「M-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The electrodes of each same potential, the gray sections, and the slash sections are connected by contact holes so that in an M (1) layer, the electrodes in the gray section may serve as a lattice pattern and electrode terminals may be led out from a circumferential section.例文帳に追加

各同電位の電極、灰色部どうし、斜線部どうしはコンタクトホールによって接続され、Ｍ（１）層では灰色部分の電極が格子パターンとなり外周部から電極端子を引き出すことが可能となっている。 - 特許庁

The method of forming the resist patterns includes cleaning the resist pattern with a rinse liquid having a surface tension of ≤67×10^-3 N/m after selectively exposing and developing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光し、現像した後、表面張力が６７×１０^−３Ｎ／ｍ以下のリンス液で洗浄することを含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

A file is continuously divided from the front into blocks of n (optional integer) bytes, the blocks are further divided into m pieces of groups, and the orders of blocks in a group are first scrambled with a fixed pattern with the group as a unit.例文帳に追加

ｎ（任意の整数）バイトのブロックにファイルの先頭から連続して分割し、さらにこれらのブロックをｍ個から成るグループに分割し、まず、このグループを単位として一定のパターンでグループ内のブロックの順序を攪乱する。 - 特許庁

The film thickness measuring method forms a step part 10 on the laminated film L0 by lifting off the mask pattern M and obtains film thickness Tm of the measuring object layer Lm as Tm=T0-(T1+T2) by measuring depth T0 of the step part 10 by a stylus method.例文帳に追加

そして、マスクパターンＭをリフトオフして積層膜Ｌ０に段差部１０を形成し、段差部１０の深さＴ０を触針法によって測定して測定対象層Ｌｍの膜厚ＴｍをＴｍ＝Ｔ０−（Ｔ１＋Ｔ２）として得た。 - 特許庁

The nozzle 32 is moved relative to a work W with the aperture 49 directing backward and the viscous material M is delivered from the port 48 and the aperture 49 to coat the material in bead pattern along an almost tangent closed loop tracing.例文帳に追加

ノズル３２は開口部４９が後向きとなる状態でワークＷに対して相対移動し、吐出口４８と開口部４９から粘性材料Ｍを吐出して平面視略閉ループ状の軌跡に沿ってビード状に塗布する。 - 特許庁

A reference signal having the same pattern as a signal to which a frequency band limit equal to that which the signal of the M-series signal generator 10 receives on its propagation route is given is outputted from a reference signal generator 11'.例文帳に追加

参照信号発生器１１’からは、Ｍ系列信号発生器１０の信号が、その伝播経路において受けたものと同等の周波数帯域制限を施した信号と同じパターンの参照信号が出力されている。 - 特許庁

A reference signal of the pattern same to that of a signal applied with a frequency band limitation equivalent to that of the signal of the M line signal generator 10 received in a propagation route is output from a reference signal generator 11'.例文帳に追加

参照信号発生器１１’からは、Ｍ系列信号発生器１０の信号が、その伝播経路において受けたものと同等の周波数帯域制限を施した信号と同じパターンの参照信号が出力されている。 - 特許庁

An exposure evaluation mask M includes first regions a1, a3, a5, etc. having pattern based on a design value, and second regions a2, a4, etc. adjoining to the first regions and giving deviation of an exposure amount with respect to the design value.例文帳に追加

露光評価用マスクＭａは、設計値に基づくパターンを有する第１の領域ａ１，ａ３，ａ５，・・・と、第１の領域に隣接して、設計値に対して露光量のずれを与えるパターンを有する第２の領域ａ２，ａ４，・・・と、を有する。 - 特許庁

The light emitting device includes a resin substrate 14 having thermal conductivity of 1.0-9.0 [W/m K], a white insulating layer 15 formed on the resin substrate, a circuit pattern layer 16 formed on the insulating layer, and a light emitting element 13 which is formed on the insulating layer and is electrically connected with the circuit pattern layer.例文帳に追加

請求項１の発明は、熱伝導率１．０〜９．０［Ｗ／ｍ・Ｋ］を有する樹脂基板14と；樹脂基板上に設けられた白色の絶縁層15と；絶縁層上に設けられた回路パターン層16と；絶縁層上に配設されるとともに回路パターン層に電気的に接続された発光素子13と；を具備していることを特徴とする。 - 特許庁

In addition, it also includes a recognition section 43 to recognize the hierarchy order L of the other base station device located in the synchronization hierarchy structure among the base station devices by the combination of the pattern n of the first known signal received by the receiver 12 and the pattern m of the second known signal received thereby.例文帳に追加

また、基地局装置は、他の基地局装置が基地局装置間同期の階層構造において位置する階層順位Ｌを、受信部１２によって受信した前記第１既知信号のパターンｎと、前記受信部によって受信した前記第２既知信号のパターンｍと、の組み合わせによって認識する認識部４３を備えている。 - 特許庁

This aligner is provided with a lump exposure mechanism 4 forming a circuit by collectively exposing the entire surface by a mask M masking the part of the high density and high thin line pattern Wa, and a partial exposure mechanism 7 (17) forming a circuit by partially exposing the part of the high density and high thin line pattern by an optical system more excellent in resolution.例文帳に追加

高密度・高細線パターンＷａの部分をマスキングしたマスクＭにより全面一括露光し、回路を形成する一括露光機構４と、前記高密度・高細線パターンの部分を、より解像力の優れた光学系により部分露光し、回路を形成する部分露光機構７（１７）と、を兼備する露光装置として構成した。 - 特許庁

When an image sensor reads out an image formed on a recording sheet, a concealment pattern data generator generates image data by shifting image data to N pixels, based on the read-out image to one or the other main scanning direction for each M line.例文帳に追加

イメージセンサが記録用紙に形成されている画像を読み取った場合に、隠蔽パターンデータ生成部が、読み取られた画像に基づいた画像データをＭライン毎に、主走査方向の一方又は他方にＮ画素ずらすことでずらし画像データを作成する。 - 特許庁

Then, in the friction stir welding, in the case the waveform pattern M of an output signal for measurement output from the acceleration detection sensor 201 and sample lines H1, H2 are crossed, it is determined that a failure is generated in the rotary tool 3.例文帳に追加

そして、この摩擦攪拌接合では、加速度検出センサ２０１から出力された測定用の出力信号の波形パターンＭと標本線Ｈ１，Ｈ２とが交差した場合に、回転ツール３に破損が生じたことを判断している。 - 特許庁

A belt-like work W is carried and moved, the work mark on the belt-like work W is detected by the alignment microscopes of two alignment units AU, the alignment of the mask M and the work W is performed, and a mask pattern is exposed on the work W.例文帳に追加

帯状ワークＷを搬送移動して、帯状ワーク上のワークマークＷＡＭを、２台のアライメントユニットＡＵのアライメント顕微鏡により検出しマスクＭとワークＷの位置合わせを行ってマスクパターンをワークＷ上に露光する。 - 特許庁

Even when an arithmetic operation based on the same arithmetic formula is performed by using the same numerical value D to the same numerical value M by the arithmetic execution part 130, a power consumption pattern is made different each time, and analysis based on power consumption is invalidated.例文帳に追加

このため、演算実行部１３０が、同一の数値Ｍに対して、同一の数値Ｄを用い、同一の演算式に基づく演算を行ったとしても、消費電力パターンは毎回異なり、消費電力に基づく解析を無効化する。 - 特許庁

In each of sinusoidal stripe patterns required for measuring a three-dimensional shape utilizing a phase shift method, a projection pattern in which sinusoidal amplitude A_n is changed for each period is generated and projected to the object M to be measured for imaging.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンの各々において、１周期毎に正弦波の振幅Ａ_ｎを変化させた投影パターンを生成して被計測物Ｍに投影して撮像する。 - 特許庁

The image is completed in multi-pass with performing a sequential recording in the same recording area of the record medium with each of nozzle trains installed in the recording head 17 according to the data which has been thinned out by a mask pattern M.例文帳に追加

本発明は、記録ヘッド１７に設けられているノズル列のそれぞれによって記録媒体の同一の記録領域に、マスクパターンＭによって間引かれた間引き画像データに従って順次記録を行い、マルチパスで画像を完成させる。 - 特許庁

For instance, a grid-shaped pattern 7 obtained by making the widths of straight lines corresponding to '0' thin and the widths of straight lines corresponding to '1' thick is written down on a medium 2 to be written according to an M sequence being a sequence obtained by repeating a row of '0' and '1' by '2N-1' times.例文帳に追加

“０”と“１”との並びを「２^N−１」個繰り返した系列であるＭ系列に従い、例えば“０”に対応した直線の幅を細くして“１”に対応した直線の幅を太くした格子模様７を被筆記媒体２に記す。 - 特許庁

A correction signal forming circuit 134 forms a correction signal for improving the image quality of notciceable dots adapted to printing primary colors Y, M, C in addition to the pattern arrangement of the extracted dots and the color data of the dots.例文帳に追加

補正信号生成回路１３４は、Ｙ、Ｍ、Ｃ各印刷一次色に適用する注目ドットについての画質改善のための補正信号を、抽出された各ドットのパターンの配置のみならず、各ドットの色の情報をも加味して生成する。 - 特許庁

The calculator 100 calculates a concentration of a light absorbing substance in the space LS on the basis of a calculated result of the measuring device 10, and the controller 9 judges whether or not to transfer an image of a pattern of a mask M onto a substrate W according to the concentration.例文帳に追加

算出部１００は計測器１０の計測結果に基づいて光路空間ＬＳの吸光物質の濃度を算出し、制御部９はこの濃度に応じて基板ＷへのマスクＭのパターンの像の転写を行うか否かを判断する。 - 特許庁

A recording surface Sxy is set on a XY plane in an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz is set on a YZ plane, a reference axis R is set on a Z axis and a three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

In constituting the tag 1 for identification having random patterns P readable by an image sensor 2, a pair of random pattern members 4a and 4b giving rise to moire fringes M constituting the random patterns P are three-dimensionally disposed.例文帳に追加

イメージセンサ２により読取可能なランダム模様Ｐを有する識別用タグ１を構成するに際して、透明媒体３の中に、ランダム模様Ｐを構成するモアレ縞Ｍを生じさせる一対のランダムパターン部材４ａ，４ｂを立体的に配した。 - 特許庁

A heat generation layer M and/or a microwave shielding layer S formed in a predetermined pattern by overlaying the internal surface of a container 10 with conductive polymers, thereby providing the container 10 to be heated by microwaves with a plurality of food materials stored and positioned in a container body 11.例文帳に追加

容器１０の内面に、導電性高分子を積層して所定パターンに形成された発熱層Ｍ及び／又はマイクロ波シールド層Ｓを形成し、容器本体１１に複数の食材を収納配置したマイクロ波加熱用容器１０とする。 - 特許庁

The predetermined time for counting the intersection number is set at a time for the rotary tool 3 to rotate several times considering that a period of the wave pattern M of the measuring output signal synchronizes with a revolution period of the rotary tool 3.例文帳に追加

また、測定用の出力信号の波形パターンＭの周期が回転ツール３の回転周期と同期していることに着目し、交差回数をカウントする所定時間を、回転ツール３が複数回にわたって回転する時間に設定している。 - 特許庁

A three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set by setting a recording surface Sxy on an XY plane of an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz on a YZ plane, and a reference axis R on a Z axis.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

In this case, the CPU of the code reader sets a plurality of scanning lines U, M, and D in a character area 1b, and identifies the character 3 based on the data pattern of the character 3 optically obtained by scanning the character 3 according to the plurality of scanning lines.例文帳に追加

その場合、コード読取り装置のＣＰＵは、文字領域１ｂに複数の走査線Ｕ，Ｍ，Ｄを設定し、それら複数の走査線に従って走査を行うことで光学的に得られた文字３のデータパターンに基づいて文字３を識別する。 - 特許庁

The labor force of Japanese women can be described as being M-shaped with age group 30-34 at the lowest due to the typical working pattern of Japanese women who exit the labor market once upon marriage or childbirth and then return after a few years.例文帳に追加

結婚や出産を機に、いったん労働市場から退出し、数年後にまた復帰するという我が国の女性の典型的な就労パターンにより、年齢階級別労働力は30～34歳階級を底としたＭ字型を描いている。 - 経済産業省

A pattern having an original decorative property is formed by advance, collision characteristics and action of a granule F and compressed air A by a simple jetting operation wherein after wet molding, compressed air A in which a decorating granule F is mixed is jetted onto a surface 2 of a tile green body M cut to a specific size to attach the granule F to the surface 2 of the tile green body M.例文帳に追加

湿式成形後に、定寸に切断されたタイル素地Ｍ表面２に、装飾用粉粒体Ｆを混入した圧縮空気Ａを噴射させて、タイル素地Ｍ表面２に粉粒体Ｆを付着させることによって、簡単な噴射作業で、粉粒体Ｆ及び圧縮空気Ａの進行、衝突特性、作用により、斬新な意匠性を有した模様を形成する。 - 特許庁

To solve the problem in which: after reversible compression processing (first compression processing) for making image data composed of code data indicating an arrangement pattern of m×n pieces of data and values (color data) composing the m×n pixels is performed, when second compression processing is performed with either reversible compression or irreversible compression in order to further reduce the data amount, the image quality of character portions is deteriorated due to irreversible compression.例文帳に追加

画像データをｍxｎのデータの配置パターンを表すコードデータと、前記ｍxｎ画素を構成する値（カラーデータ）で構成する可逆圧縮処理（第１の圧縮処理）を行った後、更にデータ量を少なくする為に、可逆圧縮もしくは非可逆圧縮のどちらかで第２の圧縮処理を行う場合、文字部分に関して、非可逆圧縮による画質の劣化が起こる。 - 特許庁

A mask M held by exposure mechanisms 3A and 3B is brought into contact with a substrate W held by substrate holder mechanisms 3A and 3B of exposure processing parts 1A and 1B of an automatic exposure device and the substrate W is automatically exposed to a specified pattern through the mask W.例文帳に追加

自動露光装置１の各露光処理部１Ａ，１Ｂの基板ホルダ機構３Ａ，３Ｂに保持された基板Ｗに、各露光機構５Ａ，５Ｂに保持されたマスクＭを接触させ、このマスクＭを通して基板Ｗ上に所定のパターンを自動的に露光処理する。 - 特許庁

An electronic control type color printer is a printer to form an image 2 such as a picture and a pattern on transfer paper 3 which is an intermediate material by superposing for instance paints of four colors (yellow Y, cyan C magenta M and black K) so as to form the image 2 on ceramic 1.例文帳に追加

電子制御式カラープリンタは、セラミックス１に、絵柄、図柄等の画像２を形成すべく、例えば４色の絵具（イエローＹ、シアンＣ、マゼンタＭ、ブラックＫ）を重ねるようにして、前記画像２を、仲介物となる転写紙３に形成するためのプリンタである。 - 特許庁

The conductive element is manufactured by the manufacturing method comprising subjecting the photosensitive material for forming the conductive element to pattern exposure and a developing process, the photosensitive material having support, a silver-salt-containing layer, and a conductive particle-containing layer with a binder content of ≤0.2 g/m^2.例文帳に追加

この導電性要素は、支持体と、銀塩含有層と、バインダ量が０．２ｇ／ｍ^２以下の導電性微粒子含有層とを有する導電性要素形成用感光材料をメッシュ状にパターン露光および現像処理する製造方法により製造される。 - 特許庁

After the toner is input to the contact section where the cleaning blade is in contact with the sheet conveying belt and then the sheet conveying belt 8 makes one or more revolutions, process control is performed in which Y, M, and C tone patterns and a B tone pattern are transferred to the sheet conveying belt.例文帳に追加

そして、クリーニングブレードと紙搬送ベルトとの当接部にトナーが入力されてから、紙搬送ベルト８が一周以上したら、Ｙ、Ｍ、Ｃ色の階調パターン、Ｂ色の階調パターンが、紙搬送ベルトに転写されるよう、プロセスコントロールを実施する。 - 特許庁

The substrate 6 in the rotated state is subjected to XY axes complementary control so as to draw a pattern on the substrate 6 by exposure by subjecting each mirror M of the DMD 3 to on-off control based on time-series exposure data while the substrate 6 is inclined in the direction of the angle.例文帳に追加

この状態で、基板６をＸＹ軸補完制御を行うことにより角度θ方向に斜行させながら時系列露光データに基づいてＤＭＤ３の各ミラーＭをオンオフ制御することにより基板６上にパターンを露光（描画）する。 - 特許庁

As a result, if the change of three left, middle and right designs L, M, R, instead of a special game animation, is displayed during the generation of the right of the great hit by the ordinary pattern display device 32, the player can be informed of the right of the great hit being generated.例文帳に追加

この結果、大当り権利発生中に普通図柄表示装置３２で特別遊技動画に代えて左，中，右の３個の図柄Ｌ，Ｍ，Ｒを変動表示させても、遊技者に大当り権利が発生中であることを知らせることができる。 - 特許庁

A video data identification apparatus 70 includes a time-series identification section 11 using HMM, a non time-series feature amount extracting sections 71-1 to 71-M for extracting non time-series feature amount from video data be to processed, and a pattern identification section 72 using NN.例文帳に追加

ビデオデータ識別装置７０は、HMMを用いた時系列識別部１１、処理対象のビデオデータから非時系列特徴量を抽出する非時系列特徴量抽出部７１−１乃至７１−Ｍ、およびＮＮを用いたパターン識別部７２から構成される。 - 特許庁

Since each light transmitting/blocking part 4 has a different light transmitting/blocking pattern in a direction perpendicular to a direction A of movement, it is possible to specify a light transmitting/blocking part 4 positioned over the light receiving region 100 on the basis of optical intensity profile data V_Y(m).例文帳に追加

ここで、各光透過／遮断部４は、移動方向Ａに垂直な方向において光の透過／遮断パターンが異なるため、光強度プロファイルデータＶ_Ｙ(ｍ)に基づき、受光領域１００上に位置する光透過／遮断部４を特定することができる。 - 特許庁

Used is a transparent conductive thin film laminated body which generates not more than 5 pieces of dot pattern with diameter of not less than 0.1 μ inside the plane per 0.1 mm^2 area, when an electric current with current density of 6.7×10^8 A/m^2 is passed for one minute.例文帳に追加

電流密度が６．７×１０^8Ａ／ｍ^2である電流を１分間流した場合に、面内において発生する直径０．１μｍ以上の点状模様の個数が０．１ｍｍ^2の面積当たり５個以下である透明導電性薄膜積層体を用いる。 - 特許庁

While moving a mask member for pattern forming closely in contact and synchronized with the flexible resin substrate during transfer of the flexible resin substrate 2, pattern forming is carried out by using a thin-film forming means in the closely contacted zone with the mask member M.例文帳に追加

真空槽１内を連続して搬送される長尺の可撓性樹脂基板上に、透明導電膜を形成する透明導電膜の形成装置において、可撓性樹脂基板２の搬送中に、パターン形成用のマスク部材を可撓性樹脂基板に密着し同期して移動させながら、マスク部材Ｍとの密着区間にて薄膜形成手段を用いてパターン成膜を行う透明導電膜の形成装置。 - 特許庁

The mask M for depositing a thin film having a predetermined pattern with respect to a substrate for film deposition comprises a mask base material S consisting of silicon, a reinforcing base material H adhered to one main surface MB of the mask base material S to reinforce the mask base material S, and an opening part 24 formed through the mask base material S and the reinforcing base material H corresponding to the predetermined pattern.例文帳に追加

被成膜基板に対して所定パターンを有する薄膜を形成するためのマスクＭにおいて、シリコンからなるマスク基材Ｓと、マスク基材Ｓの一方の主面ＭＢに密着配置されてマスク基板Ｓを補強する補強基材Ｈと、所定パターンに対応してマスク基材Ｓ及び補強基材Ｈを貫通して形成された開口部２４と、を備える。 - 特許庁

A cap film is formed on the main surface of a semiconductor substrate 1 of a semiconductor wafer including a chip, and then exposure, development and etching for forming a cap pattern 15a in a memory area M in the chip and those for forming a cap pattern 15b1 in a spare area E apart from the memory area in the chip are conducted separately and respectively.例文帳に追加

チップを含む半導体ウエハの半導体基板１の主面上にキャップ膜を形成した後、チップ内のメモリ領域Ｍにキャップパターン１５ａを形成するための露光、現像およびエッチング処理と、チップ内においてメモリ領域Ｍから離れた空き領域Ｅにキャップパターン１５ｂ１を形成するための露光、現像およびエッチング処理とをそれぞれ別々に行う。 - 特許庁

The composition for resin print for giving a pattern to a cloth surface comprises an aqueous dispersion including a resin chosen from an acrylic resin and a urethane-based resin, wherein when a volatile component is volatilized from the aqueous dispersion to be a solid state, under the condition of 170°C, the torque when adding torsion for 60 seconds by 1°/second while pressing by 0.35 MPa is 0.085 N×m-0.315 N×m.例文帳に追加

布帛表面に模様を付与するための樹脂プリント用組成物であって、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂から選択される樹脂を含む水性分散体からなり、当該水性分散体から揮発性成分を揮発させて固形状態とした際に、１７０℃の条件下で、０．３５ＭＰａでプレスしながらねじりを１°／秒で６０秒加えた時のトルクが、０．０８５Ｎ・ｍ〜０．３１５Ｎ・ｍであることを特徴とする。 - 特許庁

A scanning exposure type projection optical system, which forms a pattern image of a mask M on a plate by moving the mask M and a plate P relatively to the projection optical system, has at least one deflection member, and the continuation direction of the periodic waving of the reflecting surface of the deflection member is made to cross the direction orthogonal to the scanning direction of the mask and plate.例文帳に追加

マスクＭおよびプレートＰを投影光学系に対して相対的に移動させることによりマスクのパターン像をプレート上に形成する走査露光型の投影光学系において、投影光学系は、少なくとも１つの偏向部材を有し、偏向部材の反射面に存在する周期性を持つうねりの連続方向をマスクおよびプレートの走査方向と直交する方向と交差する方向とした。 - 特許庁

Although dispersion is caused in the output signals from the respective pixels due to the dispersion of the characteristics of the constant current sources, dispersions do not appear as fixed pattern noise but are caused random by as in the case, when the constant current sources are connected to the signal lines 1-1 to 1-m and are installed in respective columns.例文帳に追加

このようにすることによって、定電流源の特性のバラツキによって、各画素からの出力信号にバラツキが生じるが、定電流源を信号線１−１〜１−ｍに接続して各列毎に設けた場合のように、固定パターンノイズとして現れずに、そのバラツキがランダムに生じる。 - 特許庁

To reduce image quality degradation due to beating caused by ink overlap by planning a mask pattern used for completing an image in a predetermined region of a recording medium with a plurality of times of scanning of a first and a second nozzle group (C nozzle group, M nozzle group).例文帳に追加

インクを吐出するための第1および第２のノズル群（Ｃノズル群、Ｍノズル群）の複数回の走査によって記録媒体の所定領域の画像を完成させるために用いるマスクパターンを工夫することによって、インクの重なりに起因するビーディングによる画質劣化を軽減する。 - 特許庁