「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an exposure method and an exposure apparatus which is suitably used for the formation of a fine pattern that composes an electronic device such as a flat panel display, and to provide an inexpensive exposure method with high resolution.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイ等の電子デバイスを構成する微細パターンの形成に使用して好適な露光方法及び露光装置であって高解像度かつ安価な露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN, RESIST COMPOSITION USING PHOTOSENSITIVE RESIN, METHOD OF PATTERN FORMATION USING RESIST COMPOSITION, DEVICE PRODUCED BY METHOD THEREOF AND METHOD OF EXPOSURE USING RESIST HAVING PHOTOSENSITIVE RESIN例文帳に追加

感光性樹脂及び該感光性樹脂を用いたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたパターン形成方法、該パターン形成方法により製造されるデバイス及び該感光性樹脂を有するレジストを用いた露光方法 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing patterned tempered glass, in which the temperature difference between inner and outer parts of a glass substrate subjected to heating and surface pattern formation is increased to the maximum, and thereby tempering is more thoroughly performed through rapid cooling.例文帳に追加

表面のパターン形成と共に加熱されたガラス基板の内外部の温度差を最大に大きくし、急冷却を通じて強化がより完全になされるようにするパターンド強化ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wide copper clad laminated board having a copper plating film formed thereon without using a heat-resistant adhesive or the like at all, enabling the formation of a fine wiring pattern and reducing the occurrence of trouble in a post-processing process.例文帳に追加

耐熱性接着剤等を全く使用することなく銅メッキ膜が形成されており、微細な配線パタ−ンが可能で後加工工程で不具合が発生することの少ない銅張り積層基板を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation apparatus which dries flying droplets by irradiating the flying droplets with a laser beam and is improved in drying efficiency and landing precision for flying droplets.例文帳に追加

飛行中の液滴にレーザ光を照射して飛行中の液滴を乾燥させるパターン形成装置において、飛行中の液滴の乾燥効率と着弾精度を向上させたパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a negative pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness, exposure latitude, and dry etching resistance, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a blank holder which enables the user to process the other side, keeping a pattern already made at one side of a blank for formation of an exposure mask in non-break condition, and a method of manufacturing the exposure mask.例文帳に追加

露光マスク形成用のブランクスの一方の面に既に形成されたパターンを非破壊に保った状態で、他面の加工を行うことが可能なブランクス保持具および露光マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, when the step is formed on the hard mask layer, by making the hard mask layer remain so as to cover the surface of the substrate, the charging (charge up) of the substrate can be suppressed in the plurality of stages of pattern formation.例文帳に追加

また、ハードマスク層に段差を形成するにあたり、ハードマスク層を基板表面を覆うように残存させることにより、複数段のパターン形成において、基板の帯電（チャージアップ）を抑制することが出来る。 - 特許庁

To provide a lead-free glass composition which has excellent chemical durability, low specific gravity and excellent meltability, little erodes a furnace material, and achieves the formation of a high definition pattern in a photosensitive process.例文帳に追加

化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a laminated structure that is applicable to a method such as a printing method achieving low cost and high efficiency of material use, facilitates forming fine patterns, and has a high-value added function other than pattern formation.例文帳に追加

印刷法のような低コストかつ材料使用効率の高い方法が適用でき、簡便に微細なパターンの形成が可能で、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有する積層構造体を提供する。 - 特許庁

The control part avoids the formation of the light distribution pattern having the irradiation area on the oncoming traffic lane side above the horizontal line, when the light shielding body 410 exists along the road between the one's own traffic lane and the oncoming traffic lane.例文帳に追加

制御部は、自車線と対向車線の間に道路に沿って遮光体４１０が存在する場合に、水平線から上方の対向車線側に照射領域を有する配光パターンの形成を回避する。 - 特許庁

To provide a sheet for fine uneven pattern formation that is used in an imprint method, has superior preservation stability before being used, and is for forming a hard coat layer with high scratch resistance.例文帳に追加

インプリント法において使用する微細凹凸パターン形成用シートであって、使用前には保存安定性に優れ、かつ、耐擦傷性が高いハードコート層を形成するための微細凹凸パターン形成用シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a fixture used for accurately measuring a flexible sheet material on which fine patterns are formed, a manufacturing method of the same, a measurement method for sheet material, and a pattern formation method by micro-contact printing.例文帳に追加

微細なパターンが形成されたフレキシブルなシート基材を高い精度で計測するための固定治具とその製造方法およびシート基材の計測方法とマイクロコンタクトプリントによるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light shielding transfer film which enables low-temperature film formation and easily and inexpensively obtaining light shielding property by simple film transfer, a method for producing the same, and a method for forming a light shielding pattern using the same.例文帳に追加

低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により遮光性を容易に安価に得ることのできる遮光性転写フィルム及びその製造方法、それを用いた遮光性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

When continuously performing image formation by a plurality of number of times, the pattern images formed on the respective image carriers 1Y, 1C, 1M and 1Bk are transferred to intervals between recording medium carrying areas to carry the recording medium on the conveyance body 14.例文帳に追加

画像形成を複数回続けて行う場合に、搬送体１４上の記録媒体を担持する記録媒体担持領域の相互間に、各像担持体１Ｙ，１Ｃ，１Ｍ，１Ｂｋ上に形成されたパターン像を転写可能に構成した。 - 特許庁

Thus, a process for separately applying ultraviolet resin in order to use the resin as resist is omitted, thereby simplifying a pattern formation process and forming micro/nano complex patterns through a single imprint process.例文帳に追加

これにより、レジストとして使用するために紫外線レジンを別途に塗布する工程が省略されるので、パターンの形成工程が簡素化され、単一インプリント工程によりマイクロ・ナノ複合パターンを形成できる。 - 特許庁

The wiring pattern formation surface of the transparent substrate 210 is mounted in contact with a substrate surface of a printed substrate 215 with a drive circuit for driving the light sources of the surface light-emitting semiconductor laser array chip 211, for circuit connection.例文帳に追加

透明基板210の配線パターン形成面を、面発光型半導体レーザアレイチップ211の各発光源を駆動する駆動回路が形成されるプリント基板215の基板面に当接して装着し、回路接続がなされる。 - 特許庁

The photomask has an opening corresponding to formation of a photospacer having a small height (second photospacer), the opening which is an annular opening K2 having a circular or polygonal outer shape and a light shielding pattern P1 at the center.例文帳に追加

高さの低いフォトスペーサー（第二フォトスペーサー）の形成に対応したフォトマスク上の開口部が、円形又は多角形の外形を有し、中心に遮光パターンＰ１が設けられた環状開口部Ｋ２である。 - 特許庁

Such improved squares enable sufficient supply of an ink throughout the corners of the lattice and the apexes of the squares, thereby enabling the formation of sharp right-angled corners in the resultant conductive mesh pattern.例文帳に追加

このような改良方形とすることにより、インクを格子の隅角部や方形の頂点部に十分に行き渡らせることが可能となり、導電性メッシュパターンにシャープな直角の角部を形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a lamination wiring board which enables high density pattern formation and its manufacturing method by making charging of a via hole easy when an interlayer connection structure, wherein the thickness of an insulation layer is relatively large, is formed.例文帳に追加

絶縁層の厚さが比較的大きい層間接続構造を形成する際のビアホールの充填を容易にし，高密度なパターン形成ができる積層配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacture is carried out by using pattern rollers for the respective surfaces and hardening postpatterned layers nearby the contact between both the rollers and thus the precision of the formation positions of the lenticular lens and projection streak parts is secured.例文帳に追加

製造は、各々の面について、型ローラを用いて逐次行ない、両型ローラの接点近傍で、後に付型された層を硬化させることにより、レンチキュラーレンズと凸条部との形成位置の精度を確保した。 - 特許庁

Prior to formation of the pattern 80, the method includes a step to form the marking partition walls B1 corresponding to the alignment mark AM and a step to place the liquid material containing the alignment mark forming material between the marking partition walls B1.例文帳に追加

パターン８０の形成前に、アライメントマークＡＭに対応したマーク用隔壁Ｂ１を形成する工程と、マーク用隔壁Ｂ１の間にアライメントマーク形成材料を含む液体材料を配置する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a polymerizable fluoromonomer and a fluoropolymer for a resist suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure, a resist material and a method of pattern formation using the same.例文帳に追加

液浸露光や、液浸のダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用の含フッ素重合性単量体および含フッ素重合体、それらを使ったレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a forming method of a micro metal structural body, conductive paste containing metal powder with an average particle size of 400 nm or less as a conductive component is put under pattern formation into a given shape to obtain a micro metal structural body.例文帳に追加

微細金属構造体の形成方法は、平均粒径が４００ｎｍ以下の金属粉末を導電成分として含む導電ペーストを、所定の形状にパターン形成して微細金属構造体を得る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and semiconductor manufacturing apparatus, where more high-accuracy pattern formation is enabled by improving uniformity in the intra-plane temperature of a large-diameter semiconductor wafer in lithographic processes.例文帳に追加

リソグラフィ工程における大口径半導体ウエハの面内温度均一性を向上させ、より高精度なパターン形成が可能な半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter which can be manufactured in a simple process, in which position accuracy for a substrate of an alignment mark is high and which can enhance alignment mark pattern formation accuracy when ink is ejected.例文帳に追加

簡単な工程で作製することができ、アライメントマークの基板に対する位置精度が高く、インクを吐出する際のアライメントマークパターン形成精度を高めることができるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To achieve good display quality in an active matrix type liquid crystal display device by suppressing flicker due to a polarity change pattern itself of voltage applied to each pixel formation part upon driving liquid crystal.例文帳に追加

アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、液晶を駆動する際に各画素形成部に印加する電圧の極性の変化パターンそのものに起因するフリッカーの発生を抑止し良好な表示品位を得る。 - 特許庁

A dry etching method has: a process for performing the pattern formation of resist on a member to be etched made of a substance containing zinc oxide; and a process for etching the member to be etched by gas containing reducing gas.例文帳に追加

酸化亜鉛を含む物質からなる被エッチング部材の上にレジストをパターニング形成する工程と、還元性ガスを含むガスを用いて前記被エッチング部材をエッチングする工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern for the production of a semiconductor device, less liable to generate particles in a resist solution and excellent in line density dependency.例文帳に追加

半導体デバイス製造のコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.例文帳に追加

写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When a bump electrode (not shown) is formed using that exposure pattern, a straight shape having a height substantially corresponding to the thickness of the resist RST can be ensured and contributes to formation of bump electrodes dealing with fine pitch arrangement.例文帳に追加

この露光パターンを用いてバンプ電極（図示せず）を形成すれば、レジストＲＳＴの厚さに略相応した高さのストレート形状が確保でき、微細ピッチ配列に対応可能なバンプ電極の形成に寄与する。 - 特許庁

The width W1 of the upper pole chip is same as the film thickness of the magnetic film 17a' for formation of the upper pole chip formed on the side end face of the photoresist pattern 31 and the width can be controlled to a submicron dimension.例文帳に追加

上部ポールチップの幅Ｗ１は、フォトレジストパターン３１の側端面に形成された上部ポールチップ形成用磁性膜１７ａ′の膜厚そのものであり、サブミクロンの寸法に制御することが容易である。 - 特許庁

To provide a surface modifier for a resist modifying the surface of a photoresist film to sufficiently enhance the wettability with a developer solution and excellent in safety, and to provide a method for formation of a resist pattern with the modifier.例文帳に追加

ホトレジスト膜表面を改質して現像液に対する濡れ性を十分に高めることが可能であり、かつ安全性に優れたレジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Cell shape data 17a, cell attribute data 17b and arrangement restriction condition data 17c formed as libraries are stored in the pattern forming device 11 which executes layout data formation processing of process patterns.例文帳に追加

プロセスパターンのレイアウトデータ作成処理を実行するパターン作成装置１１には、ライブラリとして作成されたセル形状データ１７ａ、セル属性データ１７ｂ及び配置制約条件データ１７ｃが格納される。 - 特許庁

To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.例文帳に追加

高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁

Etching masks 5, corresponding to individual patterns, are formed by patterning on the whole surface of a conductive material 14 including a peripheral region not requiring pattern formation, and patterns are formed by etching on the whole surface of a substrate 3.例文帳に追加

個々のパターンに対応するエッチングマスク５をパターンを形成する必要のない導電性材料１４の外周領域まで含めた全面にパターニングし、エッチングによって基板３の全面にパターンを形成する。 - 特許庁

After the formation of a gate insulation film 3, the gate insulation film under a data line 71 is selectively removed to remove foreign objects in the film 3 and pattern collapse of the line 71 and discontinuity are reduced.例文帳に追加

ゲート絶縁膜３形成後、選択的にデータ線７１下のゲート絶縁膜を除去することによりゲート絶縁膜３中にある異物が取り除かれ、データ線７１のパターン崩れ、断線を低減することができる。 - 特許庁

The image forming apparatus has at least one test print consisting of a designated pattern used for correction processing after image formation, and the white level of the test print on a form is detected to correct correction processing based upon the detected value.例文帳に追加

画像形成された補正処理に使用する為の所定のパターンから成る少なくともひとつのテストプリントを有し、前記テストプリントの用紙の白レベルを検知し、その値によって補正処理に補正をかける。 - 特許庁

Use of the sacrificial film 6 disposes of formation of the resist pattern in the trench 4 in forming first and second insulation films (silicon oxide films 8 and 5) different in thickness in the trench 4.例文帳に追加

犠牲膜６を用いることにより、トレンチ４内に膜厚の異なる第１,第２の絶縁膜(シリコン酸化膜８,５)を形成するに際してトレンチ４内にレジストパターンを形成する必要を無くすることができる。 - 特許庁

To provide a raw material for alkali-soluble photosensitive resin composition that permits easy pattern formation and has excellent high heat resistance, high reliability, for example, moisture-resistance reliability, further high transparency and low dielectric constant.例文帳に追加

パターン形成が容易で、高耐熱性、耐湿信頼性等の高信頼性、更に高い透明性、低誘電率に優れた特性を有するアルカリ可溶性感光性樹脂組成物の原料を提供すること。 - 特許庁

Further, disclosed are a manufacturing method of a polyimide wiring board including a wiring formation process of forming a wiring pattern after the manufacturing method of the metal thin film is implemented, and the polyimide wiring board manufactured by the same method.例文帳に追加

該金属薄膜の製造方法を実施した後に、配線パターンを形成する配線形成工程を含むことを特徴とするポリイミド配線板の製造方法、および該方法によって製造されたポリイミド配線板。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus technology enabling formation of a high quality image over a long term by forming a toner pattern on a non-image region of an image carrier (photoreceptor) without increase of the toner use amount.例文帳に追加

トナーの使用量を増加させずに像担持体（感光体）の非画像領域上にトナーパターンを形成して長期に渡って高品質な画像の形成を可能とする画像形成装置技術を提供すること。 - 特許庁

When pattern formation is performed by using the positive photosensitive resin composition, the additive fulfills functions for attaining high resolution and high sensitivity, and for minimizing thickness change after heat crosslinking, without causing other properties to deteriorate.例文帳に追加

添加剤は、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いてパターン形成を行うときに、他の物性を低下させずに高解像度、高感度、および熱架橋後の厚さ変化を最小化する役割を実行することができる。 - 特許庁

When a two-dimensional pattern of a light spatially modulation through a DMD 80 passes through an image side telecentric first image formation optical system 51 to form an image, magnification of the image is adjusted through a magnification adjusting optical system 53.例文帳に追加

ＤＭＤ８０で空間光変調された光の２次元パターンを像側テレセントリックな第１結像光学系５１を通して結像させる際の結像倍率を倍率調節光学系５３によって調節する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing fine pattern formation in a thick film exceeding 20 μm and capable of providing a film excellent in reliability as a protective film, and to provide a cured film.例文帳に追加

２０ミクロンを越えるような厚膜で微細なパターン形成を行うことが可能であり、保護膜としての信頼性に優れた皮膜を提供可能な感光性樹脂組成物および硬化皮膜を提供する。 - 特許庁