「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

This preliminary formation of the metal film prevents changes of electric characteristics even when the metal film for adjustment is stuck to the fixed part during frequency adjustment, whereby the change in electric capacity of the electrode pattern is reduced and the occurrence of a floating capacity of the electrode pattern is suppressed.例文帳に追加

金属膜を予め形成しておくことによって、周波数調整時に固定部分に調整用の金属膜が付着した場合であっても、電気的特性が変化しないようにすることで、電極パターンの電気容量の変化を低減し、また、電極パターンの浮遊容量の発生を抑制する。 - 特許庁

In dry etching for patternizing a silicon nitride 12 and silicon oxide film 11 by using a resist pattern 13, introduction defects at the time of growth in a silicon substrate 10, which cause conical pattern defects, are removed by digging the surface part of the groove formation region of the silicon substrate 10 at overetching.例文帳に追加

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。 - 特許庁

To provide a dye containing curing composition for forming high-resolution pattern images (for instance, pixels) superior light resistance, heat resistance, pattern formation and solvent resistance by suppressing elution to a developing liquid of an exposure part, and to provide a color filter using it and its manufacturing method.例文帳に追加

露光部の染料の現像液への溶出が抑制され、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）、および耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像（例えば画素）を形成することができる染料含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The typical configuration of the resist pattern formation apparatus comprises a substrate transport means 10 for transporting a substrate 1, a transfer means 11 for transferring a resist pattern to the substrate 1, and an ink jet head 12 which jets out a resist ink to the transfer means 11.例文帳に追加

上記課題を解決するために、本発明に係るレジストパターン形成装置の代表的な構成は、基板１を搬送する基板搬送手段10と、前記基板１にレジストパターンを転写する転写手段11と、前記転写手段11にレジストインクを吐出するインク吐出ヘッド12とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

A solder resist 22 is formed at the element mounting surface side of a circuit pattern 21 formed on a carrier tape 32, the solder resist is patterned for exposing a wire-bonding section, and a support member 26 is attached to a portion that is at the element mounting surface side of the circuit pattern and is also outside the formation region of the mold resin of the semiconductor device.例文帳に追加

キャリアテープ（３２）上に形成した回路パターン（２１）の素子搭載面側にソルダレジスト（２２）を形成し、このソルダレジストをパターニングしてワイヤボンディング部を露出させ、回路パターンの素子搭載面側であって、半導体装置のモールド樹脂の成形領域の外側に支持部材（２６）を貼着する。 - 特許庁

To provide a laser annealing method without forming a concentric circle pattern or reducing the formation of the concentric circle pattern using a laser irradiation device of low running cost in order to deal with a large-sized substrate, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device including the laser annealing method in a process.例文帳に追加

大型の基板に対応するためにランニングコストの低いレーザ照射装置を用いたレーザアニール方法において、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減するためのレーザアニール方法および、前記レーザアニール法を工程に含む半導体装置の作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To suppress the deposition of foreign matter on the surface of a reticle pattern by removing chemical materials such as ammonia as materials which cause the formation of deposits from the internal space of a pellicle and to provide a pellicle which retains an accurate pattern shape and patterning precision over a long period of time.例文帳に追加

析出物形成のための原因物質であるアンモニア等の化学物質を、ペリクル内空間から除去することでレチクルパターン面に対する異物析出を抑制し、これにより、正確なパターン形状を長期にわたって維持し、長期にわたるパターニング精度維持を図ることが可能なペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet curable inkjet composition excelling in storage stability and suitably usable for the formation of a pattern (printed part) excelling in glossiness and scuff resistance, and to provide a recorded matter having the pattern excelling in glossiness and scuff resistance which is formed using the ultraviolet curable inkjet composition.例文帳に追加

保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）の形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁

The illuminator comprises a diffraction optical element forming a light pattern having a desired illuminance distribution on a predetermined plane by using the luminous flux from a light source, and a focus optical system for projecting the light pattern formed on the plane on a prescribed plane wherein the image formation optical system has a variable magnification.例文帳に追加

照明装置において、光源からの光束を用いて所望の照度分布を持つ光パターンを予め決めた平面に形成する回折光学素子と、該平面に形成される前記光パターンを所定の平面に投影する結像光学系とを有し、該結像光学系は倍率が可変であることを特徴とするようにする。 - 特許庁

An In-Ga-Zn-O-based film is so formed as to have an incubation state exhibiting an electron beam diffraction pattern different from a conventionally known amorphous state that a halo shape pattern appears, and from a conventionally known crystal state that a spot appears clearly, and the film is used as a channel formation region of a channel etched thin film transistor.例文帳に追加

ハロー状のパターンが現れる従来公知のアモルファス状態とも異なり、スポットが明確に現れる従来公知の結晶状態とも異なる電子線回折パターンを示すインキュベーション状態を有するＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を形成し、チャネルエッチ型の薄膜トランジスタのチャネル形成領域として用いる。 - 特許庁

To provide a method of processing a substrate, by which in double patterning according to LLE, a hydrophobic treatment can be readily conducted on a peripheral portion of the substrate without dissolving or transubstantiating a first resist pattern before execution of a second patterning processing after formation of the first resist pattern in a first patterning processing.例文帳に追加

ＬＬＥによるダブルパターニングにおいて、１回目のパターニング処理により１回目のレジストパターンを形成した後、２回目のパターニング処理を行う前に、１回目のレジストパターンを溶解又は変質させずに、基板の周縁部に対して容易に疎水化処理を行うことができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The image pattern formation layer (image pattern forming medium) 1 divides the three images into a number of the linear bands 11 with substantially the same width respectively, extracts the linear band 11 of each image, in response to the number of the images at random, successively mutually adjoins them one by one alternately and arranges them in one row on the same face.例文帳に追加

像パターン形成層（像パターン形成媒体）１は、３種類の像のそれぞれをほぼ同一幅の多数の線状帯１１に分割し、各像の線状帯１１を像の数に応じて飛び飛びに抽出して順次１本ずつ互い違いに隣接させて同一面上に１列に配列したものである。 - 特許庁

From the data transmission speed ratio of high-speed transmission and low-speed transmission or the ratio of spread spectrum ratios, a side-lobe level setting means 110 decides a side-lobe level suppression value to a main lobe, a null-setting means 111 suppresses interference near the main lobe, and a transmission directivity pattern formation means 107 decides a transmission pattern.例文帳に追加

高速伝送と低速伝送のデータ伝送速度比またはスペクトル拡散率の比から、サイドローブレベル設定手段１１０はメインローブに対するサイドローブレベル抑圧値を決め、メインローブ近傍ではヌル設定手段１１１が干渉を抑圧し、送信指向性パターン形成手段１０７が送信パターンを決定する。 - 特許庁

Parameters, such as temperature, pressure, humidity, a transfer time and the like in the substrate-processing device to have effect on the formation of a resist pattern are selected as environmental conditions around a substrate, and only normal data which enable a required resist pattern to be formed are collected from the above selected parameters (step 11).例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす基板周囲の環境条件として例えば、装置内の温度や気圧、湿度あるいは装置内の搬送時間等のパラメータを抽出し、これら抽出された複数のパラメータのうち、所望のレジストパターンを形成するときの正常データ値のみを収集する（ステップ１１）。 - 特許庁

The third glass ceramic layer 14 is formed in a partial area including a formation area of the conductor pattern 13 between the first glass ceramic layer 11 and the second glass ceramic layer 12, and has a thermal expansion coefficient included in a range between the thermal expansion coefficient of the conductor pattern 13 and that of the second glass ceramic layer 12.例文帳に追加

第３ガラスセラミック層１４は、第１ガラスセラミック層１１と第２ガラスセラミック層１２との間において導体パターン１３の形成領域を含む部分的領域に形成されており、導体パターン１３の熱膨張率と第２ガラスセラミック層１２の熱膨張率との間の範囲に含まれる熱膨張率を有している。 - 特許庁

Furthermore, a lens forming layer 22 of photosensitive layer is formed, subject to patterning, and exposed to ultraviolet rays of wavelengths 350 to 400 nm to turn into a lens formation pattern layer 22a, the pattern layer 22a is made to flow by heating to turn into a microlens array 23 composed of microlenses 22b, and thus a solid-state image sensing device 100 is obtained.例文帳に追加

さらに、感光層からなるレンズ形成層２２を形成し、パターニング処理を行って、波長３５０ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線を露光してレンズ形成パターン層２２ａを形成し、加熱フローさせてマイクロレンズ２２ｂ及びマイクロレンズアレイアレイ２３が形成された固体撮像素子１００を得る。 - 特許庁

In the optical transmission module, electronic components constituting partly the electronic circuit device is mounted on a mounting section 21 of the stem 2 where a submount is mounted together with a circuit pattern, and a recessed part 21b is formed at a section opposite to the formation part of the circuit pattern of at least the submount of the mounting section 21.例文帳に追加

光送信モジュールは、ステム２の実装部２１に、電子回路装置の一部を構成する電子部品を搭載し回路パターンが形成されたサブマウントが実装され、実装部２１の少なくともサブマウントの回路パターンの形成部と対向する部分に凹所２１ｂが形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To solve problems on the technique for improving performances of microphotofabrication using far ultraviolet light, especially ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, in particular, to provide a negative resist composition which avoids pattern collapse even in fine pattern formation and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a patterning method which remarkably enhances the productivity of pattern formation to base material, does not require the vacuum environment, allows the pattern to be continuously and stably formed and treated on the base material and enhances the maintenance and to provide a film forming apparatus which performs the patterning.例文帳に追加

基材上へのパターンの形成の生産性を大幅に高めるとともに、真空環境をつくる必要もなく、パターンを基材上に連続的に、安定して形成、処理することができるメンテナンス性の向上したパターニング方法及び該パターニングを行う製膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method, for forming a pattern on a resist film by using close filed light by the transmissivity change of a film formed on the resist film for reversibly generating the transmissivity change of the film formed on the resist film with high sensitivity, without causing mix-in of contamination sources.例文帳に追加

レジスト膜上に形成された膜の透過率変化による近接場光を用いて前記レジスト膜にパターンを形成する方法であって、レジスト膜上に形成された膜の透過率変化を高感度で可逆的に生じさせるとともに、汚染源の混入を引き起こさないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The barrier pattern 16 for a display panel fitted on a top side of the base plate 12 and zoning opening parts 18 into which either or both of an organic EL light-emitting material and a color material for color filter formation are injected has a shelter groove 22 each at their tiptop with a depth shallower than the thickness of the pattern.例文帳に追加

基板１２の上側に設けられていて、有機ＥＬ発光材料及びカラーフィルタ形成用の色材のいずれか一方又は双方が注入される開口部１８を画成するディスプレイパネルの隔壁パターン１６は、隔壁パターンの頂部に、隔壁パターンの厚みよりも浅い深さの退避溝２２を具えている。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁

To provide pattern printing equipment using an intaglio of a flexible metal flat sheet which has a high alignment precision, enables effective supply of ink to a printing object and enables formation of a uniform ink film thickness in transfer, in the case when a pattern is printed precisely on the printing object of a hard material such as glass.例文帳に追加

ガラス等の硬質材からなる被印刷体にパターンを精密に印刷する場合に、位置合わせ精度が高く、被印刷体へのインク供給を無駄なく行えると共に、転写時でのインク膜厚を均一に形成できるようにした可撓性金属平板状の凹版を用いたパターン印刷装置を提供する。 - 特許庁

A stencil mask manufacturing process in the preceding back etching process includes forming gradations of a film thickness of a resist left in a pattern field, after developing by adjusting the amount of exposed light, and selectively thinning a masking substrate film in a minute pattern formation field, with an aspect ratio higher than that of the surrounding region, prior to patterning.例文帳に追加

先行バックエッチングプロセスのステンシルマスク製造工程において、現像後のパターン領域のレジスト残膜厚に露光量を調整することにより階調をつけ、周辺領域よりアスペクト比が高い微細パターン形成領域のマスク基板膜厚を選択的にパターニング以前に薄膜化することにより、ステンシルマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can form a uniformly thin film having an thickness of not more than 100 nm applicable to lithography using nanoimprint for patterning in not more than 100 nm and can be applied to nanoimprint, and to provide a manufacturing apparatus of an electrolyte film for pattern formation which can realize such a method.例文帳に追加

１００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。 - 特許庁

The side of the silicon wafer 1 formed with a circuit pattern 2 is irradiated with white light or visible light of a wavelength of ≤800 nm, the visible light transmitted through the silicon wafer 1 is received by a visible light camera 3 from the back side of the silicon wafer 1, and the image of the recognition mark formed on the circuit pattern formation side of the silicon wafer 1 is recognized.例文帳に追加

白色光又は波長８００ｎｍ以下の可視光をシリコン基板１の回路パターン２の形成面に照射し、シリコン基板１を透過した可視光をシリコン基板１の背面側から可視光カメラ３により受光し、シリコン基板１の回路パターン形成面上に形成された認識マークを画像認識する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a thin film magnetic head, wherein when formation of a narrow pattern exceeding a limit of resolution of an imaging layer is required, a lift-off resist of a narrow pattern is applied and an angle of an end part of a GMR film is made steep so as to be ≥45° by a lift-off method to form a GMR element.例文帳に追加

イメージング層の解像度の限界を超える狭いパターンを形成する必要がある場合に、狭いパターンのリフトオフレジストを適用し、リフトオフ方法によって,ＧＭＲ膜端部の角度を４５度以上に急峻にして、ＧＭＲ素子を作成する薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for laser direct drawing exposure, which allows the formation of a resist pattern having high sensitivity, an excellent resist feature, a preferable resolution, an adhesion property and a release property in laser direct drawing exposure, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, photoresist is applied onto the top surface of the polycrystalline silicon layer 6 and then exposed to light for the formation of a resist pattern conforming to the resistor 22, where the top surface of the polycrystalline silicon layer 6 is flat, and the photoresist film can be set uniform in thickness, so that the influence of a standing wave effect becomes uniform, and a resist pattern can be set uniform in width.例文帳に追加

このため、多結晶シリコン層６の上面にフォトレジストを塗布させ、フォトレジストを露光して抵抗素子２２に応じたレジストパターンを形成させるが、多結晶シリコン層６の上面は平坦でフォトレジストの膜厚を均一にできるので、定在波効果の影響が均一になり、レジストパターンの幅を均一にできる。 - 特許庁

One or more wiring pattern layers 10 are formed, at least, on the one surface of a core material 12 where a wiring pattern 10 is provided on its surface through the intermediary of an insulating layer 14 for the formation of a build-up layer 24, and a recess 48 where a semiconductor chip 28 is mounted is provided in the build-up layer 24 by spot facing.例文帳に追加

配線パターン１０が表面に設けられたコア材１２の少なくとも一方の面上に、配線パターン１０を絶縁層１４を介して一層または複数層形成してビルドアップ層２４を形成し、ビルドアップ層２４を座ぐり加工して半導体チップ２８を搭載するための凹部４８を形成する。 - 特許庁

To provide a multi-color pattern coating material, a dispersion for the multi-color pattern coating material and production methods thereof in which formation of a colored gel having a sufficient gel strength enables suppression of the destruction of gel and the elution of color and obtaining clear multi-color patterns excellent also in water resistance of the coating material.例文帳に追加

十分なゲル強度を有する着色ゲルを形成することにより、ゲルの破壊、色の溶出を抑制することができ、かつ塗膜の耐水性にも優れた鮮明な多彩模様を得ることができる多彩模様塗料及び多彩模様塗料用分散体並びにこれらの製法を提供する。 - 特許庁

In this circuit formation method, a static electricity latent image in a circuit pattern is formed on the surface of a photoreceptor 1, charged powder for forming a circuit is deposited electrostatically on the static electricity latent image, and an image by the charged powder for forming circuits in a circuit pattern shape is transferred onto a ceramic green sheet 10 before fixing by heat.例文帳に追加

感光体１の表面に回路パターン状の静電潜像を形成し、その静電潜像に回路形成用荷電性粉末を静電的に付着させ、回路パターン状の回路形成用荷電性粉末による像をセラミックグリーンシート１０上に転写させた後、熱によって定着させる回路形成方法である。 - 特許庁

An ink-jet method using a liquefied substance containing conductive particles as an ink at a normal temperature is used for the formation of the conductive pattern 411 (including 412, 414), the conductive particles are made to contact with one another by drying and solidifying this ink, and thus the conductive pattern 411 (including 412, 414) is formed.例文帳に追加

この導通パターン４１１（４１２，４１４も）の形成には、常温では導電性粒子を含有した液状物をインクとするインクジェット法が用いられ、当該インクを乾燥固化させることにより導電性粒子を相互接触させて、導通パターン４１１（４１２，４１４含）が形成されている。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask which need not form a superfine pattern, suppresses a sub peak of light intensity exerting adverse influence on image formation at the time of exposure and has a light shielding pattern of lowered transmissivity in an outside region of an element region where multiple exposure is applied and to provide a manufacturing method of the halftone phase shift mask.例文帳に追加

超微細なパターンの形成を必要とせず、露光時の像形成に悪影響を及ぼす光強度のサブピークを抑え、かつ、素子領域の外側の多重露光される領域での透過率を下げた遮光パターンを有するハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

To provide a pattern film forming method and a pattern film forming device in which a film removing process of removing an unnecessary film is reduced in cost and speeded up when multiple imposition formation of an organic solar cell and an organic functional film such as an organic EL display on the substrate is made by a wet printing method such as coating printing.例文帳に追加

有機太陽電池及び有機ＥＬディスプレイ等の有機機能性膜を基板上に塗布印刷等の湿式法により多面付け形成する際に、不必要な膜を除去する膜除去工程を低コスト化、迅速化したパターン膜形成方法及びパターン膜形成装置を提供すること。 - 特許庁

This manufacturing method uses the photomask 7 which has a pattern A for diffuse reflection area formation formed inside and a transparent pattern B formed outside and the exposure is carried out after the surface of the substrate 1 is coated with the positive photoresist with which a light-absorbing material having light absorptivity in a sensitive wavelength range is mixed.例文帳に追加

この製造方法では、内側に拡散反射領域形成用パターンＡが外側に透明パターンＢが形成されたフォトマスク７を用い、基板１の表面上に感光波長域に対して吸光性を有する吸光性材料が混入したポジ型のフォトレジストを塗布してから露光を行う。 - 特許庁

To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer wiring board for electronic parts which prevents the leakage of ultraviolet rays at exposure, or the creep in of electrolytic copper plating liquid caused by poor adhesion of a dry film at formation of a wiring pattern, by removing the unevenness on the surface of an insulating resin layer along the unevenness on the surface of a lower wiring pattern.例文帳に追加

下側の配線パターンの表面の凸凹に沿った絶縁樹脂層表面の凸凹をなくし、露光時の紫外線漏れや配線パターン形成時のドライフィルムの密着不具合による電解銅めっき液の潜り込みを防止した電子部品用多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The heat seal paper for filtering liquids, having clear and constant pattern and good freeness is obtained by papermaking with wet paper combination of a cylinder wire wet paper and a short-fourdrinier wire wet paper in a wet paper machine provided with a pattern on a cylinder wire 3 for the cylinder wire layer having a higher density than the short-fourdrinier wire layer and easily forming good formation.例文帳に追加

短網層より密度が高く、地合がとりやすい円網層の円網シリンダー３にパターンを付与した湿式抄紙機にて、円網層湿紙と短網層湿紙を抄き合わせ抄紙することにより、鮮明かつ規則的なパターンおよび良好なろ水性を有する液体ろ過用ヒートシール紙が得られる。 - 特許庁

To provide a forming method of a metal oxide thin film pattern by which distribution of refractive index in an inorg. optical waveguide, photonic band and interference mirror having small transmission loss and excellent heat resistance can be produced and which is advantageous for the surface imaging process in semiconductor microfabrication and for the formation of a fine metal wiring pattern.例文帳に追加

伝搬損失が小さく、耐熱性に優れた無機系の光導波路やフォトニックバンド、干渉鏡などの屈折率分布を形成でき、かつ半導体微細加工における表面イメージング工程や、微細金属配線パターンの形成に有用な、金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

When the control part receives the image formation instruction with full color while the monochrome specific pattern formation mode is selected and the execution condition of the density detection of the specific pattern with full color by the sensor is satisfied, the control part executes the full color specific pattern formation mode.例文帳に追加

上記課題を解決するために、本発明の実施形態における画像形成装置は、複数色のトナーのうちの少なくとも１色のトナーを用いて画像を形成する画像形成部と、特定パターンの画像濃度を検知するセンサと、センサの検知結果に基づいて作像条件にフィードバックする制御部と、フルカラーあるいはモノクロでの画像形成指示を受信する受信部と、フルカラー特定パターン形成モードか、モノクロ特定パターン形成モードかを選択する選択部とを有し、制御部は、モノクロ特定パターン形成モード選択中に、フルカラーでの画像形成指示を受信し、センサによるフルカラーでの特定パターンの濃度検知の実行条件が満足された場合、フルカラー特定パターン形成モードを実行する。 - 特許庁

In the membrane pattern formation method, the production method for the elastic surface wave device and the liquid drop delivery apparatus, when a resist film 83 is formed by delivering the liquid drop of a resist film material toward a connection electrode surface of SAW pattern 52 formed on a wafer 51, the resist film 83 is not formed or a failure mark is formed in a section with the defective SAW pattern 52.例文帳に追加

本発明による膜パターン形成方法、弾性表面波デバイスの製造方法、及び液滴吐出装置は、ウェハ５１上に形成されたＳＡＷパターン５２の接続電極面に向けてレジスト膜材料の液滴を吐出することで、レジスト膜８３を形成する際に、不良であるＳＡＷパターン５２が形成された区画においては、レジスト膜８３を形成しない、又は不良マークを形成する。 - 特許庁

The conductor pattern forming method comprises the steps of forming a plurality of copper patterns 110 on one surface of a substrate 100; pressing a part of the copper patterns 110 from the thickness direction to thereby form partly wider regions 112 on the copper patterns 110; making solder powder adhere to each copper pattern 110; and melting the solder powder on the copper pattern for the formation of solder plating having bumps.例文帳に追加

導体パターンの形成方法は、基板１００の一方の面上に複数の銅パターン１１０を形成する工程と、各銅パターン１１０の一部を厚さ方向から押圧し、銅パターン１１０の一部の幅広領域１１２を形成する工程と、各銅パターン１１０上に半田粉末を付着させる工程と、銅パターン上の半田粉末を溶融し、隆起を有する半田めっきを形成する工程とを有する。 - 特許庁