「M-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, a halftone lamp is realized to select a halftone pattern so as not to perform rendering for the C, M or Y color value used for obtaining the black dot, and to select the halftone pattern so as to perform complete rendering for a K color value used for obtaining the black dot.例文帳に追加

さらに、黒点を得るために使用されるＣ、ＭまたはＹカラー値についてレンダリングを行わないように、ハーフトーンパターンが選択され、また、黒点を得るために使用されるＫカラー値について完全なレンダリングを行うように、ハーフトーンパターンが選択されるようにハーフトーンランプを実現する。 - 特許庁

In the sewing machine M, regarding sewing data inputted by an operation panel 20, by a control part 100 as a pattern number setting means and a pattern kind setting means, the number and kind of the stitch patterns in the sewing data are set and the sewing data are stored in an EEPROM 104.例文帳に追加

ミシンＭにおいて、操作パネル２０により入力される縫製データに関し、パターン数設定手段やパターン種類設定手段としての制御部１００により、縫製データにおける縫い目パターンの数や種類を設定するとともに、その縫製データをＥＥＰＲＯＭ１０４に記憶する。 - 特許庁

In the ink-jet printer which forms images by discharging ink while scanning an ink-jet head 1, a symmetric pattern having slits of a plurality of widths combined at constant intervals is provided as absolute position marks c, e and f to a printing pattern of a transparent encoder film M set in a carriage 2 movement direction.例文帳に追加

インクジェット記録ヘッド１を走査させつつインクを吐出し、画像を形成するインクジェットプリンタにおいて、キャリッジ２移動方向に設けられた透明エンコーダフィルムＭの印刷パターンに、一定間隔ごとに複数の幅のスリットを組み合せた対称パターンを絶対位置マークｃ、ｅ、ｆとして設けた。 - 特許庁

The projection optical system for exposing a photosensitive surface by projecting the image of the pattern surface on an original plate M to the photosensitive surface on a substrate P satisfies the conditions L/Ei<7 where L: the distance on the optical axis from the pattern surface and Ei: the diameter of the exposure region where the photosensitive surface is exposed.例文帳に追加

原版Ｍ上のパターン面の像を、基板Ｐ上の感光面に投影して感光面を露光する投影光学系において、Ｌ：パターン面から感光面までの光軸上の距離、Ｅｉ：感光面を露光する露光領域の直径、とするとき、Ｌ／Ｅｉ＜７なる条件を満足する。 - 特許庁

A movement amount modifier modifies the movement amount T of the embroidery pattern image displayed on the liquid crystal display 22 based on the zoom rate M specified by a zoom rate specifier when a transfer key for inputting the transfer of the embroidery pattern image is operated on the liquid crystal display.例文帳に追加

移動量変更部は、この液晶ディスプレイ上で刺繍模様画像の移動を入力するための移動キーが操作されると、表示倍率設定部で設定された表示倍率Ｍに応じて液晶ディスプレイ２２に表示されている刺繍模様画像の移動量Ｔを変更する。 - 特許庁

In a line image pattern formed by deviating the writing timing in a main scanning direction and/or a sub scanning direction, a toner image of line Y formed by an image forming means for Y in the test pattern is formed so as to be superposed within a matte patch range by M or C toner.例文帳に追加

主走査方向及び／又は副走査方向について書き込みタイミングをずらして形成した線像パターンで、該テストパターン内でＹの画像形成手段によって形成されたＹ線のトナー像はＭ又はＣトナーによるマット状のパッチ範囲内に重ねて形成されている。 - 特許庁

In the sheet, in which a coating layer is formed on a fibrous sheet and a pattern layer is formed on the coating layer, the moisture-permeable sheet having the moisture permeability (25°C) of 2,000 g/m^2.24 hr or more is provided.例文帳に追加

繊維質シート上に塗布層が形成され、当該塗布層上に図柄層を有するシートであって、当該シートの透湿度（２５℃）が２０００ｇ／ｍ^2・２４ｈｒ以上である透湿性シートに係る。 - 特許庁

When this condition is established and winning is obtained during 20 times of succeeding pattern variation, the third output M is executed at a probability of 2/3 to predict 100% winning.例文帳に追加

この状態が、条件成立となり、以後２０回の図柄変動中に当りとなった場合に、２／３の確率で３回目のＭ出力を実行することで、１００％の当りを予告するようにした。 - 特許庁

When a business card management program to be a user function of a portable telephone set 1 is started, a business card creating function 100 is selected by a menu key (M key) and a required business card pattern is read out to create a business card.例文帳に追加

携帯電話機１のユーザ機能である名刺管理プログラムが起動され、メニューキー（Ｍキー）により名刺作成機能１００を選択して、所望の名刺パターンを読み出して名刺を作成する。 - 特許庁

This embroidery machine M moves a cloth support frame 16c supporting a processing cloth C3 relatively to a sewing needle 22 and sews a pattern on the processing cloth C3 with driving and controlling a needle bar-jumping solenoid 41 or the like.例文帳に追加

刺繍ミシンＭは、針棒ジャンプ用ソレノイド４１等を駆動制御させながら、縫針２２に対して加工布Ｃ３を支持する布支持枠１６ｃを移動させて、加工布Ｃ３に模様を縫製する。 - 特許庁

By aligning an extending direction of a stripe pattern on the mask M to the direction where the viewing angle α of the incident light is large, illuminance can be increased while keeping preferable exposure accuracy.例文帳に追加

マスクＭのストライプパターンの伸びる方向と、入射する光の視角αが大きい方向とを一致させることにより、良好な露光精度を維持した状態で、照度を大きくすることができる。 - 特許庁

By aligning the direction with the large viewing angle with the extending direction of the stripe pattern of the mask M, the use efficiency of light is increased and illuminance on the irradiation face can be increased.例文帳に追加

上記視角が大きい方向とマスクＭのストライプパターンの伸びる方向とを一致させることにより、光の利用効率が上がるとともに、光照射面での照度を高くすることができる。 - 特許庁

A test chart 91 is printed which includes: a YMC non-discharge detecting pattern image 71 consisting of a process black colored Y+M+C dot 88 and a K dummy jet adjusting image 73 consisting of a K dot 74.例文帳に追加

また、プロセスブラック色のＹ＋Ｍ＋Ｃドット８８から成るＹＭＣ不吐出検知パターン画像７１と、Ｋドット７４から成るＫダミージェットと調整画像７３と、を含むテストチャート９１を印字する。 - 特許庁

To eliminate noise such as the ruggedness of an isolated point and an edge in an image inputted while one line is divided into a plurality of areas by performing pattern matching in the block unit of m×n pixels.例文帳に追加

１ラインが複数の領域に分割されて入力する画像中の孤立点やエッジの凹凸などのノイズを、ｍ×ｎ画素のブロック単位でパターンマッチングを行うことにより除去する。 - 特許庁

When the printing data are printed by overlapping a red stamp pattern (secret) on it, planes where drawing development is finally performed become three planes of MYK since red is drawn and developed in M and Y planes.例文帳に追加

その印刷データに、赤のスタンプパターン（マル秘）を重ね合わせて印刷する場合、赤はＭとＹプレーンに描画展開するので、最終的に描画展開されるプレーンは、ＭＹＫの３プレーンになる。 - 特許庁

Therefore, if a voltage applied to the wiring pattern of the iron substrate 40 changes suddenly, the iron plate part 41 does not diffuse electromagnetic noise because it is always fixed to the motor ground potential M-GND.例文帳に追加

よって、鉄基板４０の配線パターンにかかる電圧が急激に変動しても、鉄板部分４１は、常にモータグランド電位Ｍ−ＧＮＤに固定されているので、電磁ノイズを拡散させない。 - 特許庁

In drawing data D3, masks M having the same layout pattern P2 are designated by the same identifier id2, which reduces the burden of creating the drawing data D3.例文帳に追加

また、描画データＤ３中においても、同一のレイアウトパターンＰ２を有するマスクＭは同一の識別子ｉｄ２で指定されるため、描画データＤ３の作成にかかる負担も低減させることができる。 - 特許庁

The pattern group includes a plurality of patterns representing respective first to (2^(N-M)-1)th half tones formed by setting two pixels adjacent to each other in the lateral direction as a set, in a pixel block with the sets longitudinally and laterally arranged with a predetermined number, and making gray scales of the two pixels constituting each set identical to each other.例文帳に追加

ここで、パターン群は、横方向に隣り合う２個の画素を組として、組を縦横に所定個数だけ配列した画素ブロック内に、組のそれぞれを構成する２個の画素の階調を同一にして形成した、１番目から２^(N-M)−１番目までの中間調のそれぞれを表現する複数のパターンを含む。 - 特許庁

When a tag 1 is attached to beef, "property information of beef" is inputted to a terminal device 4 and then the "property information of beef M" is transmitted to a server 2, management data generation part 23 of the server generates food data by making the "property information of beef M" and the "dot pattern of the tag 1" correspond to each other.例文帳に追加

牛肉にタグ１を添付したときに、端末装置４に「牛肉の属性情報」を入力すると、その「牛肉Ｍの属性情報」はサーバ２に送信され、サーバ２の管理データ作成部２３で、「牛肉Ｍの属性情報」と「タグ１のドットパターン」とを対応付けて、食品データが作成される。 - 特許庁

A substrate transfer mechanism 20 is applied to a proximity scanning exposure apparatus 1 that irradiates an approximately rectangular substrate W with exposure light EL through a mask M to impart a pattern P of the mask M onto the substrate W; and the mechanism supports the substrate W by floating and transfers the substrate W in a prescribed direction.例文帳に追加

基板搬送機構２０は、略矩形状の基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１に適用され、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板Ｗを所定方向に搬送する。 - 特許庁

By observing the marked region M of a laminated wiring board 1 formed in this manner from the upper side in the drawing while lighting it from the backside thereof, the identification information of the hole pattern 31 can be read in clear contrast.例文帳に追加

かかる積層配線板１のマーキング領域Ｍを，背後からバックライト照明しつつ図１中上方から観察することにより，明確なコントラストで穴パターン３１の識別情報を読み取ることができる。 - 特許庁

Firstly, K printing (pattern printing with black toner) 51 is continuously transferred to a belt by fifteen with printing of a dot line corresponding to a progression "000100110101111" of an M sequence of 15-bit length as basic form.例文帳に追加

１５ビット長のＭ系列の数列「０００１００１１０１０１１１１」に対応するドットラインの印字を基本形として先ずＫ印字（黒トナーによるパターン印字）５１を１５個連続してベルトに転写する。 - 特許庁

The control part preferentially searches for the position detection pattern for an area portion corresponding to a display position of the marker M inside a memory when reading the two-dimensional code C from image data in the memory.例文帳に追加

制御部は、メモリに取込んだ画像データから二次元コードＣの読取処理を行うにあたり、メモリ中のマーカＭの表示位置に該当する領域部分について、優先的に位置検出パターンの探索を行う。 - 特許庁

To provide a scheduler, capable of reducing the total amount of a memory storing a shuffle pattern in the case of inputting such data, in which the number M of inputting systems is different from the number N of outputting systems and performing shuffling.例文帳に追加

入力する系統の数Ｍと出力する系統の数Ｎが異なるようなデータを入力してシャッフリングを行う場合にシャッフルパタンを記憶するメモリの総量を低減することのできるスケジューラを得ること。 - 特許庁

The ultraviolet-absorbing colorless toner is accommodated in an electrophotographic printer and a pattern which reads like CEM is printed for experiment in 13 2-cm-squares arranged crosswise from A to M and 9 2-cm-squares arranged lengthwise from 1 to 9.例文帳に追加

電子写真式プリンタに紫外線吸収無色トナーを収容し、実験用として横にＡ〜Ｍまで１３個、縦に１〜９まで９個の２ｃｍ四方の升目の中にＣＥＭと読めるパターンを印刷する。 - 特許庁

The control device of the sewing machine M can change the relative tracing speed of the cloth supporting frame 16c in the tracing mode in accordance with the length of the side of masking data corresponding to a pattern to be sewn to the cloth.例文帳に追加

ミシンＭの制御装置７０は、トレースモードの際の布支持枠１６ｃの相対的なトレース速度を、加工布Ｃ３に縫製する模様に対応するマスクデータ９６の辺の長短に応じて変更できる。 - 特許庁

This drying device is used for drying a base G of large size on which the thick film paste is applied with the specific pattern, and heats the coated paste by a mid infrared ray heater of maximum central wavelength of 2-4 micron m.例文帳に追加

所定パターンで厚膜ペーストが塗布された大型基板Ｇを乾燥させる装置であって、塗布されたペーストを最大中心波長が２〜４μｍの中赤外線ヒーター２１で加熱するように構成する。 - 特許庁

An interface between a black area and a color area is discriminated and the color image data corresponding to the color boundaries in an M pixel width of the color area are modified by a thinning operation in conformity with a color pixel modification pattern.例文帳に追加

ブラック領域とカラー領域の間のインタフェースが識別され、カラー画素修正パターンに従って間引き操作によりカラー領域のＭ画素幅のカラー境界に対応するカラー画像データが修正される。 - 特許庁

The reticle 2 for projecting a light is subjected to dark-field illumination, and the scattering light from a first reticle pattern is guided to an object lens 4 via a beam splitter 3, collimated at the object lens 4, and projected to an autocollimator mirror M.例文帳に追加

投光用レティクル２が暗視野照明され、第１レティクルパターンからの散乱光が、ビームスプリッタ３を介して対物レンズ４に導かれ、対物レンズ４でコリメートされた散乱光は、オートコリメータミラーＭに投影される。 - 特許庁

The specified frequent course is divided into subsections at a point advanced by a predetermined distance (100 m) from a point where a start and a stop are predicted, e.g. an intersection, and a travelling speed pattern candidate is formed for each subsection.例文帳に追加

特定した頻発経路は、交差点等の発進と停止が予測される地点から所定距離（１００ｍ）だけ進行した地点で小区間に分割し、各小区間毎に走行速度パターン候補を作成する。 - 特許庁

Ther the present number of sheets (k) is initialized (1605), the grade (n), the class (m) and the present number of sheets (k) are transferred to a printing pattern forming circuit, and then, a bit map is developed in a printing RAM in accordance with a previously set format (1606).例文帳に追加

そして、現在の部数ｋを初期化し（１６０５）、学年ｎ、クラスｍ、現在の部数ｋを印字パターン生成回路に渡し、既に設定したフォーマットに従って印字ＲＡＭへビットマップが展開される（１６０６）。 - 特許庁

A partial regression coefficient deriving means 63 derives a partial regression coefficient on respective joints, by making a multiple regression analysis on the basis of the time series joint angle pattern and (m) sets of (n) pieces of output signals.例文帳に追加

偏回帰係数導出手段６３は、時系列関節角度パターンと、ｍ組のｎ個の出力信号とに基づいて重回帰分析を行い、各関節のそれぞれについて偏回帰係数を導出する。 - 特許庁

Each of the units M, S transmits an acknowledgement message including an ID code of its own unit to the controller 10 and the controller 10 decides provision of the local transmission pattern to a sender of the acknowledgement message received at first.例文帳に追加

各ユニットＭ，Ｓはコントローラ１０に自ユニットのＩＤコードを含めた応答メッセージを送信するが、コントローラ１０は最初に受信した応答メッセージの送信元に対して、当該ローカル伝送パターンの付与を決定する。 - 特許庁

Further, the position fluctuation and the like of the pattern on the mask are predicted based on characteristics obtained in this manner and are corrected for forming, thus accurately forming the circuit pattern.例文帳に追加

マスク上パターンの異なるｎ個の点の投影像の光強度を測定し、m個（ｍ＜ｎ）の既知の波面収差関数に対するｍ個の重み係数を未知数とするｎ個の連立方程式を解くことにより、投影レンズの収差を正確に求める、これに基づき収差特性を調整したり、又はマスク上パターンの寸法又は位置を補正する。 - 特許庁

Image processing data employing any one ink color of cyan C, magenta M or yellow Y is arranged in check pattern in units of one dot and image processing data of other two colors is arranged in check pattern in units of two dots adjacent to each other in the printing direction such that one dot is overlapped.例文帳に追加

シアンＣ、マゼンタＭ、イエローＹのいずれか１つのインク色を用いた画像処理データを１ドット単位の市松模様に配列し、他の２色の画像処理データを印刷方向に隣位する２ドット単位の市松模様で、かつ、他の２色の市松模様は１ドット分の重なり部が形成されるように配列する処理を行う。 - 特許庁

The irradiation unit 14 of the proximity scanning exposure apparatus 1 branches an exposure beam EL emitted from a light source 41 into two directions on a reflection unit 46, 47, so that a first pattern P1 and a second pattern P2 formed in a single mask M are irradiated with the light, respectively, in different directions from each other to expose a substrate W.例文帳に追加

近接走査露光装置１の照射部１４は、光源４１から照射された露光用光ＥＬを反射部４６、４７で２方向に分岐させ、それぞれ異なる２方向から、１枚のマスクＭに形成された第１のパターンＰ１、及び第２のパターンＰ２に照射して基板Ｗを露光する。 - 特許庁

The illuminating device IL is provided with: an illuminating optical unit 10 having a plurality of illuminating optical systems 11, wherein a plurality of illuminating areas are formed on the pattern face Ma of the mask M; and an illuminating area position detecting unit 20 to detect the positions of the illuminating areas formed on the pattern face Ma.例文帳に追加

照明装置ＩＬは、複数の照明光学系１１を有し、マスクＭのパターン面Ｍａ上に複数の照明領域を形成する照明光学ユニット１０と、パターン面Ｍａに形成される複数の照明領域の位置を検出する照明領域位置検出ユニット２０とを備える。 - 特許庁

An interlinear AND comparing part MR computes AND between the interlinear components stored in the dependence storage part M and sets the input-output group comprising an output pattern including one ore more output addresses and output values, and an input pattern including one or more input addresses and input values.例文帳に追加

行間論理積比較部ＭＲは、依存関係格納部Ｍに格納されている各行成分間の論理積演算を行い、１以上の出力アドレスおよび出力値を含む出力パターンと、１以上の入力アドレスおよび入力値を含む入力パターンとからなる入出力グループを設定する。 - 特許庁

The bottom lid 80 is an insert molding plate formed by insulatingly separating three terminal boards 110, 120, 130 with mold resin M, and in recessed parts 111, 121, 131 of the terminal boards 110, 120, 130, outer faces 111a, 121a, 131a downward protruded downward from the lower face of the mold resin M form a substrate connection pattern for soldering reflow.例文帳に追加

底蓋８０は、３枚の端子板１１０，１２０，１３０がモールド樹脂Ｍで絶縁分離されて成るインサート成形板であり、それら端子板１１０，１２０，１３０の凹状部１１１，１２１，１３１においてモールド樹脂Ｍの下面より下方に突出した外側面１１１ａ，１２１ａ，１３１ａが半田リフローのための基板接続用パターンとなっている。 - 特許庁

The device has data on loading patterns M to be updated and already updated loading patterns N, finds the conformity of the loading patterns M, compares it with that of the loading patterns N one by one in the order of conformity and stochastically recombines the loading pattern obtained by extracting either one whose conformity is higher to generate loading patterns J1.例文帳に追加

更新する複数の装荷パターンＭと、それ以前に更新された複数の装荷パターンＮに対するデータを有し、前記装荷パターンＭについて適合度を求め装荷パターンＮとの適合度を適合度順に順次比較し、適合度の高い何れか一方を抽出した装荷パターンを確率的に組み替え装荷パターンＪ１を生成する。 - 特許庁

This invention relates to a wiring substrate 30 in which there is formed a positioning mark M for mutually aligning the wiring substrate 30 and an exposure device 10 to expose a required exposure pattern to the wiring substrate 30, is characterized in that there are formed a rough positioning mark M1 and a precise positioning mark M2 as the positioning mark M.例文帳に追加

配線基板３０と露光装置１０とを相互に位置合わせして、配線基板３０に所要の露光パターンを露光するための位置決め用マークＭが設けられた配線基板３０であって、位置決め用マークＭとして、粗位置決め用マークＭ１と、精密位置決め用マークＭ２が設けられていることを特徴とする配線基板３０である。 - 特許庁

In the decoration display body 1, the pixel 31 includes an m-color pixel 51 colored in magenta and a y-color pixel 61 colored in yellow, the pixel 31 is formed by overlapping both color pixels 51, 61, and the pixel diameters of the m-color pixels 51 are gradually changed in a predetermined direction of the pixel pattern 32.例文帳に追加

本装飾表示体１において画素３１はマゼンダで着色されたｍ色画素５１とイエローで着色されたｙ色画素６１とからなり、両色画素５１、６１を重ねることによって画素３１が形成されるとともに画素パターン３２の所定の方向に沿ってｍ色画素５１の画素径が次第に変化することを特徴とする。 - 特許庁

Input circuits 102 input a common test pattern to each of pairs of shift registers in, for example, two lines out of the N lines of the N-line M-stage shift register circuit 101.例文帳に追加

Ｎ行並列配置Ｍ段のシフトレジスタ回路１０１のＮ行のうち例えば２行のシフトレジスタ回路を１組として、各組において、１組の２行のシフトレジスタ回路に対して入力回路１０２が共通の同一テストパターンを入力する。 - 特許庁

This is because of the following reasons: In an ultraviolet region with a wavelength of 400 nm or less, the difference in reflectivity between a white ground and printed portions of the C, M, and Y colors becomes large, and concentration difference occurs among a plurality of patterns included in the test pattern.例文帳に追加

これは、波長４００ｎｍ以下の紫外域では、ＣＭＹ各色において白下地と印字部分との反射率差が大きくなり、テストパターンに含まれる複数のパターン間で濃度差が発生するためである。 - 特許庁

This exposure apparatus includes: a projection optical system (PL); a first stage mechanism (PS) for moving a photosensitive substrate (P) while holding it; and a second stage mechanism (MS) for moving an object (M) having a pattern while holding it.例文帳に追加

本発明の態様にかかる露光装置は、投影光学系（ＰＬ）と、感光性を有する基板（Ｐ）を保持して移動する第１ステージ機構（ＰＳ）と、パターンを有する物体（Ｍ）を保持して移動する第２ステージ機構（ＭＳ）と、を備える。 - 特許庁