| 意味 | 例文 |
PLASMA-TYPEの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 891件
To provide a plasma irradiation device in which, by applying a device for generating mild plasma such as glow-type one produced through dielectric-barrier discharge or the like, a thermal load is extremely low with a low-temperature plasma, and operability and safety are good, and loads to a living body are reduced.例文帳に追加
誘電体バリア放電等を利用したグロー状プラズマを活用したマイルドなプラズマデバイスを適用することで、低温度なプラズマで熱負荷が極めて少なく、操作性、安全性、生体への負荷低減を図ることができるプラズマ照射装置を提供する。 - 特許庁
To provide a striker type plasma generation apparatus for generating higher-quality plasma while utilizing a target material to a maximum by stabilizing the contacting operation of a striker over a long period, and to provide a plasma processing apparatus using the same.例文帳に追加
ストライカによる接触作用を長期に亘って安定的に行わせて、ターゲット材料を最大限に利用可能にし、且つ生成プラズマの高品質化を実現することのできるストライカ式プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。 - 特許庁
In the work conveying device, a plasma type surface treating device 56 equipped with a plasma gun 102 for ashing processing and a plasma gun 103 for liquid repellency imparting processing is arranged to remove a solvent left sticking on the bank part and make the bank part liquid-repellent again.例文帳に追加
ワーク搬送装置に、アッシング処理用のプラズマガン102と、撥液化処理用のプラズマガン103とを備えるプラズマ式表面処理装置56を配置し、バンク部に付着残留する溶剤を除去すると共に、バンク部の撥液性を回復させるものである。 - 特許庁
In the dry cleaning of the parallel and flat type plasma-treating unit, gas for cleaning is changed into plasma in a treatment chamber by applying high-frequency power to both electrodes, thus carrying out cleaning by the gas.例文帳に追加
平行平板型プラズマ処理装置のドライクリーニングにおいて、クリーニング用のガスを2つの両電極に高周波電力を印加して処理チャンバ内でプラズマ化し、このガスによりクリーニングを行う。 - 特許庁
To provide a plasma treatment device of an atmosphere opening type in which a by-product of plasma is not generated and which has no treatment unevenness due to the shape of an electrode peripheral member and a gas flow.例文帳に追加
プラズマの副生成物生成がなく、電極周辺部材のなどの形状やガスの流れに起因した処理ムラが生じることがない大気開放型のプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
In this process for activating the p-type semiconductor layer by using plasma, the other parts in the semiconductor structure can be prevented from being affected by plasma, and any side reaction can be prevented from being generated.例文帳に追加
このほか、本発明によると、プラズマを使用してp型半導体層を活性化する過程で、半導体構造中のその他の部分が上述のプラズマの影響を受けて副反応を発生しない。 - 特許庁
Based on the discharge timing signal S9, a discharge drive signal S11, which actually discharges between the anode and the cathode, is generated in a plasma arc circuit 8, and applied to a plasma address type liquid crystal panel 10.例文帳に追加
放電タイミング信号S_9 に基づいて、プラズマ放電回路8において、実際にアノード、カソード間を放電させる放電ドライブ信号S_11が生成され、プラズマアドレス型液晶パネル10に印加される。 - 特許庁
The output of two high frequency power sources being in mutually independent relation is supplied to the double-sided discharge type plasma source; thus plasma on both the sides can be generated uniformly without any unbalance.例文帳に追加
両面放電型のプラズマ源に、互いに独立の関係にある2つの高周波電源の出力を供給することにより、両側のプラズマをアンバランス無く、均一に生成することを可能とする。 - 特許庁
To provide an operation method for a plasma type ash melting furnace capable of preventing plasma arc from being eliminated when molten metal accumulated at the bottom part of the ash melting furnace is discharged while the ash melting furnace is operated.例文帳に追加
灰溶融炉の底部に溜まる溶融メタルなどを、灰溶融炉を運転しながら排出する場合に、プラズマアークが消失することのないプラズマ式灰溶融炉の運転方法を提供すること。 - 特許庁
After that, this evaporated insulating film 2 is processed by at least one type selected from the group of hydrogen plasma processing and oxygen plasma processing by setting the temperature of the substrate 1 at 300 to 500°C.例文帳に追加
そして、この蒸着絶縁膜2に対して、基板1の温度を300乃至500℃にして、水素プラズマ処理及び酸素プラズマ処理からなる群から選択された少なくとも1種の処理を施す。 - 特許庁
To provide a plasma tube array-type display device in which a plasma tube array can be peeled off easily from a frame substrate, and an impact applied to the frame substrate can be buffered.例文帳に追加
本発明は、容易にフレーム基板からプラズマチューブアレイを剥離することができ、フレーム基板に加わった衝撃を緩衝することが可能なプラズマチューブアレイ型表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The second electrode 2 serves as the anode or the cathode of non-transferred type plasma P1 formed in connection with the first electrode 1, and serves as the anode or the cathode of transferred type plasma P2 formed in connection with the external electrode 200.例文帳に追加
さらに、第二の電極2は、第一の電極1との関係で形成される非移行型プラズマP1の陽極または陰極として機能し、外部電極200との関係で形成される移行型プラズマP2の陽極または陰極としても機能する。 - 特許庁
The P-type thermoelectric material is manufactured by carrying out mechanical alloying treatment to a mixture of Mg and CaSi_2 and sintering the mixture by discharge plasma as a manufacturing method for the P-type thermoelectric material.例文帳に追加
p型熱電材料の製造方法としては、Mg及びCaSi_2の混合物にメカニカルアロイング処理を施した後、放電プラズマ焼結することにより製造される。 - 特許庁
Then quantitative data of each emission type is monitored and the state of operation of the plasma treating apparatus and the state of treatment of the wafer is judged according to the change in quantitative data of each type of emission.例文帳に追加
次いで,各発光種の定量データを監視し,各発光種の定量データの変化に基づいてプラズマ処理装置の運転状態,ウエハの処理状態を判断する。 - 特許庁
A groove in the shape of a horizontal hole is formed on the border of the p-type semiconductor region and n-type semiconductor region of the inner sidewall of the groove by setting the plasma conditions properly.例文帳に追加
そして、プラズマ条件を適宜に設定することにより、溝の内側壁のうちp型半導体領域とn型半導体領域の境界部分に横穴状の溝を形成する。 - 特許庁
The bed surface treatment is selected from a group of phosphate coating film treatment, sealing treatment for the multipolar magnet of the sintered body, blast treatment, dry type super ultraviolet ozone plasma etching, wet type coupling, and primer treatment.例文帳に追加
下地処理は、燐酸塩皮膜処理、焼結体の多極磁石の封孔処理、ブラスト処理、乾式超紫外線オゾンプラズマエッチング、湿式カップリング、およびプライマー処理のいずれかとされる。 - 特許庁
First, a first layer of an MCrAlY type material is thermally sprayed on a metallic substrate by a vacuum plasma spraying(VPS) method or an HVOF method.例文帳に追加
まず金属基基体にMCrAlY型材料の第1層を真空プラズマ溶射(VPS)法またはHVOF法により溶射する。 - 特許庁
By this magnetic field, the plasma generated by each arc type evaporating source 42 is guided into the vicinity of the substrate 24 in the vacuum vessel 20.例文帳に追加
この磁界によって、各アーク式蒸発源42で生成したプラズマは、真空容器20内の基体24の近傍へ導かれる。 - 特許庁
To enhance luminous efficiency and to suppress a rise of an address discharge starting voltage, in a three electrode reflection type plasma display panel.例文帳に追加
三電極反射型プラズマディスプレイパネルにおいて、発光効率の向上と、アドレス放電開始電圧の上昇の抑制を達成する。 - 特許庁
To suppress decrease in contrast, when driving a plasma address type liquid crystal display element with a common anode inverted drive system.例文帳に追加
コモンアノード反転駆動方式によってプラズマアドレス型液晶表示素子を駆動する場合に、コントラストの低下を軽減できるようにする。 - 特許庁
As a result, it is possible to realize a plasma address type liquid crystal display device adapted to a large-sized planar display having high display quality.例文帳に追加
この結果、表示品位の高い大型平面ディスプレーに適応し得るプラズマアドレス型液晶表示装置を実現することができる。 - 特許庁
To suppress electrification as small on the base plate surface during the period of an ion beam radiation while HF(High Frequency) discharge-type plasma generation equipment is in use.例文帳に追加
高周波放電型のプラズマ発生装置を用いつつ、イオンビーム照射の際の基板表面の帯電を小さく抑制する。 - 特許庁
To provide an AC type plasma display panel driving method capable of drastically improving the visibility of black and contrast.例文帳に追加
黒の視認性が大幅に向上するとともに、コントラストを非常に高めることができるAC型プラズマディスプレイパネルの駆動方法を得る。 - 特許庁
A stationary plasma generation device principally comprises a discharge tube 10, an antenna part 20, and a current type inverter circuit 30.例文帳に追加
本発明による定常プラズマ生成装置は、放電管10と、アンテナ部20と、電流型インバータ回路30とから主に構成される。 - 特許庁
To provide a plasma address type liquid crystal display device in which a color mixture at the time of performing monochromatic specification due to crosstalk is prevented and which has satisfactory color reproducibility.例文帳に追加
クロストークによる単色表示時の混色を防いで、色再現性の良好なプラズマアドレス型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide an on-board type water plasma hazardous waste disposal apparatus which enables a treatment of a hazardous substance difficult in movement in the storage facility.例文帳に追加
移動が困難な有害物をその保存場所で処理することができる車載式水プラズマ有害物処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma resistant member of low cost type which is also excellent in mechanical strengths such as bending strength and toughness and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
曲げ強度や強靱性などの機械的な強度もすぐれた低コスト型の耐プラズマ部材、およびその製造方法の提供。 - 特許庁
To provide an ageing device for an AC-type three-electrode plasma display panel that reduces remarkably the ageing time and has a high power efficiency.例文帳に追加
AC型3電極プラズマディスプレイに対して、エージング時間の大幅な短縮ならびに電力効率のよいエージング装置を提供する。 - 特許庁
To provide an AC type plasma display panel which has high reliability by making it high in contrast and reduced in writing discharge current.例文帳に追加
AC型プラズマディスプレイパネルにおいて、高コントラストと書き込み放電電流を小さくして信頼性を向上させることを目的とする。 - 特許庁
To provide an LPP (laser-produced plasma) type EUV light source apparatus which increases an amount of EUV light radiation without increasing an amount of a target material.例文帳に追加
LPP型EUV光源装置において、ターゲット材料の量を増加させることなく、EUV光の放射量を増加させる。 - 特許庁
To provide a sheet plasma type PVD system capable of forming a uniform thin film stably for a long time regardless of the size of a substrate.例文帳に追加
基板の大小を問わず長時間安定して、均一な薄膜形成を可能としたシートプラズマ式PVD装置を提供する。 - 特許庁
REDUCTION REFINING METHOD OF HIGH PURITY METAL FROM VAPORIZABLE METALLIC COMPOUND BY MAGNETRON CAPACITIVE COUPLING TYPE PLASMA, AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
マグネトロン容量結合型プラズマによる気化性金属化合物からの高純度金属の還元精製方法及びそのための装置 - 特許庁
To provide a plasma surface-treating apparatus for further improving the productivity of the formation of a thin film, as compared with a conventional rotary electrode type plasma film-forming method and apparatus, and improving the productivity of plasma surface treatment of machining, cleaning, or the like utilizing plasma.例文帳に追加
従来の回転電極式プラズマ成膜方法及び装置(特開平9−104985号公報記載の方法及び装置)の場合よりも、薄膜形成の生産性をさらに向上することができ、また、プラズマを利用する加工、クリーニング等のプラズマ表面処理の生産性を向上することができるプラズマ表面処理装置を提供する。 - 特許庁
To evenly perform plasma irradiation on an irradiation target of wide area even when a plasma generating nozzle of a small diameter having a spotted type blow-out port, which is inexpensive and easy to control, is used in the plasma generating device used for a workpiece treatment or the like such as reforming of a substrate.例文帳に追加
基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、点状の吹出し口を有する低コストで制御が容易な小径のプラズマ発生ノズルを用いても、広い面積の被照射対象物に均等なプラズマ照射を行えるようにする。 - 特許庁
A long-life, thermal filament type plasma density information extraction section 11 using the absorption phenomenon of the measuring high-frequency power fed to plasma PM via a dielectric tube as the measurement principle is provided separately from a plasma generating high-frequency power feed system.例文帳に追加
本発明では、誘電体製のチューブを介してプラズマPMへ供給される測定用高周波パワーの吸収現象を測定原理とする長寿命・熱フィラメントレス方式のプラズマ密度情報求出部11をプラズマ生成用の高周波パワーの供給系とは別に設けている。 - 特許庁
To provide a plasma type melting furnace of such a structure that the incineration ash and the splashing ash from incineration are melted upon mixing or individually using a plasma torch, capable of establishing a seal of the intra-furnace pressure and the electric insulation at the insert hole of the plasma torch safely and certainly.例文帳に追加
プラズマトーチを使用して焼却灰及び焼却飛灰を混合又は単独で溶融するプラズマ式溶融炉において、プラズマトーチの挿入口における炉内圧のシールと電気的絶縁とを安全かつ確実に行なうことができるプラズマ式溶融炉を提供する。 - 特許庁
To raise the usage efficiency of material gas for improved film- formation rate by forming one layer of p-type semiconductor layer, i-type amorphous silicon photoelectric conversion layer, and n-type semiconductor layer under a specified condition in a plasma CVD reactive chamber.例文帳に追加
原料ガスの利用効率を高めて成膜速度を高めることにより生産のコストおよび効率を改善するとともに、良好な性能を有する非晶質シリコン系薄膜光電変換装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
This solid pharmaceutical preparation of gastric suspending type is composed of (A) a suspending type preparation part including an expanding type polymer molecule expanded by a low temperature plasma processing and (B) a pharmaceutical preparation part containing a medicament.例文帳に追加
低温プラズマ処理により膨張した膨張性高分子を含有する浮遊性製剤部分(A)と、薬物を含有する製剤部分(B)とから構成された製剤が、胃内浮遊型固形製剤として可能であることを見出した。 - 特許庁
To provide a flat plate gas introduction device of a CCP(capacity coupling type of plasma) reaction vessel provided with a gas introduction plate of longer life and a higher utilization ratio by suppressing plasma enhancement erosion of a gas introduction hole.例文帳に追加
ガス導入孔のプラズマ強化エロージョンを抑制することで、より長い寿命を持ち、より高い利用率を持つガス導入プレートを備えたCCP反応容器の平板型ガス導入装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide a separator for a solid polymer type fuel cell having superior corrosion resistance and using a metal substrate with low contact resistance, and to provide a plasma processing technology and a plasma processing device which are excellent in productivity.例文帳に追加
耐食性に優れ、かつ接触抵抗が低くい金属基板を用いた固体高分子型燃料電池用セパレータの提供、及び生産性に優れたプラズマ処理技術及プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
The translucent thin film is obtained by depositing the silicon dioxide film by an arc plasma enhanced vapor-deposition method using a pressure gradient type plasma gun.例文帳に追加
二酸化珪素膜がアルゴンを含有し、含有されるアルゴンの量が、原子の数の比で、珪素の100に対してアルゴンの1〜10である、二酸化珪素膜を、圧力勾配型プラズマガンを用いたアークプラズマ蒸着法で成膜する - 特許庁
To provide a torch type atmospheric pressure low-temperature plasma device which stably generates low temperature plasma under the atmospheric pressure, and which is free from the shapes and kinds of an object to be treated and work environments, and to provide a method of using the device.例文帳に追加
大気圧下で低温のプラズマを安定に発生させ、しかも被処理物の形状、種類及び作業環境にとらわれることがないトーチ型の大気圧低温プラズマ装置とその利用方法を提供する。 - 特許庁
As the treatment for enhancing the affinity, at least one type selected out of a corona treatment, a plasma treatment, a treatment of contacting a gas flowing to a corona discharge field or an arc discharge field and a plasma torch treatment is suitable.例文帳に追加
親和性を高めるための処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、コロナ放電場又はアーク放電場に流通されたガスを当てる処理、及びプラズマトーチ処理の少なくとも1種の処理が好適である。 - 特許庁
To provide a parallel flat plate type plasma processing apparatus which does not cause problems due to an abnormal discharge and can solve problems caused by reaction products sticking on an electrode, and to provide a plasma processing method.例文帳に追加
異常放電による問題が生じず、かつ電極に付着する反応生成物に起因する問題を解消することができる平行平板型のプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a front substrate of an AC discharge type plasma flat display that generates uniform electric field and plasma, prevents ions from bombarding the rear substrate and improves the lifetime of display, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
均一な電場、プラズマを発生させ、イオンが背部基板に突き当たるのを防止し、ディスプレイの寿命が向上する交流放電型プラズマ平面ディスプレイの前基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
In the capacity coupling type plasma etching device, a first plasma-generating high frequency and a first ion-drawing high frequency are applied from first and second high frequency power supplies 30 and 32 to a susceptor 12 respectively.例文帳に追加
この容量結合型プラズマエッチング装置において、サセプタ12には第1および第2の高周波電源30,32よりプラズマ生成用の第1高周波、イオン引き込み用の第1高周波がそれぞれ印加される。 - 特許庁
To provide a plasma type ignition device to conduct ignition by injecting high-temperature and high-voltage plasma into a combustion chamber of an internal combustion engine, capable of exerting excellent ignition performance and having high reliability.例文帳に追加
機関燃焼室内に高温高圧のプラズマを噴射して点火を行うプラズマ式点火装置において、優れた着火性と高い信頼性とを有するプラズマ式点火装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The fabricating method of the front filter of the plasma display panel includes the stages of preparing a roll type film filter layer including an electromagnetic wave shielding layer 324 cutting off an electromagnetic wave discharged within the panel and of laminating the roll type film filter layer on the front panel of the plasma display panel.例文帳に追加
パネルの内部から放出される電磁波を遮断する電磁波遮蔽膜を含むフィルムフィルタ層をロールタイプに用意する段階と、前記ロールタイプのフィルムフィルタ層を前面パネルにラミネートする段階と、を備えてなるプラズマディスプレイパネルの前面フィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of driving an AC-type plasma display panel capable of obtaining a favorable contrast characteristic by suppressing black brightness without generating strong discharge in a non-lighting pixel in an AC-type plasma display panel from which a non-discharge gap between a scanning electrode and a common electrode is eliminated.例文帳に追加
走査電極と共通電極との間の非放電ギャップをなくしたAC型プラズマディスプレイパネルにおいて、非点灯画素において強放電を発生させずに黒輝度を低く抑え、良好なコントラスト特性が得られるAC型プラズマディスプレイパネルの駆動方法を提供する。 - 特許庁
To provide a reusable structure and a separation method for a plasma display panel which is used for a computer terminal or a wail-type TV.例文帳に追加
コンピュータ端末や壁掛けテレビに用いられるプラズマディスプレイパネルについて、再利用可能な構造および分離方法を提供するものである。 - 特許庁
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