「M-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To simplify pattern data and improve accuracy in plotting, when a rotating symmetric diagram (radius L) made up of the same pattern repeated M times is plotted.例文帳に追加

同じ図形がＭ個繰り返される回転対称図形（半径Ｌ）を描画する場合のパターンデータの簡略化および描画精度の向上を図る。 - 特許庁

The master pattern M and the object pattern P don't show any satisfactory coincidence in (a), and a large gradation difference is caused in the both patterns as shown in (b).例文帳に追加

（ａ）ではマスターパターンＭとオブジェクトパターンＰがあまりよい一致を示しておらず、両パターンには（ｂ）に示すような大きな階調差が生じている。 - 特許庁

Frequency domain data 134a, 134b are generated by executing Fourier transformation to a dot pattern 132a of a C plate and a dot pattern 132b of an M plate.例文帳に追加

周波数領域データ１３４ａ、１３４ｂは、それぞれ、Ｃ版のドットパターン１３２ａとＭ版のドットパターン１３２ｂをフーリエ変換したものである。 - 特許庁

Lighting of LEDs (LRmn, LGmn, and LBmn) for character/pattern display is controlled by a first control part DR to display character/pattern information on a display part M.例文帳に追加

文字／図柄表示用ＬＥＤ（ＬＲｍｎ，ＬＧｍｎ，ＬＢｍｎ）は、第１の制御部ＤＲにより点灯が制御されることにより、表示部Ｍに文字／図柄情報が表示される。 - 特許庁

If the logic circuit includes a circuit having an n-th (1≤n≤N) logic and an m-th (1≤m≤M) current supply capacity in step S30, the circuit connection information and the layout pattern are created using the n-th logic cell and the m-th current supply cell.例文帳に追加

ステップＳ３０において、論理回路が第ｎ（１≦ｎ≦Ｎ）の論理と第ｍ（１≦ｍ≦Ｍ）の電流供給能力を有する回路を含む場合には、第ｎの論理セルと第ｍの電流供給セルを用いて回路接続情報及びレイアウトパターンを作成する。 - 特許庁

The entire shot region 12 including the mask pattern 13 is expanded in a scanning direction (Y direction) shown as an arrow, with a magnification m of the mask in the X direction of the mask pattern 13 being four times (m>1) and a magnification n of the mask in the Y direction being 8 (n>m>1).例文帳に追加

マスクパターン１３を含めたショット領域１２全体は、矢印で示すスキャン方向（Ｙ方向）に伸張されており、そこに形成されるマスクパターン１３のＸ方向のマスク倍率ｍは４倍（ｍ＞１）、Ｙ方向のマスク倍率ｎが８倍（ｎ＞ｍ＞１）に設定されている。 - 特許庁

The drop drawing is performed only in start opening prize winning where the number of variation display times of a performance pattern reaches m (m>1) in a probability variable game state.例文帳に追加

確変遊技状態において演出図柄の変動表示回数がｍ回（ｍ＞１）に達した以降の始動口入賞時にのみ転落抽選を行うようにする。 - 特許庁

The exposure apparatus irradiates a workpiece W with a light beam of exposure light from an illumination optical system 160 through a mask M, and transfers a pattern Pa of the mask M to the workpiece W.例文帳に追加

露光装置は、照明光学系１６０からの露光光の光束をマスクＭを介してワークＷに照射し、マスクＭのパターンＰａをワークＷに転写する。 - 特許庁

The exposure system is equipped with a lighting system (1 to 9) illuminating a mask (M), and a projection optical system (PL) which projects the image of a pattern provided on the mask (M) onto a photosensitive substrate (W) for exposure.例文帳に追加

マスク（Ｍ）を照明する照明系（１〜９）と、マスクのパターン像を感光性基板（Ｗ）上に投影露光する投影光学系（ＰＬ）とを備えた露光装置。 - 特許庁

One of signals S4-1 to S4-n is set as an enable signal, a clock is supplied to signals S31-1 to S31-m, and time-divided pattern select data on a signal S5 is set in the register.例文帳に追加

信号Ｓ４-1〜Ｓ４-nの何れかをイネーブルとして信号Ｓ３１-1〜Ｓ３１-mにクロックを供給し、信号Ｓ５上の時分割されたパタンセレクトデータをレジスタに設定する。 - 特許庁

To provide a transfer printing tray free from any color irregularity and capable of providing a clear transfer pattern even to an object M to be dyed having three-dimensional irregularities.例文帳に追加

三次元的な凹凸のある被染着物Mに対しても、色ムラの発生がなく鮮明な転写模様の付与が可能な真空吸着式の転写印刷用トレーを提供する。 - 特許庁

The pattern 11b is read by a line sensor 30 for reading an image recorded on the film M.例文帳に追加

フィルムＭに記録された画像を読み取るためのラインセンサ３０によって移動検出パタ−ン１１ｂを読み取る。 - 特許庁

The transportation container M is provided with a pattern M2 for discriminating images and a gripping part M3 of a shape suitable for gripping.例文帳に追加

運搬容器には、画像識別のためのパタン（Ｍ２）および把持に適した形状の把持部分（Ｍ３）を備える。 - 特許庁

The photomask M is provided with a pattern forming region PA two-dimensionally arranging a unit region A1.例文帳に追加

このフォトマスクＭは、単位領域Ａ１を二次元状に配置してなるパターン形成用領域ＰＡを備える。 - 特許庁

To provide an overlapping error measuring method for calculating the true value M of a precise overlapping error with a resist pattern for forming a lower layer pattern and an upper layer pattern, even if the optical axis is deviated.例文帳に追加

光軸にズレが生じても下層パターンと上層パターンを形成するためのレジストパターンとの正しい重ね合わせ誤差の真値Ｍを算定するこのができる重ね合わせ誤差測定方法を提供する。 - 特許庁

Also, whether or not a stop pattern is a big winning pattern is confirmed, and in the case of the big winning pattern, the upper limit value M of a start storage number is changed from '4' which is a normal upper limit value to '20'.例文帳に追加

また、停止図柄が大当り図柄であるか否か確認され、大当り図柄であった場合には、始動記憶数の上限値Ｍを、通常の上限値である４から２０に変更する。 - 特許庁

By forming a large number of hairline thread grooves extending in the direction along this vector field, as an indented pattern, a three-dimensional pattern of the three-dimensional structure M can be expressed in a simulated manner by anisotropic reflection of the pattern.例文帳に追加

このベクトル場に沿った方向に伸びる多数のヘアライン条溝を凹凸パターンとして形成すれば、その異方性反射により、疑似的に三次元構造体Ｍの立体模様を表現できる。 - 特許庁

An illumination optical system 70 irradiates a substrate W with light for pattern exposure via the mask M, and exposure-transfers the line-like pattern 84 corresponding to the main pattern part 81, on the substrate W.例文帳に追加

照明光学系７０が基板Ｗに対してパターン露光用の光をマスクＭを介して照射し、基板Ｗに主パターン部８１に対応するライン状のパターン８４を露光転写する。 - 特許庁

When the remaining charged amount M lowers to less than the reference remaining amount Mref, in a step S4, a present shift pattern is determined whether it is a first pattern adopted when the remaining charged amount is sufficient or a second pattern adopted when the remaining charged amount is not sufficient.例文帳に追加

充電残量Mが基準残量Mrefを下回っていればステップＳ４へ進み、現在の変速パターンが、充電残量が十分な場合に採用される第１パターンおよび充電残量が不十分な場合に採用される第２パターンのいずれであるかが判定される。 - 特許庁

When the pattern of the K printing 51 and the pattern of the M printing 52 agree with each other, the average density of the K+M printing 54 is 0.533, and in all the cases other than when they agree with each other, the average density is 0.800, so that positional deviation is known by detecting the position of the pattern whose average density is 0.533.例文帳に追加

Ｋ印字５１のパターンとＭ印字５２のパターンが一致すればＫ＋Ｍ印字５４の平均濃度は０．５３３、それ以外は全て平均濃度が０．８００となるので、平均濃度が０．５３３となるパターンの位置を検出することで位置ズレ量が判明する。 - 特許庁

At least one part of the 1st patterns 53 and 55 and at least one part of the 2nd pattern 54 are a common pattern, and the common pattern 44 and non-common patterns 45a and 45b different from the common pattern 44 are formed as the 1st patterns 53 and 55 and the 2nd pattern 54 on the mask M.例文帳に追加

第１パターン５３，５５の少なくとも一部と第２パターン５４の少なくとも一部とは共通のパターンであり、マスクＭに、第１パターン５３，５５と第２パターン５４として、共通パターン４４と共通パターン４４とは異なる非共通パターン４５ａ，４５ｂとを形成する。 - 特許庁

This test chart 40 consists of a character pattern and a background pattern, the character pattern is printed in a medium tone color using black (K) ink, and the background pattern is printed in the same medium tone color as that of the character pattern by adjusting blending three ink colors in total C(cyan), M(magenta), and Y(yellow).例文帳に追加

このテストチャートは、文字パターンと背景パターンとから構成され、文字パターンは、Ｋ（墨版）のインクを用いた中間色で印刷し、背景パターンは、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）計３色のインクの配合を調整することにより、文字パターンと同一の中間色で印刷する。 - 特許庁

When the number N of times of holding becomes "0" in the added state of the number M of the overflow, variable display is started respectively in a special pattern display device and a second pattern display device, and a losing pattern is stopped and displayed respectively in the special pattern display device and the second pattern display device.例文帳に追加

このオーバーフロー数Ｍの加算状態で保留回数Ｎが「０」になったときには特別図柄表示装置および第２図柄表示装置のそれぞれで変動表示が開始され、特別図柄表示装置および第２図柄表示装置のそれぞれにはずれ図柄が停止表示される。 - 特許庁

When the M&M discount combination pattern is established by each merchandise corresponding to each sale data stored in sale data storing means, a proportional division discount amount obtained by proportionally dividing a discount amount of the M&M discount is calculated in accordance with the unit cost ratio of each merchandise.例文帳に追加

販売データ記憶手段に記憶された各販売データに対応する各商品によってＭ＆Ｍ値引きの組合せパターンが成立する場合、当該Ｍ＆Ｍ値引きの値引き額を各商品の単価の比率に応じて按分した按分値引き額を算出する。 - 特許庁

When phase-modulating reference light, a specific pixel array pattern formed of two or more pixels by the number of horizontal pixels M×the number of vertical pixels N (M, N are natural numbers≥1, M≠N) is used as a random phase unit.例文帳に追加

参照光を位相変調するのにあたり、水平画素数Ｍ×垂直画素数Ｎ（Ｍ，Ｎは１以上の自然数、Ｍ≠Ｎ）による２以上の画素により形成される特定の画素配列パターンをランダム位相単位とする。 - 特許庁

The extracting function extracts character information M from the picture data G through a process for previously registering the character shape pattern and character decoration pattern of characters constituting the character information M, a process for deciding coincidence between the character shape pattern and the character decoration pattern on the picture data G and a process for specifying the character code of the character information M by using the decided result of coincidence decision.例文帳に追加

文字情報抽出機能は、文字情報Ｍを構成する文字の文字形状パターンおよび文字装飾パターンを予め登録する工程と、画像データＧ上で文字形状パターンおよび文字装飾パターンの一致判定を行う工程と、一致判定における判定結果を用いて文字情報Ｍの文字コードを特定する工程とを経て画像データＧから文字情報Ｍを抽出する。 - 特許庁

Further, during a short-term variation pattern, the situation of weight training due to the human figure character 143 is displayed as a background image in variable indications of pattern streams L, M, R.例文帳に追加

また、短期変動パターン中、図柄列Ｌ，Ｍ，Ｒの変動表示の背景画像として人物キャラクタ１４３がウエイトトレーニングをしている様子を表示する。 - 特許庁

The pattern film deposition is performed by the Physical Vapor Deposition (PVD) method by using a mask M having a plurality of wires arrayed at the spacing corresponding to the width of the line-like pattern.例文帳に追加

ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤを有するマスクＭを用いて、物理気相成長（ＰＶＤ）法によりパターン成膜を行う。 - 特許庁

The values of M and N are set so that the frequency of the pattern P_3 agrees with the frequency of the system clock.例文帳に追加

ここで、出力パターンＰ_３の周波数がシステムクロックの周波数に一致するように、Ｍ及びＮの値を設定する。 - 特許庁

Low-frequency roughness cannot be visually recognized on a dot pattern 133 of a color image generated by overlapping the C plate and the M plate.例文帳に追加

Ｃ版とＭ版を重ね合わせたカラー画像のドットパターン１３３上には低周波のざらつきが視認できない。 - 特許庁

For the purpose of forming m groups of the pattern, the photosensitive material layer is regularly or randomly patterned.例文帳に追加

感光性材料層は、ｍ個のグループのパターンを形成するために、規則正しく、あるいはランダムにパターン化されている。 - 特許庁

On the outer surface of the cooking apron M(1), a pattern 4 expressing fresh strawberries is displayed by a print.例文帳に追加

この割烹衣Ｍ（１）の外表面３には、新鮮なイチゴの絵を表した図柄４が捺染により表現されている。 - 特許庁

The pattern is transferred to a photoresist 6 on a semiconductor wafer 5 by reduced projection exposure using the photomask M.例文帳に追加

このフォトマスクＭを用いた縮小投影露光処理によって半導体ウエハ５上のフォトレジスト６にパターンを転写する。 - 特許庁

To suppress generation of a dot pattern with a low density and a high frequency component when developing (m)-ary-coded image data.例文帳に追加

ｍ値化された画像データを展開する際に、低濃度でかつ周波数成分の高いドットパターンの生成を抑制する。 - 特許庁

The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁

Pattern transfer is performed using a combination of an ultraviolet-curable resin having a surface tension of 31 to 39 mN/m and a stamper having a critical surface tension of 31 mN/m or less.例文帳に追加

表面張力は３１ないし３９ｍＮ／ｍの紫外線硬化型樹脂と、臨界表面張力が３１ｍＮ／ｍ以下のスタンパとを組み合わせて使用し、パターン転写を行う。 - 特許庁

For the game machine, a special pattern start storage area M where a data width is 1 byte is set inside the RAM 116 and respective storage parts 116A-116C are set in the storage area M.例文帳に追加

ＲＡＭ１１６内にはデータ幅が１バイトの特別図柄始動記憶領域Ｍが設定され、記憶領域Ｍには各記憶部１１６Ａ〜１１６Ｃが設定されている。 - 特許庁

The transmitting entity transmits the pilot on a different subband group in each time interval, and selects all M subband groups at M time intervals based on a pilot staggering pattern.例文帳に追加

前記送信エンティティは、各時間間隔において異なるサブバンドグループで前記パイロットを送信し、パイロットスタッガリングパターンに基づいてＭの時間間隔でＭの全サブバンドグループを選択する。 - 特許庁

The large-size fusuma paper, which was so-called sanroku-ban (about 0.9 m wide and 1.80 m long sheet), originated from the ganseki-toshi (rock-tapped look karakami) which was characterized by the wrinkle pattern during the Edo period. 例文帳に追加

襖障子を一枚貼りで貼ることができる、三尺幅で長さ六尺の大判ふすま紙、いわゆる三六判は、江戸の皺紋を特徴とする岩石唐紙で始まっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The photomask M includes shielding patterns (metal wiring shielding units) 30b and 30c for forming metal wiring 20b and 20c; and a shielding pattern (discharge pattern shielding unit) 31 for forming a discharge pattern 21.例文帳に追加

フォトマスクＭは、金属配線２０ｂ，２０ｃをそれぞれ形成するための遮光パターン（金属配線遮光部）３０ｂ，３０ｃと、放電パターン２１を形成するための遮光パターン（放電パターン遮光部）３１とを備えている。 - 特許庁

In the image forming device, a reflection-type sensor module 16 employs an ultraviolet LED light source 40, and therefore even if the test pattern is printed in any of C, M, Y, and K colors, a pattern of the highest concentration can be discriminated with high precision from the test pattern.例文帳に追加

反射型センサモジュール１６に紫外ＬＥＤ光源４０を用いているので、ＣＭＹＫいずれの色で印字されたテストパターンでも、高い精度で最も濃度の濃いパターンを判別することができる。 - 特許庁

A color thermal printer forms a sample print 21 by solid printing a Y calibration pattern 18, an M calibration pattern 19 and a C calibration pattern 20 of predetermined optical density values adjacently above each of the reference patterns 13-15.例文帳に追加

カラー感熱プリンタは、各参照パターン１３〜１５の上方に隣接して、所定の光学濃度値のＹキャリブレーションパターン１８，Ｍキャリブレーションパターン１９，Ｃキャリブレーションパターン２０をベタ印画してサンプルプリント２１を作成する。 - 特許庁

An input pattern identification section 72 outputs a scene, as an identification result, corresponding to an (N+M)-dimensional input pattern based on N likelihood values input from the time-series identification section 11 and M non time-series feature amounts input from the non time-series feature amount extracting sections 71-1 to 71-M.例文帳に追加

入力パターン識別部７２は、時系列識別部１１から入力されるＮ個の尤度値と、非時系列特徴量抽出部７１−１乃至７１−Ｍから入力されるＭ個の非時系列特徴量とを基にした（Ｎ＋Ｍ）次元の入力パターンに対応するシーンを識別結果として出力する。 - 特許庁

First synchronism detection circuits 2-1 to 2-I detect M bits (M<N), being a part of synchronous pattern N bits in the signals obtained by dividing input signals which have been developed in parallel into a plurality of groups and judges the existence of a synchronous pattern in the group.例文帳に追加

第１の同期検出回路２−１〜２−Ｉはパラレル展開された入力信号が複数のグループに分割された信号において同期パタンＮビットの一部であるＭビット（Ｍ＜Ｎ）を検出し、グループ内の同期パタンの存在を判定する。 - 特許庁

A pseudo random pattern generating circuit 4 generates an M-sequence signal that is a pseudo random pattern, and an offset generating circuit 3 adds positive and negative offset currents to a current outputted from a charge pump 2 in response to the M-sequence signal.例文帳に追加

擬似ランダムパターン生成回路４によって擬似ランダムパターンであるＭ系列信号を生成し、オフセット生成回路３で、上記Ｍ系列信号に応じてチャージポンプ２から出力される電流に正及び負のオフセット電流を加える。 - 特許庁