「Line defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To accurately correct a line defect in the same direction as moire in a diagnostic image.例文帳に追加

診断画像中のモアレと同方向のラインディフェクトを精度よく補正する - 特許庁

To provide a technology for accurately detecting a defect of a sub-word line drive circuit.例文帳に追加

サブワード線駆動回路を正確に不良検出する技術を提供する。 - 特許庁

Thereby, defect in a dummy bit line region can be detected effectively.例文帳に追加

これにより効果的にダミービット線領域の不良を検出することができる。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DETECTING LINE DEFECT OF PICTURE, AND METHOD FOR CORRECTING IMAGE DATA例文帳に追加

画面の線欠陥検出方法及び装置並びに画像データの補正方法 - 特許庁

To provide an imaging apparatus in which a TFT defect caused by static electricity does not occur, and a point defect and a line defect in a detection image are not caused.例文帳に追加

静電気によるＴＦＴ不良が発生することがなく、検出画像において点欠陥、線欠陥を生じることのない撮像装置を提供すること。 - 特許庁

To shorten a test time for detecting short circuit defect by detecting efficiently short circuit defect between a word line and another wiring.例文帳に追加

ワード線と他の配線間のショート不良を効率よく検出し、ショート不良を検出するためのテスト時間を短縮する。 - 特許庁

When short circuit defect exists between the word line and the other wiring, the voltage of the word line is liable to be affected by the voltage of the other wiring, and short circuit defect is detected by the voltage change of the word line.例文帳に追加

ワード線と他の配線との間にショート不良が存在するときに、ワード線の電圧は、他の配線の電圧の影響を受けやすくなり、ショート不良は、ワード線の電圧変化により検出される。 - 特許庁

To reduce a contact fail in a thin-film transistor causing a point defect and a line defect although it is extremely difficult to eliminate the point and line defects completely in the thin-film transistor in an active matrix type liquid crystal display.例文帳に追加

アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、薄膜トランジスタの点欠陥や線欠陥を完全に排除するのは極めて困難であるのが現状である。 - 特許庁

The photonic crystal structure has a line defect portion 10 where no hole 9 is present, interposed by the plurality of holes 9, and the line defect portion 10 serves as an optical waveguide.例文帳に追加

このフォトニック結晶構造は、複数の空孔９に挟まれて空孔９が存在しない線欠陥部１０を有し、線欠陥部１０が光導波路として機能する。 - 特許庁

The waveguide 100 is constituted by connecting the total reflection confinement type waveguide 120 to the end face of the line defect section 113 of the photonic crystal line defect waveguide 110.例文帳に追加

導波路１００は、フォトニック結晶線欠陥導波路１１０の線欠陥部１１３の端面に全反射閉じ込め型導波路１２０を接続して構成されている。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MEMORY AND METHOD FOR DETECTING DEFECT OF WORD LINE OF SEMICONDUCTOR MEMORY例文帳に追加

半導体記憶装置及び半導体記憶装置のワード線欠陥検出方法 - 特許庁

STRUCTURE FOR REPAIRING LINE DEFECT OF ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY AND METHOD OF REPAIRING IT例文帳に追加

有機電界発光表示装置の配線修理構造及びその修理方法 - 特許庁

The gradient of a breakdown voltage line 28 when a defect is present in the trench gate electrode is larger than that of a breakdown voltage line 27 when a defect is absent in the trench gate electrode.例文帳に追加

トレンチゲート電極に不良がある場合の耐圧直線２８の傾きは、トレンチゲート電極に不良がない場合の耐圧直線２７の傾きよりも大きい。 - 特許庁

With a disconnection defect caused on the data line 2, voltage application is maintained to the data line 2 by bypassing the disconnected part by means of the auxiliary line 5.例文帳に追加

データ線２に断線不良が生じたときには、予備線５により断線箇所を迂回してデータ線２への電圧印加が維持される。 - 特許庁

For a linear defect (V line defect) generated on an image due to defect on the vertical CCD of an imaging element (CCD), the imaging apparatus can detect an offset component equivalent to the defect level to perform correction.例文帳に追加

撮像装置では、撮像素子(ＣＣＤ)の垂直ＣＣＤ上の欠陥に起因して画像上で生じるライン性の傷(Ｖライン傷)に対して、例えば傷レベルに相当するオフセット成分を検出して補正を行える。 - 特許庁

A defect correcting circuit 76 of the digital camera corrects a dot flaw, a longitudinal line flaw, and a lateral line flaw of the photographed image simultaneously.例文帳に追加

デジタルカメラの欠陥補正回路７６は、撮影画像の点キズや縦線キズ、横線キズを同時並行して補正する。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage high in capability-for detecting defect of a dummy bit line.例文帳に追加

ダミービット線の不良を検出する能力が高い半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

This result leads to proper correction of the V line defect in motion image photographing.例文帳に追加

その結果、動画撮影時においてＶライン傷の補正を適切に行えることとなる。 - 特許庁

To provide a technique capable of making a V line defect inconspicuous under various conditions.例文帳に追加

種々の条件下でＶライン傷を目立たなくすることができる技術を提供する。 - 特許庁

As it has an addition circuit to integrate the image information as well as it enlarges the image of a defect, even a defect of fine line width can be inspected exactly as a defect.例文帳に追加

欠陥の画像を拡大すると共に画像情報を積分する加算回路を有することにより、微細線幅の欠陥であっても欠陥として正確に検査することができる。 - 特許庁

The sorted final defect distributions and layer defect distributions obtained by each in-line inspection process 10a, 10e and 10f are compared, respectively, and the in-line inspection process 10e obtaining the layer defect distributions (such as 31b) similar to the final defect distributions (such as 26a) is specified.例文帳に追加

分類された最終欠陥分布と各インライン検査工程１０ａ、１０ｅ、１０ｆによって得られたレイヤ欠陥分布とをそれぞれ比較して、最終欠陥分布（例えば２６ａ）に対して類似するレイヤ欠陥分布（例えば３１ｂ）が得られたインライン検査工程１０ｅを特定する。 - 特許庁

To improve the extraction accuracy of line defect and enhance the resistance to noise in a TFT array inspection device to precisely specify a cross line defect even in measured data with insufficient S/N.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置において、線欠陥の抽出精度を向上させること、ノイズに強く、Ｓ／Ｎが不十分な測定データにおいても精度良くクロス線欠陥を特定すること。 - 特許庁

The continuous line for correcting the defect in the color filter is provided with a defect inspecting device 11 to inspect presence or absence of any defect with respect to a color filter substrate colored in a coloring step 100 and a defect correcting device 14 to correct a defective part in the case the defect is present in the color filter substrate as a result of inspection with the defect inspecting device 11.例文帳に追加

着色工程＃１００で着色されたカラーフィルタ基板に対して、欠陥の有無を検査する欠陥検査装置１１と、欠陥検査装置１１で検査した結果、カラーフィルタ基板に欠陥がある場合に、その欠陥部分を修正する欠陥修正装置１４とを備えるカラーフィルタ欠陥修正一貫ラインである。 - 特許庁

This can prevent the foundation layer 34 beneath the scan line 33 from getting thin, thereby avoiding a line defect such as wire breakage.例文帳に追加

これにより、走査線３３の下側の下地層３４が細くなることは無く、断線等の線欠陥を回避することができる。 - 特許庁

To provide a defect detecting method for detecting a defect such as cracking and a crack while having high detecting capability of not becoming unclear in a boundary line of the defect such as the crack without rounding a corner part of the defect such as the crack.例文帳に追加

亀裂等の欠陥の角部が丸められることなく亀裂等の欠陥の境目が不明瞭とならない高い検出能力を有する、割れや亀裂等のような欠陥を検出するための欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

A defect kind decision unit 47 compares the defect addresses stored in the defect address storage unit 46 to decide whether the length of the longitudinal line flaw depends upon the exposure time, and records the decision result in a defect information recording unit 48.例文帳に追加

欠陥種別判定部４７は、欠陥アドレス格納部４６に格納された欠陥アドレスを比較して、縦線キズの長さが露光時間に依存するか否かを判定し、判定結果を欠陥情報記録部４８に記録する。 - 特許庁

To provide a defect marking system to a thin steel sheet capable of removing a defect mark imparted by the error operation of a defect detector without stopping a line and obtaining a product at a state an effective defect only is marked.例文帳に追加

ラインを停止すること無く、欠陥検出器の誤作動によって付された欠陥マークを除去し、有効な欠陥マークのみを付した状態で成品を得ることができる薄鋼板への欠陥マーキングシステムを提供する。 - 特許庁

To make certainly discriminable a skip stitch and other defect of the fine line of single loop or double loop.例文帳に追加

単環や二重環の糸目の目飛びその他の糸目不良を確実に判別できるようにする。 - 特許庁

Therefore, defect detection is facilitated regardless of inclusion of the scan line driving circuit of CC driving.例文帳に追加

よって、ＣＣ駆動を行う走査線駆動回路を含んでいても欠陥検出が容易となる。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of properly correcting a V line defect in motion image photographing.例文帳に追加

動画撮影時においてＶライン傷の補正を適切に行える撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of making a V line defect inconspicuous, irrespective of temperature conditions.例文帳に追加

温度条件に拘わらずＶライン傷を目立たなくすることができる技術を提供する。 - 特許庁

A line defect correcting part 33 obtains pixels of the same phase as line defective pixels in the moire pattern, and corrects the line defective pixels using the value of the pixels.例文帳に追加

ライン欠損補正部３３は、その画素数から、モアレパターン中でライン欠損画素と同じ位相の画素を求め、その画素の値を用いてライン欠損画素を補正する。 - 特許庁

To realize a defect inspection system enabling further efficient production management by sharing inspection result data by the whole production line, and easy recognition of the details of a defect detected by defect inspection.例文帳に追加

生産ライン全体で検査結果データを共有してより効率的な生産管理ができるとともに、欠陥検査で検出された欠陥の詳細を容易に認識できる欠陥検査システムを実現する。 - 特許庁

To provide a processing system for defect information and a processing method for defect information which are capable of analyzing defect information of products on a production line and quickly notifying an operator of the analyzed result.例文帳に追加

製造ラインにおける製品の不具合情報を解析し、解析結果を作業者に速やかに伝達することができる不具合情報の処理システム及び不具合情報の処理方法を提供する。 - 特許庁

The projecting defect Wi of the measuring object W is detected as a white defect image in the image of the dark field section W_b imaged by the line sensor camera 2, but the recessed defect is not detected.例文帳に追加

被測定物Ｗの凸状欠陥Ｗｉは、ラインセンサカメラ２によって撮像された暗視野部Ｗ_b の画像の中に白い欠陥画像として検出されるが、凹状欠陥は検出されない。 - 特許庁

The detection device detects from an obtianed imaged image, defect pixel candidates in each classification, by using each different detection condition in each classification of a point defect or a line defect detected from the imaged image.例文帳に追加

また、検出装置は、取得した撮像画像から、該撮像画像から検出する点欠陥又は線欠陥の種別ごとに異なる検出条件を用いて種別ごとに欠陥画素候補を検出する。 - 特許庁

A line sensor camera 5 for photographing the light beam having transmitted through a hole defect 2 or crack defect 3 of the steel strip 1 is installed above the steel strip 1.例文帳に追加

また鋼帯１の上方には、鋼帯１の穴欠陥２または割れ欠陥３を透過した光線を撮影するラインセンサカメラ５を設置した。 - 特許庁

To provide a surface defect detecting device for a steel strip capable of executing surface testing good in precision by using a surface defect gauge in a pickling line.例文帳に追加

酸洗ラインにおいて、表面欠陥計を用いて、精度のよい表面検査を行うことができる鋼帯の表面欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

A surface defect detecting device 3 is provided for an inspection line, and detects a surface defect on a cold rolled steel sheet 1 for an input to a marking control device 5.例文帳に追加

検査ラインには表面欠陥検出器３が設けられ、冷延鋼板１の表面欠陥を検出してマーキング制御装置５に入力する。 - 特許庁

The pattern defect of the absorbing film 4 is corrected, and then, the line width of the absorbing film 4 of a portion adjacent in a horizontal direction of the pattern defect is made narrow.例文帳に追加

吸収膜４のパターン欠陥を修正した後、パターン欠陥の水平方向隣にある部分の吸収膜４のパターンの線幅を狭くする。 - 特許庁

The substrate, similar to the layer defect distributions in the in-line inspection process 10e to the final defect distribution 26a, is extracted from the substrates through the in-line inspection process 10e.例文帳に追加

そのインライン検査工程１０ｅを経た基板の中から、その最終欠陥分布２６ａに対してそのインライン検査工程１０ｅでのレイヤ欠陥分布が類似しているような基板を抽出する。 - 特許庁

The method is provided with a step which extracts the line defect from an image for defect extraction, a step which corrects line defection of the image for defection extraction, using the line defection information extracted, and a step which extracts a defect pixel using the corrected image for defect extraction, or a step which extracts pixel defection, without using the pixel value of the extracted line defects.例文帳に追加

欠陥抽出用画像より前記ライン欠陥を抽出するステップと、抽出された前記ライン欠陥情報を用いて欠陥抽出用画像のライン欠陥の補正するステップと、補正した欠陥抽出用画像を用いて欠陥画素を抽出するステップとを有するか、抽出された前記ライン欠陥にあたる画素値を用いずに画素欠陥を抽出するステップとを有することを特徴とする。 - 特許庁

Further, a groove 12 is formed on a transparent insulating substrate 1 in advance and the lower-layer wiring line of the structure is buried therein to suppress the disclination defect due to the step of the lower-layer wiring line and the wire breaking defect of the upper-layer wiring line.例文帳に追加

また、予め透明絶縁基板１に溝１２を形成し、その中に上記構造の下層配線を埋設することにより、下層配線の段差に起因するディスクリネーション不良や上層配線の断線不良の発生を抑制する。 - 特許庁

A determination value line 344C that indicates a defect degree determination value line set in a determination condition setting area 390 is displayed on a profile region 344, and a determination value line 346C that indicates a defect degree determination value is displayed on a profile region 346.例文帳に追加

プロファイル領域３４４には、判定条件設定エリア３９０において設定される欠陥度判定値を示す判定値ライン３４４Ｃが表示され、プロファイル領域３４６には、欠陥度判定値を示す判定値ライン３４６Ｃが表示される。 - 特許庁

To reduce a possibility of the occurrence of erroneous detection or operational defect when detecting a polarity of a line.例文帳に追加

回線の極性を検出する際に、誤検出や動作不良が生じる可能性を低減する。 - 特許庁