of an active region L surrounded with an element isolation groove 2 on a substrate is flat and horizontal at the center of the region L, but the shoulder of the active region is a slope that declines downward to the side wall of the element isolation groove 2.例文帳に追加
素子分離溝2に囲まれた活性領域Lの基板1の表面は、活性領域Lの中央部では平坦な水平面となっているが、活性領域Lの肩部では、素子分離溝2の側壁に向かって下降する傾斜面となっている。 - 特許庁
To provide a cotter member for eliminating the necessity of disassembling and removing a horizontal restricting part constructed in an outer peripheral part of a building, when finishing base isolation forming work, while securing safety to an earthquake time load in the base isolation forming work of the building.例文帳に追加
建物の免震化工事中の地震時荷重に対する安全性を確保すると共に、免震化工事終了時の建物の外周部に構築した水平拘束部を解体、除去する必要をなくすコッター部材を提供することを目的とする。 - 特許庁
In the silicon substrate 1 having a trench device-isolation region, a trench 3 which spreads from the surface to inside the silicon substrate 1 is formed, and a trench device-isolation insulator 5 is filled inside the trench 3 through a liner oxide 4 formed on an inner wall of the trench 4.例文帳に追加
トレンチ素子分離領域を有するシリコン基板1において、表面からシリコン基板1内部に延在するトレンチ3が形成され、トレンチ3の内壁に形成したライナー酸化膜4を介してトレンチ素子分離絶縁物5がトレンチ3内に充填される。 - 特許庁
To provide a base isolation building using a unit building, capable of simplifying a base isolation device portion installed between an upper struc ture constructed by a unit building and a foundation and reducing the cost, and lowering the cost required for conveyance and the site construction.例文帳に追加
ユニット建物から構成する上部構造体と基礎との間に設置される免震装置部分の構造が簡単でコストダウンが可能であり、運搬や現場施工に要する費用を削減できるユニット建物による免震建物を提供することを目的とする。 - 特許庁
When two antenna elements are used, the isolation unit may include at least one or more isolation elements positioned within a space between the two antenna elements on the board and symmetric with respect to a center of a distance between the two antenna elements.例文帳に追加
アンテナ素子が2つである場合、隔離部が、基板上で2つのアンテナ素子間の空間に位置し、2つのアンテナ素子間の距離のうち中心を基準にして両側に対称の構造を有する、少なくとも1つ以上の隔離素子を含むことができる。 - 特許庁
To provide a highly reliable semiconductor device in which breakdown strength of an element isolation area or a well isolation area is maintained and which can satisfy accuracy in embedding an insulating substance in a trench constituting such areas, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の素子分離領域またはウエル分離領域の耐圧性の維持、またそれらを構成するトレンチ内への絶縁性物質の埋め込み精度を満足させる信頼性の高い半導体装置及びその半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
When an earthquake has happened, the pedestal 2 is levitated by a gas pressure for levitation to cause isolation from the ground so that the building remains free of influence of the earthquake.例文帳に追加
地震発生時には台座を浮上用気体圧力で浮上させ基盤と切り離して地震の影響を受けないようにする。 - 特許庁
Inter-circuit isolation is achieved by connecting respective gates of the transistors to source potentials (VDD, VSS) to turn off the transistors.例文帳に追加
回路間のアイソレーションは、各トランジスタのゲートを電源電位(VDD,VSS)に接続して、各トランジスタをオフさせることにより実現される。 - 特許庁
The substrate 3 is installed with the predetermined isolation distance kept from the internal surface of the bottom plate 21 of chassis 2 in parallel to the bottom plate 21.例文帳に追加
基板3は、シャーシ2の底板21の内面から所定距離離間し、かつ、底板21と平行となるように設置されている。 - 特許庁
To prevent an isolation insulating film or a side wall from retreating due to wet etching of an insulating film for forming a non-silicide region.例文帳に追加
非シリサイド領域形成用の絶縁膜をウエットエッチングすることで生じる、分離絶縁膜の後退やサイドウオールの後退を防止する。 - 特許庁
To provide a mounting structure of an interior finish board carrying out wall work excellent in sound isolation efficiency while restraining the rising of the costs.例文帳に追加
コストの上昇を抑えつつ遮音性能に優れた壁施工を行なえる内装系ボードの取り付け構造を提供すること。 - 特許庁
The base isolation bearing member 11 is interposed between the structure and a leveled ground G thereunder and base-isolates the structure.例文帳に追加
構造物とその下方の整地面Gとの間に介装されて前記構造物を免震支承する免震支承部材11である。 - 特許庁
The image processor is provided with an interlock function 72 for stopping driving of the imaging apparatus 4 when the isolation chamber 8 is opened outward.例文帳に追加
隔離室8を外部に開放したときに画像形成装置4の駆動を停止するインターロック機能72を備えている構成とした。 - 特許庁
Application of any excessive seismic force to a base isolation object is prevented after ensuring the stability of the base isolation object in a normal state so that the initial rigidity of high restoration force is ensured in a range of small displacement when the base isolation object is displaced from the reference position in an arbitrary direction, and the magnitude of the restoration force is substantially constant when the displacement exceeds the small displacement.例文帳に追加
免震対象物が基準位置から任意の方向に変位した時に、変位が微小な範囲では復元力が高い初期剛性を有し、変位が微小な範囲を超える場合には復元力の大きさがほぼ一定になるように構成することで、通常状態における免震対象物の安定性を確保した上で、免震対象物に過大な地震力が作用するのを防止するようにした。 - 特許庁
The LCD driver chip includes a first conductivity well formed in a substrate, a second conductivity drift region formed in the first conductivity well, a first element isolation film formed in the second conductivity drift region, a gate formed at a first side of the first element isolation film, and a second conductivity first ion implantation region formed in the second conductivity drift region between the first element isolation film and the gate.例文帳に追加
基板に形成された第1導電型ウェルと、前記第1導電型ウェルに形成された第2導電型ドリフト領域と、前記第2導電型ドリフト領域内に形成された第1素子分離膜と、前記第1素子分離膜の一側に形成されたゲートと、前記第1素子分離膜と前記ゲートの間の第2導電型ドリフト領域内に形成された第2導電型第1イオン注入領域を含む。 - 特許庁
The large-sized gas meter has an isolation valve 13 for isolating a gas passage 12 at the time of abnormality and a restoring device 11 which is depressed to restore it.例文帳に追加
異常時にガス流路12を遮断する遮断弁13と,これを押圧して復帰させる復帰用装置11とを有する。 - 特許庁
The quake isolation device 102 for the light structure comprises a rolling bearing 104, a restoration member 110, and a damper 142.例文帳に追加
軽量構造物用免震装置102は、転がり支承104と、復元部材110、及びダンパー142とを含んで構成される。 - 特許庁
The seismic isolation material is obtained by using rubber chips as a matrix, using PVA as a binder, and mixing the rubber chips with a PVA polymer solution.例文帳に追加
ゴムチップを母材とし、PVAを結合材として、ゴムチップとPVAポリマー溶液を混合することにより、免震材料を得る。 - 特許庁
To provide a method of fabricating semiconductor device which can control removal by etching of a film embedded to fill an element isolation groove.例文帳に追加
素子分離溝内に充填した埋め込み膜がエッチング除去されることを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device such as a CMOS device where an element isolation width is reduced and reliability is high, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
素子分離幅が縮小され、かつ信頼性の高いCMOSデバイスなどの半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a small directional coupling apparatus having high power efficiency which can be manufactured at a low cost, while ensuring high isolation.例文帳に追加
高アイソレーションを確保しつつ小型であると共に低コストで製作し得、高電力効率の方向性結合装置を提供する。 - 特許庁
To exhibit a base isolation effect against both a vertical earthquake and a horizontal earthquake.例文帳に追加
水平方向の地震および上下方向の地震に対して免震効果を得ることができる建屋の三次元免震構造を提供すること。 - 特許庁
To provide the TV tuner with a simple circuit configuration that has an RF AGC amplifier circuit from which large isolation between input and output is obtained.例文帳に追加
大きな入出力間のアイソレーションが得られるRF AGC増幅回路を有し、回路構成が簡素なTVチューナを提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming an element isolation region that prevents abnormal oxidation of an element forming region when a trench side wall is oxidized.例文帳に追加
トレンチ側壁を酸化する際に、素子形成領域を異常酸化することがない素子分離領域の形成方法を提供する。 - 特許庁
There is formed a protective insulating film 17 which covers the element isolation region 12 and a corner 16a of the source-drain region 16.例文帳に追加
そして、素子分離領域12及びソース・ドレイン領域16のコーナー部16aを覆う保護絶縁膜17が形成されている。 - 特許庁
To provide an affinity column chromatography for isolation, selection of an enzyme included in a material, in an inexpensive and simple operation.例文帳に追加
材料中に含まれる酵素を、簡便な操作でかつ低コストで、単離、選別するためのアフィニティーカラムを提供することである。 - 特許庁
To provide a dielectric duplexer which can eliminate the deterioration of transmission or reception isolation and can also be made small.例文帳に追加
送信若しくは受信のアイソレーションの悪化を除去し得ると共に、小型化し得る誘電体デュプレクサを提供することを目的とする。 - 特許庁
To improve thermal isolation between a combustion vessel and the surrounding environment to achieve a more accurate result for a calorific value of a combustible substance.例文帳に追加
燃焼性物質の発熱量のより正確な結果を得るために燃焼容器と周囲環境の間の熱的分離を改善する。 - 特許庁
Two gates are separated from each other and disposed on an isolation structure on two sides of a middle region of the active area, respectively.例文帳に追加
2つのゲートが、互いに離隔され、アクティブ領域の中央領域の2つの側方のそれぞれでアイソレーション構造上に配設される。 - 特許庁
The embedded oxide film (element isolation) 3 is formed to be positioned at the bottom of a base lead high concentration layer (p^+-type) 5 formed later.例文帳に追加
この埋込酸化膜(素子分離)3は、後に形成されるベース引出し高濃度層(P+型)5の底部に位置するように形成される。 - 特許庁
Reforming work at deteriorated time is facilitated since there is no need to support the structure by laminated rubber like a base isolation device.例文帳に追加
また、免震装置のように、積層ゴム等で構造物を支持する必要がないので、老朽化したときの改修工事が容易である。 - 特許庁
The SiON layer and the mask layer are patterned to form an opening, exposing a substrate region on which a shallow trench isolation region is formed.例文帳に追加
SiON層とマスク層は所定パターンに定義されて開口が形成され、基板領域を露出して、シャロートレンチ分離領域を形成する。 - 特許庁
To provide a process for the rapid identification of bacteria based on diagnostic RNA species without the additional steps of RNA isolation or purification.例文帳に追加
RNA単離または精製の追加的ステップなしで、診断用RNA種に基づいた迅速な細菌同定プロセスの提供。 - 特許庁
An oxide film 101 for element isolation is formed on a semiconductor substrate 100, and the gates 120 are formed in the element region with the predetermined interval.例文帳に追加
半導体基板100上に素子分離用酸化膜101を形成し、素子領域に所定間隔でゲート120を形成する。 - 特許庁
To restrain bump of a semiconductor element without making a thermal oxidation film thick which is formed in the side wall of a trench where an element isolation film is embedded.例文帳に追加
素子分離膜が埋め込まれる溝の側壁に形成される熱酸化膜を厚くすることなく、半導体素子のハンプを抑制する。 - 特許庁
The P type well region 332 is isolated surely by the isolation region 316 and the insulation film 342 and functions as a third bit line.例文帳に追加
P型ウェル領域332は、素子分離領域316と絶縁膜342とで確実に絶縁されて、第3ビット線として機能する。 - 特許庁
The antireflection film 9 is positioned above the light receiving surface, the element isolation region 2, and the active regions connected to the conductive members.例文帳に追加
反射防止膜9は、受光面と、素子分離領域2と、導電性部材と接続される活性領域との上部に配される。 - 特許庁
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