「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

At formation of the resist pattern by using a positive resist pattern, the region where the opening is to be formed is exposed with high exposure that does not substantially leave the residue of the resist, and at the same time, is also exposed with low exposure.例文帳に追加

ポジ型フォトレジストを用いて、レジストパターンを形成するにあたって、開口部を形成すべき領域には、実質的にレジスト残渣が残らないような大きな露光量で露光を行うとともに、開口領域の周辺部には、開口領域よりも小さな露光量で露光を行う。 - 特許庁

A main control device 50 controls the characteristics of a laser beam LB emitted from a laser device 16 (laser resonator 16a) by using wavelength width directly reflected to the image formation performance of a pattern image as an index value, performs scanning exposure by using the laser beam and generates a pattern image of a reticle R.例文帳に追加

主制御装置５０により、パターン像の結像性能に直接反映される波長幅を指標値として、レーザ装置１６（レーザ共振器１６ａ）から射出されるレーザビームＬＢの特性が制御され、そのレーザビームを用いて走査露光が行われ、レチクルＲのパターンの像が生成される。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation which exhibits excellent developability even when a high colorant concentration, generates neither development residue nor scum on a pattern edge in development, excels in linearity of a pattern, and gives ultrafine pixels and a black matrix.例文帳に追加

着色剤濃度が高い場合でも優れた現像性を示し、現像時に現像残渣やパターンエッジのスカム等を生じることがなく、パターンの直線性に優れており、高微細な画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a porous structure material in which a micropore array is controlled is characterized in that a rugged pattern is formed on the mask disposed on a substrate according to an imprinting process and the micropore formation is performed according to an electrochemical method on the substrate position corresponding to recessed parts of the formed rugged pattern.例文帳に追加

基材上に設けられたマスクにインプリントプロセスにより凹凸パターンを形成し、形成された凹凸パターンの凹部に対応した基材位置に、電気化学的な手法により細孔形成を行うことを特徴とする、細孔配列が制御された多孔質構造材料の製造方法。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which resolves on a vertical sidewall in forming a contact hole pattern, ensures enhanced EDW, improves side lobe resistance, and reduced the number of Blob defects, as well as a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

コンタクトホールパターン形成時に垂直な側壁にて解像し、広いＥＤＷを確保でき、サイドローブ耐性が良化し、かつＢｌｏｂ欠陥数が低減した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Plural terminals arranged along a formation direction of a first differential signal pattern are formed on a first connector, and the first differential signal pattern is connected to terminals which are some of the plural terminals of the first connector and are located in the neighborhood of a side at which no image pickup element is mounted.例文帳に追加

第１のコネクタは、第１の差動信号パターンが形成される方向に沿って並ぶ複数の端子が形成され、第１の差動信号パターンは第１のコネクタの複数の端子のうち、撮像素子が実装されていない側の近傍に位置する端子に接続される。 - 特許庁

To obtain a colored photosensitive composition which is used to form a green colored pattern in a color filter, has excellent curability and a large development latitude in the formation, reduces pattern defects in development, and can suppress crystal deposition of a photopolymerization initiator.例文帳に追加

カラーフィルタにおける緑色着色パターンの形成に用いられ、その形成の際に、硬化性に優れ、現像ラチチュードが大きく、更には、現像時のパターン欠けが抑制され、且つ、光重合開始剤の結晶析出を抑制しうる着色感光性組成物を得ること。 - 特許庁

To provide a plasma display panel that enables formation of a light- shielding pattern between the display electrodes uniformly and without causing defects or the like to be generated, in the process of forming the light-shielding pattern (black stripe) and enables to make a high quality display, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

遮光パターン（ブラックストライプ）を形成する工程で、均一でかつ欠陥等を発生させることなく表示電極間に遮光パターンを形成することを可能とし、高品位な表示を可能とするプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can sufficiently reduce development defects in manufacturing semiconductors, particularly, in the formation of a contact hole pattern, and exhibits the superior depth of a focus (DOF), and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming conductive pattern in which a high-resolution conductive pattern having a conductivity and durability can be obtained without requiring complicated process and an expensive apparatus, even when it is applied to the formation of an interconnection, etc. which is used for a plurality of different materials.例文帳に追加

複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、導電性及び耐久性を有する高解像度な導電性パターンが得られる導電性パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In a printed circuit board 1, through holes 7, 9 are formed at each formation location of a FG potential pattern 16 of a primary side circuit portion 14 and a FG potential pattern 17 of a secondary side circuit portion 15 respectively, and a rectangular fitting notching 8 is formed at a side location between the through holes 7, 9 simultaneously.例文帳に追加

プリント基板１は、１次側回路部１４のＦＧ電位パターン１６と２次側回路部１５のＦＧ電位パターン１７の形成位置の各々に通し穴７、９を形成すると共に、通し穴７、９の間となる側面位置に矩形の嵌合切欠８を形成する。 - 特許庁

Since, after formation of an irregular pattern on the surface of a thermoplastic resin sheet 1 before molding, hair is electrostatically implanted only to the top face 5 of the protruded parts 3 of the pattern, subsequent three-dimensional molding produces deformation e.g. expanded and contracted parts, only in thin recessed parts 4.例文帳に追加

成形前の熱可塑性樹脂シート１の表面に凹凸模様を形成し、その凹凸模様の凸部３の頂面５だけに静電植毛を施すようにしたため、その後に３次元形状に成形しても、伸延部や収縮部等の変形が生じるのは、厚さの小さい凹部４だけである。 - 特許庁

To fabricate a transistor in which reverse short channel effect does not take place by suppressing formation of a recess through etching of the sidewall part of an isolation pattern formed on a semiconductor pattern when a pad oxide film, a sacrifice oxide film, and the like, are removed by etching thereby solving the problem in an STI(shallow trench isolation) technology.例文帳に追加

パッド酸化膜、犠牲酸化膜等のエッチング除去時に半導体基板に形成した素子分離パターンの側壁部がエッチングされて窪みが形成されるのを抑制してＳＴＩ技術の課題を解決し、逆狭チャネル効果を生じないトランジスタの形成を可能にする。 - 特許庁

In the irregular pattern formation sheet, an irregular pattern in which projections are repeatedly formed to repeat irregularities along one direction Y is provided on at least one face.例文帳に追加

本発明の凹凸パターン形成シートは、一方向Ｙに沿って凹凸が繰り返すように凸部が繰り返し形成された凹凸パターンを少なくとも一方の面に有し、凹凸パターンは、方向Ｙに沿って切断した断面において、以下の未収縮領域率αが５０％以下である。 - 特許庁

Shades for high beam formation installed in the respective lamp fittings 30 shield a part of light emitted from the light sources of the right and left light fittings 30, and a right side luminous intensity distribution pattern and a left side luminous intensity distribution pattern, which have non-perpendicular cutoff lines upward of the horizontal line, are formed.例文帳に追加

灯具３０内にそれぞれ設けられるハイビーム形成用シェードは、左右の灯具３０の光源から発せられる光の一部を遮蔽して、水平線より上方に非垂直カットオフラインを有する右側配光パターンおよび左側配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist material with a high sensitivity, a high resolution, a small line width roughness, and an excellent post-exposure pattern shape, especially a positive resist material using a high polymer suitable as a base resin of a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern formation method.例文帳に追加

高感度、高解像度で、ラフネス（ＬＷＲ）が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A method for manufacturing circuit board includes: a substrate formation process S1 for burning green sheet to form a ceramic substrate; a catalyst patterning process S2 for drawing and forming a catalyst pattern from a liquid body containing plating catalyst; and a plating process S3 for plating the catalyst pattern.例文帳に追加

グリーンシートを焼成してセラミック基板を形成する基板形成工程Ｓ１と、めっき触媒を含有する液状体で触媒パターンを描画形成する触媒パターニング工程Ｓ２と、前記触媒パターンにめっきを施すめっき工程Ｓ３と、を有する回路基板の製造法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that can ensure the flatness of the surface of an upper layer formed on a semiconductor substrate on at least on an element formation area, as well as reduce the quantity of pattern data necessary to form a pattern for ensuring the flatness.例文帳に追加

少なくとも素子形成領域上において、半導体基板上に形成される上層の表面の平坦性を確保することができながら、その平坦性の確保のためのパターンの形成に必要なパターンデータの量の低減を図ることができる、半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming an acid transfer resin film, the composition giving an acid transfer resin film excellent in selectivity of acid diffusion; and to provide an acid transfer resin film formed by using the composition, and a pattern forming method allowing pattern formation by a conventional photolithographic process using the acid transfer resin film.例文帳に追加

酸の拡散の選択性に優れた酸転写樹脂膜を得ることができる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical sheet capable of maintaining stably a pattern of stripe shape having a high reflectance even after formation of pattern in improving the optical sheet used for illumination light path control in a backlight unit for display using mainly a liquid crystal display element.例文帳に追加

主に液晶表示素子を用いたディスプレイ用バックライト・ユニットにおける照明光路制御に使用される光学シートの改良にあたり、パターン形成後も高反射率のストライプ状のパターンを安定した状態で維持することが可能な上記光学シートを提案する。 - 特許庁

To improve the throughput of monochromatic printing of an image forming apparatus having a correction information generating means of forming a specified print pattern on a toner image transfer medium, retrieving a formation result of the print pattern, and correcting printing conditions of following print processing based upon a retrieval result.例文帳に追加

トナー画像転送媒体に所定の印刷パターンを形成し、該印刷パターンの形成結果を検索し、該検索の結果に基づいて後に続く印刷処理における印刷条件を補正する補正情報生成手段を有する画像形成装置においてモノクロ印刷時のスループットを向上させる。 - 特許庁

To provide an acid transfer resin film-forming composition which obtains an acid transfer resin film superior in the selectivity of acid diffusion and in removability, and to provide an acid transfer resin film formed that uses the composition, and a pattern forming method which enables pattern formation by an existing photolithography process that uses the acid transfer resin film.例文帳に追加

酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent PED (post exposure time delay) stability and allowing formation of a pattern with a good profile, and to provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive film formed by using the composition, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＰＥＤ安定性に優れ、形状が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Thus, the insulating film 17 and the insulating film 18 for pad formation are left outside the wiring pattern portion that becomes the target of Cu removal, and the wiring pattern portion that becomes the target of Cu removal, is covered with bonding pad aluminum 21, so that residual Cu 16 is not exposed to the surface.例文帳に追加

こうすると、Ｃｕ除去の対象となった配線パターン部の外側に、絶縁膜１７とパッド形成用絶縁膜１８が残り、Ｃｕ除去の対象となった配線パターン部がボンディングパッドアルミ２１で覆われるので、Ｃｕ残り１６が表面に露出しない。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

While the optical waveguide 20 is made to intersect the plane at an angle θ of intersection larger than a specific angle, e.g. at 5° and, preferably, ≥20°, the circuit pattern of the optical waveguide 20 is folded back to make formation areas of the optical waveguide pattern overlap at least partially on the same plane.例文帳に追加

光導波路２０を所定以上の角度たとえば５度、望ましくは２０度以上の交差角θで平面交差させながら、その光導波路２０の回路パターンを折り返すことにより、光導波路パターンの形成領域を同一面上で少なくとも部分的に重複させる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the printing plate, a first process of reforming a printing pattern formation surface of a printing original plate layer by means of the laser engraving (β) of an output less than 100 W and a second process of forming a printing pattern on the printing original plate layer by means of the laser engraving (α) are performed.例文帳に追加

出力が１００Ｗ未満のレーザー彫刻（β）により、印刷原版層の印刷パターン形成面を改質する第１工程と、レーザー彫刻（α）により前記印刷原版層に印刷パターンを形成する第２工程とを行う印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

A light is irradiated on a substrate for pattern formation in which a photoreaction composition containing alkylsilane and/or fluoroalkylsilane is coated on the base material and the photoreaction composition-coated side is exposed and developed, and thereby, a pattern made of the coated part of the photoreaction composition and the exposure part of the substrate is formed.例文帳に追加

基材上にアルキルシラン及び／又はフルオロアルキルシランを含有する光反応性組成物が塗布されたパターン形成用基板に、光を照射して光反応性組成物塗布面を露光現像し、光反応性組成物の被覆部と基板露出部とからなるパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness property, and resolution of isolated space patterns, and allows formation of a pattern having a good profile, as well as an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性、孤立スペースパターンの解像性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In a method for forming a circuit board by using a simple mold, an insulating resin member and a conductive circuit pattern, a formation part for a land is filled with cream solder 8, and insulating resin members 4 and 5 and a conductive circuit pattern 2 are integrated simultaneously with the melting of the cream solder 8 to form the land.例文帳に追加

簡単な型と絶縁樹脂部材と導電回路パターンで回路基板を形成する方法で、ランドの形成部にクリーム半田８を充填し、絶縁樹脂部材４、５と導電回路パターン２との一体化と同時にクリーム半田８を溶融する方法でランドを形成する。 - 特許庁

In the method of manufacturing printing plate, a first process of forming a printing pattern on a printing original plate layer by means of the laser engraving (α) and a second process of reforming a printing pattern formation surface of the printing original plate layer by means of the laser engraving (β) are performed in this order.例文帳に追加

レーザー彫刻（α）により印刷原版層に印刷パターンを形成する第１工程と、 レーザー彫刻（β）により前記印刷原版層の前記印刷パターン形成面を改質する第２工程とを順次行う印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has greatly excellent exposure latitude, can form an excellent rectangular pattern shape, and has less elution to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of ensuring satisfactory ink repellency without incurring a drawback such as an increase of the number of processes, lowering of a yield or deterioration of durability because the ink repellency of protrusions acting as barrier ribs becomes important when pattern formation is performed in an ink jet process.例文帳に追加

インクジェット法においてパターン形成を実施しようとした場合、隔壁となる凸部の撥インク性が重要となるが、プロセス数の増加、歩留まり低下、耐久性の劣化など不利益を被らずに、十分な撥インク性を得ることのできるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silica-based photosensitive resin composition having excellent long-term storage stability at room temperature (20 to 25°C) and high sensitivity and allowing pattern formation with high accuracy, to provide a method for forming a silica-based insulating coating film for obtaining a cured product with high pattern accuracy by using the composition, and to provide electronic components using the composition.例文帳に追加

長期の室温（２０〜２５℃）保存安定性に優れ、さらに高感度で、精度よくパターン形成できるシリカ系感光性樹脂組成物、これを用いたパターン精度の高い硬化物が得られるシリカ系絶縁被膜の形成方法、電子部品を提供する。 - 特許庁

By moving two opposite sides of a rectangle of a first IC 10 in parallel in a slant direction to the direction of arrangement pattern formation, it is possible to widely replace a second IC 20 with a different input/output pattern within the mounting space of the wiring board 1.例文帳に追加

第一ＩＣ１０の長方形状の対向２辺を配列パターンの形成方向に対して斜め方向に平行移動することによって、入出力パターンの異なる第二ＩＣ２０であっても、配線基板１の実装スペース内で広範に取り替え実装することができる。 - 特許庁

In a step 417, an optimum dosage for exposure for a measurement pattern for optical characteristic measurement of the projection optical system is temporarily determined on the basis of the detection result of a formation state of an image of the measurement pattern formed in a plurality of regions on a wafer through exposure processing in a step 406.例文帳に追加

ステップ４１７において、ステップ４０６の露光処理によってウエハ上の複数の領域に形成された計測用パターンの像の形成状態の検出結果に基づいて、投影光学系の光学特性計測のための前記パターンの露光の最適ドーズ量が仮に決定される。 - 特許庁

To provide an ITO transparent conductive pattern film and its manufacturing method equipped with fine patterns with both transparency and conductivity, as well as photosensitive coating liquid for transparent conductive film formation capable of manufacturing the ITO transparent conductive pattern film with ease and at low cost.例文帳に追加

本発明の目的は、透明性と導電性を兼ね備えた微細なパターンを有するＩＴＯ透明導電パターン膜とその製造方法、及びそのＩＴＯ透明導電パターン膜を低コストかつ簡便に製造できる透明導電膜形成用感光性塗布液を提供することにある。 - 特許庁

Before outputting the test pattern in the calibration, the number of using times of an element exerting influence on image formation such as the cumulative number of drum using times is acquired (s101), and the number of sampling times in the case of reading the test pattern of every element is obtained in accordance with the number of using times (s102).例文帳に追加

キャリブレーションにおいてテストパターンを出力する前に、累積的なドラム使用回数など画像形成に影響を及ぼす要素の使用回数を取得し(Ｓ１０１)、それぞれの使用回数に応じて要素ごとのテストパターン読取りにおけるサンプリング回数を求める(Ｓ１０２)。 - 特許庁

In a BB formation state to be shifted when winning a big bonus BB, this game machine is configured to singularly win the specific small prize pattern 1 to specific small prize pattern 9 by referring to a lottery table B in the internal lottery without being overlapped with the challenge bonus CB1-CB9.例文帳に追加

一方、ビッグボーナスＢＢの当選を契機に移行するＢＢ成立状態では、内部抽選において抽選テーブルＢを参照することによって特定小役１〜特定小役９がチャレンジボーナスＣＢ１〜ＣＢ９と重複せずに単独で当選するようになっている。 - 特許庁

A light intensity distribution of a projection image of a mask pattern is simulated, the area of a projection image satisfying specified light intensity on a substrate is calculated according to the light intensity distribution obtained by the simulation, and pattern formation conditions are adjusted according to the area of the projection image.例文帳に追加

マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整するように構成する。 - 特許庁

To provide a thermal transfer medium enabling formation of a transfer pattern having a clear print, with excellent fixing properties and abrasion resistance, on any object of transfer constituted of a material of every sort.例文帳に追加

各種材料からなる被転写体のいずれに対しても、優れた定着性、耐擦過性をもって、鮮明な印字を有する転写パターンを形成することができる熱転写媒体を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the image formation of the high precision can be performed by keeping sharpness of an electrostatic latent image pattern since the electrical resistance is increased by dark adaptation in the vicinity of a finishing position of contact of the 2nd part 12.例文帳に追加

また、第２の部分１２の接触終了位置付近では、上記電気抵抗が暗順応して高まるので、静電潜像パターンの鮮鋭度を保って高精細の画像形成ができる。 - 特許庁

To provide a printed-wiring board and it's manufacturing method that achieves reliable electric connection between wiring layers and reliable pattern formation, and improves the manufacturing yield and productivity.例文帳に追加

配線層同士の電気的接続の高信頼性化およびパターン形成の高信頼性化を図り製造歩留まり、生産性などを向上できるプリント配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board with less short circuit defects between conductive circuits and excellent in circuit formability in the pattern formation of a conductive circuit of a printed wiring board by the semi-additive method.例文帳に追加

セミアディティブ法によるプリント配線板の導体回路パターン形成において、導体回路間のショート不良が少なく、回路形成性のよいプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a T-top shape and a round shape of the surface part of a chemical amplification type resist in the formation of a pattern of the resist utilizing an acid catalyzed reaction.例文帳に追加

本発明は、酸触媒反応を利用した化学増幅系レジストのパターン形成において、Ｔ−Ｔｏｐ形状やレジストの表面部分の丸まり形状を押さえる技術を提供する点にある。 - 特許庁