「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

In the semiconductor circuit pattern formation device, the upper portions of a plurality of holding sections 302 for holding the substrate 101 are connected, and the connection members 303 are fixed on a base (movable stage) for supporting the entire substrate holding section.例文帳に追加

本発明は、基板１０１を保持する複数の保持部３０２の上部が連結され、且つ、その連結部材３０３が、基板保持部全体を支持するベース（可動ステージ上）に固定されていることを特徴とする半導体回路パターン形成装置である。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device having a specific pattern which can prevent ink from flowing to positions except an intended position when forming a light-shielding layer on a peripheral part of a display area by ink jetting after formation of a coloring layer.例文帳に追加

基板上に着色層を形成後、インクジェット工法を用いて表示領域周縁に遮光層を形成する際、インクが所望の場所以外に流れないように堰き止め可能な所定のパターンを有する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sulfonium salt excellent in resolution in photolithography using high energy rays, such as ArF excimer laser rays or EUV, as a light source, to provide a resist material containing the sulfonium salt, and to provide a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＵＶ等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性に優れたスルホニウム塩、そのスルホニウム塩を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which the manufacturing cost of the semiconductor device can be reduced and the precision of the formation position of a wiring pattern relative to an internal connecting terminal can be improved.例文帳に追加

本発明は、半導体装置の製造コストの低減を図ることができると共に、内部接続端子に対する配線パターンの形成位置の精度を向上させることのできる半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a surface treatment method wherein poor formation of a resist pattern etc. which occurs when sulfate ion remains on the surface of a workpiece is improved and a clean surface is obtained stably in cleaning treatment at the time of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造時の洗浄処理において、被処理体の表面に硫酸イオンが残留した際に発生するレジストパターンの形成不良等を改善し、安定して清浄な表面を得ることができる表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide single crystal seed as well as molding pattern and the method for manufacturing of a single crystal casting which overcomes problems of oxide growth and of the formation of nuclei by forged particles and the necessity of special gating scheme.例文帳に追加

本発明は、酸化物成長及び偽造粒子の核形成の問題及び特別なゲーティングスキームの必要性を克服する単結晶鋳物を製造するための鋳物型及び方法と同様に、単結晶シードの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a material for forming a protective film that can simultaneously prevent alteration of a resist film during liquid immersion lithography and alteration of the liquid used for the liquid immersion lithography and that can result in formation of a resist pattern having a preferable profile without increasing the number of processes.例文帳に追加

液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method consists, after depositing a metal thin film on the surface of a metallic mold, which is carried out pattern formation of the electrode domain having a solid form corresponding to one side face 1a and the inside of the hole continuing to it by electroplating, and it is peeled off.例文帳に追加

製造方法は、片面１ａとそれに連続する孔の内面とに対応した立体形状を有する電極領域をパターン形成しためっき金型の表面に、電気めっきにより金属の薄膜を析出させた後、はく離する。 - 特許庁

In a condition that the contact legs 16a, 16b are laid on a buffer layer 4 and kept in contact with it, a solution for pattern formation is supplied in the holes 15a, 15b surrounded by the contact legs 16a, 16b so that the solution may spread evenly in all the corners.例文帳に追加

当接脚部１６ａ、１６ｂをバッファ層４上に載置して当接させた状態で、当接脚部１６ａ、１６ｂで囲まれたパターン孔１５ａ、１５ｂ内にパターン形成用溶液が隅々にまで行き渡るように供給する。 - 特許庁

To provide a chargeable powder for circuit formation which displays a superior bonding property preventing a conductor circuit from being exfoliated from a sintered object to be printed, even when the powder is used to print a circuit pattern on the object to be printed by an electrophotographic method.例文帳に追加

電子写真法によって被印刷物上に回路パターンを印刷する際に使用しても、焼結後の被印刷物から導体回路が剥がれることのない優れた接合性を発揮する回路形成用荷電性粉末を提供する。 - 特許庁

SImultaneously with the formation of the 2nd layer of the conductor coil 2b, a dummy pattern (wall) 9 having almost as wide as the upper magnetic film 1 is formed between the contact part 3 and the rear end of the position where the upper magnetic film 1 is formed in the inner circumferential part of the spirals.例文帳に追加

二層目の導体コイル２ｂを形成すると同時に、渦巻の内周部で上部磁性膜１が形成される位置の後端とコンタクト部３の間に、上部磁性膜１とほぼ同じ幅を有するダミーパターン（壁）９を形成する。 - 特許庁

A time gap measuring section 93 of the controller 41 detects the yawing of the substrate 3 and corrects the ejection timing for every nozzle ejection hole 69 of the heads 67, thereby correcting the mispositioning of the pattern formation.例文帳に追加

制御部４１の時間ズレ計測部９３は、２つの位置エンコーダ９１からの入力値から、基板３のヨーイングを検出し、ヘッド６７のノズル吐出孔６９ごとの吐出タイミングを補正することにより、パターン生成の位置ズレを補正する。 - 特許庁

The decorative sheet S is constituted such that a pattern ink layer 3 is printed for formation on the back of the transparent base sheet 1 having a fish-eye-form unevenness F on at least its back after a transparent coat film 2 to smooth and flatten the unevenness is coated and formed.例文帳に追加

加飾シートＳは、少なくとも裏面にフィッシュアイ状の凹凸Ｆを有する透明基材シート１の裏面に、該凹凸を平滑・平坦化する透明平滑化塗膜２を塗工形成してから、絵柄インキ層３を印刷形成した構成とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a mold includes steps of: forming a seed layer on an original where a pattern is formed, under the conditions of film formation that an internal stress σ satisfies -3.0 N/m^2<σ<3.0 N/m^2; and electroforming by using the seed layer as an electrode.例文帳に追加

パターンが形成された原版上に内部応力σが−３．０Ｎ／ｍ^２＜σ＜３．０Ｎ／ｍ^２となる成膜条件でシード層を形成する工程と，該シード層を電極として電鋳を行う工程と，を有する金型製造方法とする。 - 特許庁

To minimize a movement of a dispense head, to enable a reduction in vibration at work and forming accurate pattern formation and to enable paste coating corresponding to a large-sizing of a planar display device without tremendously increasing the size of the paste coater.例文帳に追加

ディスペンスヘッドの動きを最小化すると共に、作業時の振動を減少させて正確なパターン形成を可能にし、装置の大きさを著しく増加させずに、平板表示装置の大型化に対応したペースト塗布を可能にすること。 - 特許庁

Since the reflection mask 1 is used as a mask for proximity effect correction, high-accuracy correction exposure can be performed reading, because the occurrence of the thermal deformations of the mask and the formation of a doughnut shape pattern in a stencil mask is prevented, as compared with the case where a transmissive mask is used.例文帳に追加

近接効果補正用マスクとして反射マスクを用いるので、透過形のマスクを用いる場合と比べて、マスクの熱変形の問題やステンシルマスクのドーナッツパターン問題がなく、容易に高精度の補正露光を行うことができる。 - 特許庁

Then, an ultraviolet ray setting resin layer is arranged on a surface on the opposite side of the electrode formation surface of the cleaned piezoelectric single crystal wafer, an exposure and development processing is executed to the ultraviolet ray setting resin layer and a hole pattern corresponding to a desired recess is formed.例文帳に追加

次いで、洗浄後の圧電単結晶ウェーハの電極形成面と反対側の面に、紫外線硬化型樹脂層を配置し、この紫外線硬化型樹脂層に露光、現像処理を施して、所望の凹部に応じた穴パターンを形成する。 - 特許庁

In such a constitution, it is possible to correct the image data, by finding a tendency of the brightness when the formation pattern, etc., are displayed on the steel plate surface, and it is possible to improve the precision of the flaw detection, by using the image data after the correction.例文帳に追加

かかる構成により、鋼板表面に地合模様等が表れている場合に、その輝度の傾向を捉えて画像データの補正を行うことができ、補正後の画像データを用いることで疵検出の精度を向上させることができる。 - 特許庁

For example, this can be achieved by forming, on the substrate 121 with the sheathed nano-wire 103 disposed thereon across the lower gate electrode 122, a resist pattern having an opening in an electrode formation part by an electron beam exposure and then depositing an electrode material on top of that.例文帳に追加

例えば、被覆ナノワイア１０３が下部ゲート電極１２２と交差して配置されている基板１２１の上に、電子ビーム露光により電極形成部に開口を備えるレジストパターンを形成し、この上に、電極材料を堆積する。 - 特許庁

A pattern display means 21 displays the formation of the ready-to-win by stopping a plurality of same types of symbols on the effective line and displays that the big win symbol combination occurs by stopping the big win symbols Za on the effective line.例文帳に追加

図柄表示手段２１は、有効ライン上に同種類の図柄が複数停止することでリーチの形成を表示し、大当り図柄Ｚａが有効ライン上に停止することで大当りの図柄組み合わせが生起されたことを表示する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the organic EL element, a masking film layer 4 with a prescribed masking pattern is formed on a transparent substrate 1 with a transparent electrode, followed by successive formation of an organic EL film 22 and the back electrode 23 on the masking film layer 4.例文帳に追加

本有機ＥＬ素子の製造方法は、透明電極２１が形成された透明基板１上に、所定のマスク形状を有するマスキングフィルム層４を形成した後、有機ＥＬ膜２２及び背面電極２３を順次形成する。 - 特許庁

Then optical characteristics of the projection optical system are found on the basis of the detection result of a formation state of an image of the pattern formed in the respective regions on the wafer through exposure under the finely adjusted exposure conditions (steps 436, 438).例文帳に追加

そして、その微調整された露光条件の下での露光によってウエハ上の各領域に形成された前記パターンの像の形成状態の検出結果に基づいて、投影光学系の光学特性が求められる（ステップ４３６、４３８）。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed wiring board which removes an unnecessary part of a foundation layer and at the same time protects a necessary foundation layer during soft etching in the formation of a metal wiring pattern in manufacturing a printed wiring board by a semi-additive method.例文帳に追加

セミアディティブ法によるプリント配線板の製造で、金属配線パターンを形成する際のソフトエッチング時に、下地層の不要な部分を除去すると同時に、必要な下地層を保護するプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor substrate, which can improve design flexibility for formation of a wiring pattern in the upper conductive layer by reducing the plane size of a pad to be formed in a via position; and to provide the semiconductor substrate.例文帳に追加

ビア位置に形成されるパッドの平面寸法を小さくすることにより、上層の導電層における配線パターン形成の設計自由度を向上させることができる半導体基板の製造方法および半導体基板を提供する。 - 特許庁

To provide an array antenna system where a time for measuring the excitation amplitude and phase of each element antenna is reduced as to the array antenna system for electronically performing beam scanning or pattern formation by the phase control of a plurality of element antennas.例文帳に追加

複数の素子アンテナの位相制御により電子的にビーム走査或いはパターン形成を行うアレイアンテナ装置に関し、各素子アンテナの励振振幅及び位相の測定に要する時間の短縮を図ったアレイアンテナ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laser irradiation device for preventing or reducing the formation of a concentric circle pattern, in a laser annealing method employing the laser irradiation device having a low running cost for large-sized substrates.例文帳に追加

大型の基板に対応するためにランニングコストの低いレーザー照射装置を用いたレーザーアニール法において、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減するためのレーザ照射装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To complete planarization of all insulation separation grooves formed on a substrate or steps generated at a wiring pattern formation, in a process for embedding an insulation material into the groove or wiring gap without using a CMP technology.例文帳に追加

基板上に形成された絶縁分離用溝もしくは配線パターン形成により生じた段差を、ＣＭＰ技術を用いることなく、溝もしくは配線間隙への絶縁材料埋め込み工程段階ですべて平坦化を完了させるようにする。 - 特許庁

Various sophisticated designs were devised as follows; the formation of Katomado (specially shaped windows with many s-shaped curves in a Zen temple) and its above Shoji of tsukeshoin, the design of kugikakushi (object which conceals the head of nail) of transom and the usage of karakami (printed paper, paper sliding door) xylographed simple komon (small fine pattern) motif. 例文帳に追加

付書院の花頭窓とその上の障子の構成や欄間の釘隠しの意匠そして、襖障子には木版でシンプルな小紋文様をすり込んだ唐紙を使用するなど、さまざまなしゃれた意匠を工夫していった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a mask for charged particle beam exposure eliminating thermal deflection and displacement of a membrane due to heat storage during exposure without blocking formation of a fine mask pattern, and to provide a method of manufacturing the mask for charged particle beam exposure.例文帳に追加

微細なマスクパターンの形成を阻害することなく、露光時の蓄熱に起因したメンブレンの熱たわみ及び位置ずれを解消することを可能とする荷電粒子線露光用マスク及び荷電粒子線露光用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high resolving power when a bracelet illumination lamp is used, having a broad defocus latitude, less liable to produce a side lobe in pattern formation using a halftone phase shift mask and less liable to generate particles in storage with age.例文帳に追加

輪帯照明を用いた際に高解像力であり、デフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難く、且つ経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The patterning roller forms a cylindrical base surface as the outer reference surface for pattern formation, a plurality of washer-like projecting rows parallel to the circumference of the reference surface, and circular arc projections partially covering the groove parts interposed between the projecting rows.例文帳に追加

模様付けローラーにあっては、模様形成外囲基準面としての円柱状基面とこの基面への円周方向に平行な複数の座金状凸条と凸条間に挟まれた溝部分を部分的に覆う円弧状突起を形成する。 - 特許庁

Also, in the formation process of the protection film 31, the protection film 31 is formed so that the side face 27 of the pattern of the functional films 28 and 29 formed by the patterning process by wet etching can be covered with the formed protection film 31.例文帳に追加

また、保護膜３１の形成工程では、ウエットエッチングによるパターニング工程において、パターニングによって形成された機能膜２８，２９のパターンの側面２７が、形成した保護膜３１によって覆われるように、保護膜３１を形成する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive composition for a solid state imaging device allowing pattern formation of a coloring layer having a good spectral characteristic and high resolution; a color filter for a solid state imaging device using the same; and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

分光特性が良好で、かつ解像度の高い着色層のパターン形成ができる固体撮像素子用着色感光性組成物とそれを用いた固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a weak alkaline developable photosensitive resin composition which enables formation of a solder resist having sufficiently high heat resistance and thermal shock resistance and formation of a dry film showing sufficiently excellent storage stability, a photosensitive film for a permanent resist using the composition, a resist pattern forming method, a printed wiring board and a method for producing the same, a surface protective film, and an interlayer insulating film.例文帳に追加

充分に高い耐熱性及び耐熱衝撃性を備えたソルダーレジストを形成でき、かつ、充分に優れた貯蔵安定性を示すドライフィルムを形成できる、弱アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びこれを用いた永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法、表面保護膜、層間絶縁膜を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive film for circuit formation which does not contaminate a mask since it follows up surface unevenness of a substrate to be laminated well and is very small in the viscosity of a photosensitive layer on a surface coming into contact with a pattern mask, as a photosensitive film for circuit formation which is adaptive to higher density of wiring of a printed wiring board and high resolution.例文帳に追加

プリント配線板の配線の高密度化及び高解像度化に対応した回路形成用感光性フィルムを提供するものであって、ラミネートすべき基板の表面の凹凸に対して追従性が良く、且つパターンマスクと密着する面の感光層の粘着性が極めて小さいため、マスクを汚染しない回路形成用感光性フィルムを提供する。 - 特許庁

In a wafer-shaped SOI substrate 10, an epitaxial silicon layer 22, which is a convex formation material layer, is formed through an epitaxial growth method on a second silicon layer 16 constituting an SOI layer of the mark formation area 150, which is a scribe line area, and then the corresponding epitaxial silicon layer is etched to pattern a convex 22a as a positioning mark.例文帳に追加

ウェハ状のＳＯＩ基板１０のうち、スクライブライン領域であるマーク形成領域１５０のＳＯＩ層を構成する第２のシリコン層１６上に、エピタキシャル成長法によって凸部形成用材料層であるエピタキシャルシリコン層２２を形成した後、当該エピタキシャルシリコン層に対してエッチングを行って、位置合わせ用マークとしての凸部２２ａをパターニング形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a crystalline thin film or a crystalline structure capable of forming a desired pattern, including a three-dimensional shape, of a crystalline thin film having excellent interface state by a simple formation process while lowering the heat treatment temperature required for crystallization, and to provide a structure having a crystalline thin film formed by the formation method.例文帳に追加

シンプルな製造工程により界面状態の良好な結晶性薄膜を立体形状を含む所望のパターンに形成可能であり、結晶化に要する熱処理温度を低減させることが可能な結晶性薄膜又は結晶性構造体の製造方法、及び当該製造方法により形成された結晶性薄膜を備えた構造体を提供する。 - 特許庁

This probe pin manufacturing method for manufacturing the probe pin for supplying a signal to an electronic device is provided with a mask layer formation process for forming a mask layer having a predetermined pattern on a substrate, a groove part formation process for forming a groove part on the substrate by etching the substrate, and an accumulation process for accumulating a metal material in the groove part by using the mask layer as a mask.例文帳に追加

電子デバイスに信号を供給するためのプローブピンを製造するプローブピン製造方法であって、基板に所定のパターンを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、マスク層をマスクとして、基板をエッチングし、前記基板に溝部を形成する溝部形成工程と、マスク層をマスクとして、溝部に金属材料を堆積する堆積工程とを備える。 - 特許庁

To provide a moving body having the same structure and local communication function and performing preset function with the assembly of a number of moving bodies, and a method allowing quick formation of a plurality of sub-patterns or complicated patterns by efficiently gathering a number of moving bodies scattered in a wide range at a pattern formation position to perform to perform given work.例文帳に追加

同じ構造を有し、局所通信機能を持ち、多数が集合して所定の機能を果たすような小型の移動体を提供し、この移動体により所定の作業を行わせるため、広範囲に分散した多数の移動体を効率よくパターン形成位置に集合させて、複数のサブパターンや複雑なパターンも高速に形成することを可能とする方法を提供する。 - 特許庁

In this way, in the case of he pattern formation, when one substrate out of the pair of substrates is subjected to a treatment resulting in its expansion or contraction, the other substrate is also subjected to the same treatment regardless of whether the other substrate necessities it or not.例文帳に追加

このように、パターンの形成に際し、一対の基板のうち一方の基板に、基板の膨張もしくは収縮をもたらす処理を施す場合、他方の基板が上記の処理を必要とするか否かに拘らず、他方の基板にも上記の処理を施す。 - 特許庁

For the formation of a lower layer wire, a thin pattern is formed using a halftone mask and a wire 50 which is located immediately under a pad 48 and which connects the pad and the lower layer wire and a pad reinforcement wire 52 that connects to the pad are formed so that they are wide using a normal photomask.例文帳に追加

下層配線の形成には、ハーフトーンマスクを用いて細いパターンを形成し、パッド４８直下に位置するパッドと下層配線とを連絡する配線５０と、パッドと接続するパッド補強用配線５２とを、ノーマルフォトマスクを用いて大きい幅で形成する。 - 特許庁

To provide a nonlinear element manufacturing method which can perform a patterning finer than resolution of an exposure apparatus used in formation of a resist mask, and which is free from contaminating a film pattern obtained by patterning due to the resist; and to provide an electro-optical device.例文帳に追加

レジストマスクを形成する際に用いる露光装置の解像度によりも微細なパターニングを行うことができ、かつ、パターニングにより得た薄膜パターンがレジストによって汚染されることのない非線形素子の製造方法、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

A pattern formation method according to an embodiment comprises the steps of: forming a heat-shrinkable first film 101 on a base material 100; patterning the first film 101; and heating and shrinking the patterned first film 101.例文帳に追加

本実施形態によるパターン形成方法は、基材１００上に熱収縮性のある第１膜１０１を形成する工程と、前記第１膜１０１をパターニングする工程と、パターニングした前記第１膜１０１を加熱して収縮させる工程とを備える。 - 特許庁

To provide a composition for resist lower-layer film formation that forms a resist lower-layer film which is suitably buried in a via or trench, easily formed based upon a desired pattern, and superior in etching resistance, and a method of forming a dual-damascene structure using the same.例文帳に追加

ビアもしくはトレンチへの埋め込みに好適であり、所望のパターンに基づいた形成が容易であり、エッチング耐性に優れるレジスト下層膜を与えるレジスト下層膜形成用組成物及びこの組成物を用いたデュアルダマシン構造の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative image forming method, using a negative type developer, which greatly reduces defects due to residue during formation of a negative image so as to stably form a high-precision fine pattern in order to manufacture an electronic device of high integration and high precision.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ画像の形成において、残渣系の欠陥を著しく低減できる、ネガ型現像液を用いたネガ画像形成方法を提供する。 - 特許庁