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Pattern Formationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2870件
The pattern formation method includes a step(a) of forming a resist film on a substrate, a pre-wet step(b) of putting prewet liquid on the resist film and removing the pulley wet liquid, after a certain period of time, and a step(c) of exposing onto the resist film on the substrate via the immersion liquid.例文帳に追加
基板上にレジスト膜を形成する工程(a)、該レジスト膜上にプリウェット液を盛り、一定時間後、そのプリウェット液を除去するプリウェット工程(b)、基板上のレジスト膜に液浸液を介して露光する工程(c)を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a negative type resist composition which has superior storage stability for resist liquid and post-exposure temporal stability as well as high sensitivity and high resolving power in pattern formation by irradiation with an electron beam or EUV in microprocessing of a semiconductor element.例文帳に追加
半導体素子の微細加工における性能向上及び技術の課題を解決することであり、電子線又はEUVの照射によるパターン形成において、高い感度及び解像度とともに、レジスト液の保存安定性及び引き置き経時安定性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To improve the manufacturing yield of a reflection-transmission liquid crystal display device provided with a reflective display region and a transmissive display region inside a pixel by reducing the probability of short-circuiting due to abnormal pattern formation of a transparent pixel electrode formed on an array substrate.例文帳に追加
一つの画素内に反射表示領域と透過表示領域とを備えた反射透過型液晶表示装置において、アレイ基板上に形成される透明画素電極のパターン形成異常によるショートの発生確率を減らして製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁
In order to form a sintered material of uniform thickness on a substrate which has irregularity of thickness, a resin under coating layer, which disappears without a harmful influence when it is burned, is formed on the substrate and plane polished before the formation of a desired paste layer or a pattern for baking.例文帳に追加
厚さムラがある基板の上に均一な厚さの焼成物を形成する方法として、焼成時に悪影響なしに消滅する樹脂を基板の上に下引き層として形成し、それを平面研磨した後に、所望の焼成用ペースト層やパターンを形成する。 - 特許庁
The infrared absorption ink for invisible pattern formation contains an infrared absorption material wherein the maximum wavelength of spectroscopic absorption has 750-1,100 nm and absorbance at 650 nm is not more than 5% of absorbance at the maximum wavelength of the spectroscopic absorption.例文帳に追加
750〜1100nmに分光吸収極大波長を有し、かつ650nmにおける吸光度が、該分光吸収極大波長における吸光度の5%以下である赤外線吸収材料を含有することを特徴とする不可視パターン形成用赤外線吸収インキ。 - 特許庁
If a setting is performed so that an image-formation position is conformed to a reading image surface 16, a scattered light from the light scattering pattern 13 is input to the reading image surface 16 without futility and a spatial light intensity distribution in sub scanning direction can be made uniform.例文帳に追加
そこで、この結像位置と読み込み画像面16とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン13からの散乱光が無駄なく読み込み画像面16に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁
In the organic electroluminescent element equipped with an organic layer containing an organic light-emitting material between a pair of counter electrodes, ultraviolet rays are irradiated to the organic layer, the irradiation amount is changed, and formation of light emission pattern having the contrast caused by the light emission brightness corresponding to the irradiation amount of the ultraviolet rays is applied.例文帳に追加
一対の対向電極間に有機発光材料を含む有機層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機層に紫外線を照射し、該照射量を変化させて、紫外線照射量に対応した発光輝度によるコントラストを有する発光パターン形成を施す。 - 特許庁
The metal thin film 14 is subjected to reactive ion etching treatment, pattern formation being faithful to the mask 17 is carried out by the ion etching, isotropic etching of a radical is utilized for advancing the etching from the gap between the mask 17 and the metal thin film 14, and the sectional shape of a gate electrode 18 is tapered.例文帳に追加
金属薄膜14をリアクティブ・イオン・エッチング処理し、イオンエッチングによってマスク17に忠実にパターン形成し、ラジカルの等方性エッチングを利用してマスク17と金属薄膜14の隙間からエッチングを進行させ、ゲート電極18の断面形状を肩の落ちたテーパ形状にする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an insulative wiring board, by which the deposition or the formation of bridges on the outside of a pattern can be suppressed by inactivating an adsorbed chelating agent and at the same time, inhibiting trapping of Au ion and formed Au-nuclei in a substitution or reduction plating method.例文帳に追加
本発明は、吸着したキレート剤を不活性化するとともに、置換及び還元めっき法のAuイオン及び生成したAu核を捕捉しないようにし、パターン外の析出やブリッジ発生がない、絶縁性配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A low-transmittance layer 11 formed into a discontinuous pattern, and a high-transmittance multi-layer film 12 formed on the low-transmittance layer and a non-formation region of the low-transmittance layer are arranged on the outside surface of a front panel 1 having a phosphor screen 3 formed on its inside surface.例文帳に追加
内面に蛍光体スクリーン3が形成された前面パネル1の外面に、不連続な配置パターンに形成された低透過率層11と、低透過率層上及び低透過率層の未形成領域に形成された高透過率多層膜12とが設けられている。 - 特許庁
A first resin pattern 12p having lower adhesiveness to the surface of an unhardened resin sheet than the surface of a first conductive substrate having the conductive surface is formed on the first conductive substrate (10, 11) to form a master substrate for the formation of a second conductive layer.例文帳に追加
表面が導電性である第1の導電性基板(10,11)上に、第1の導電性基板の表面よりも未硬化樹脂シートの表面に対して接着性が低い第1の樹脂パターン12pを形成して第2の導電層形成用のマスター基板を形成する。 - 特許庁
In the vicinity of the opposite end parts of a thin metal plate 61 parallel with the longitudinal direction of a lead frame, an exposed part 63 of the thin metal plate extending linearly in the longitudinal direction is formed as a dummy pattern by photo-etching simultaneously with formation of an etching resist layer 62.例文帳に追加
フォトエッチング法にて、リードフレームの長手方向と平行な金属薄板61の両端部近傍に、長手方向に線状に延びる金属薄板の露出部63をダミーパターンとして、エッチングレジスト層62の形成と同時に金属薄板の両面上に形成すること。 - 特許庁
To provide a glass ceramics material for photosensitive paste capable of forming a high definition pattern, as to formation of a barrier plate layer such as a plasma display panel mainly using a soda-lime glass and a plasma address liquid crystal display panel, and other insulating coats of electric and electronic circuits.例文帳に追加
主としてソーダライムガラス基板を用いたプラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネル等の隔壁層の形成やその他の電気・電子回路の絶縁性被膜形成に関し、高精細パターン形成か可能な感光性ペースト用ガラスセラミックス材料が求められている。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which connecting reliability is high, and any void generation failure or connection failure is not generated, and an adhesive to be used for this, in an alloy formation connecting method by thermal eutectic between a metallic projection on the electrode pad of a semiconductor element and the wiring pattern of a wiring board.例文帳に追加
半導体素子の電極パッド上の金属突起と配線基板の配線パターンとの熱共晶による合金形成接続法において、接続信頼性が高く、ボイド発生不良や接続不良が発生しない半導体装置の製造方法とそれ用の接着剤を提供する。 - 特許庁
To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern accuracy and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayey dielectric or the like for a printed wiring board or an IC package and a photosensitive film using the composition.例文帳に追加
パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やICパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁
At least the particular portion is covered with a solder resist 3 for a belt type conductor of the wiring circuit board for mounting in which the belt type conductor 2 is exposed at the time of formation in a stripe pattern, so that the conductor can individually be connected to an electrode E of an electronic component.例文帳に追加
電子部品の電極Eに対し個別に導体を接続し得るように、帯状導体2がストライプパターンをなすよう露出して形成された実装用の配線回路基板の該帯状導体に対して、少なくとも特定部分をソルダーレジスト3によって覆う。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition capable of allowing formation of a photoresist film that has a little amount of an eluted substance in a liquid for immersion exposure, with which the film is brought into contact during immersion exposure, that shows a large receding contact angle with the liquid for immersion exposure, and gives a fine resist pattern with high accuracy.例文帳に追加
液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きい、微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なフォトレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
In the formation of a pattern of a chemical amplification type resist 10 utilizing an acid catalyzed reaction, the surface of a silicon substrate (semiconductor substrate) 20 is wet-treated by rinsing with an aqueous solution 70 of about pH 4.0-10.0 between exposure and PEB.例文帳に追加
酸触媒反応を利用した化学増幅系レジスト(レジスト)10のパターン形成において、図1に示すように露光(図1の(c))とPEB(図1の(e))との間にPH4.0〜10.0程度の水溶液70でシリコン基板(半導体基板)20の表面をリンスするウエット処理(図1の(d))をする。 - 特許庁
Moreover, a recording method for recording a pattern which includes a long mark or a long space having a length being 10 times the recording channel bit length or more so as to cover the prepits on the recording track with the long mark or the long space on the prepit formation area is used with respect to the medium.例文帳に追加
また、その媒体に対して、前記プリピット形成領域上では、記録トラック上の前記プリピットを長マークあるいは長スペースで覆うように、記録チャネルビット長の10倍以上の長さをもつ長マークあるいは長スペースを含むパターンを記録する記録方法を用いる。 - 特許庁
The semiconductor device has a holding part 16 which holds information regarding the reference etching rate of an etching object and an etching rate calculation part 15 which calculates the etching rate when the etching object is etched based on information regarding a pattern formation region of the etching object.例文帳に追加
エッチング対象物の基準エッチングレートに関する情報を保持する保持部16と、基準エッチングレートに関する情報及びエッチング対象物のパターン形成領域に関する情報に基づいて、エッチング対象物をエッチングする際のエッチングレートを算出するエッチングレート算出部15とを備える。 - 特許庁
The film pattern formation method comprises a step S1 of forming banks in compliance with film patterns on a substrate, a process S5 of forming an accepting film having acceptability with respect to a functional liquid in a groove between the banks, and a process S6 of arranging the functional liquid on the accepting film.例文帳に追加
本発明の膜パターンの形成方法は、基板上に膜パターンに応じたバンクを形成する工程S1と、バンク間の溝に、機能液に対して受容性を有する受容膜を設ける工程S5と、受容膜上に機能液を配置する工程S6とを有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a high-resolution positive type chemically amplified resist material which contains a matrix resin obtained by a simple production method, enables fine resist pattern formation when applied to a non-photolithography process in which exposure is performed under vacuum, and suppresses dropping of a protective group in exposure.例文帳に追加
マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。 - 特許庁
On the ceramic green sheet 1 forming the internal-layer portion, first and second internal electrode patterns 3a and 3b are printed by turns, and further an internal-layer electrode pattern for additional stacking and an internal-electrode non-formation portion 3c to be a ceramic green sheet for stack number adjustment are provided at predetermined positions.例文帳に追加
前記内層部を形成するセラミックグリーンシート1には、第1、第2の内部電極パターン3a,3bを交互に印刷し、さらに所定位置に追加積層用の内部電極パターンと積層枚数調整用セラミックグリーンシートとなる内部電極非形成部3cを設ける。 - 特許庁
To provide a vehicle headlight with an actuator miniaturized and weight-saved and with luminance at irradiation effectively enhanced without adversely affecting on formation of a low-beam light distribution pattern, in a projector type one equipped with a movable shade.例文帳に追加
可動シュードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、すれ違いビーム用配光パターンの形成に悪影響を及ぼすことなく、アクチュエータの小型軽量化を図ると共に、照射時の光度を効率よく高めることができる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁
To provide a positive type photoresist composition less liable to a sensitivity change with the lapse of time in the production of a semiconductor device and having improved density dependency, a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern and less liable to generate particles in a resist solution and a positive type photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern and excellent in shelf stability.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、経時での感度変動が少なく、また、疎密依存性が改善されたポジ型フォトレジスト組成物、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、また、レジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、また、保存安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The cleaning liquid: cleans the droplet discharging device discharging the conductor pattern forming ink used for formation of a conductor pattern by a droplet discharging method, the ink being prepared by dispersing metal particles in an aqueous dispersion medium; and contains ceramic particles and an aqueous dispersion medium that the ceramic particles disperse, with pH at least 0.1 and not more than 3.0.例文帳に追加
本発明の洗浄液は、液滴吐出方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を洗浄するための洗浄液であって、セラミックス粒子と、前記セラミックス粒子が分散する水系分散媒とを含み、pHが0.1以上3.0以下であることを特徴とすることを特徴とする。 - 特許庁
The pattern formation method includes the steps of: laminating a self-assembled monolayer and a polymer film on a substrate; chemically bonding the polymer film to the self-assembled monolayer with an irradiation of an energy ray, thereby forming a polymer surface layer on the self-assembled monolayer; and forming a polymer alloy having a pattern of a phase-separated structure on the polymer surface layer.例文帳に追加
基板上に自己組織化単分子膜とポリマー膜を積層する工程と、エネルギー線を照射することにより前記ポリマー膜と前記自己組織化単分子膜を化学結合させ、ポリマー表面層を前記自己組織化単分子膜上に形成する工程と、相分離構造のパターンを有するポリマーアロイを前記ポリマー表面層上に形成する工程と、を含むパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
Since a semiconductor film on the surface of a substrate is obliquely irradiated with a laser beam while the substrate is moved at a constant speed of 20-200 cm/s, the semiconductor film on the large-sized substrate can be uniformly irradiated with the laser beam, the concentric circle pattern is not formed or the formation of the concentric circle pattern is reduced in a semiconductor device being manufactured.例文帳に追加
本発明によれば、20〜200cm/sの間の一定の速度で基板を移動させながら、前記基板の表面上の半導体膜にレーザ光を斜めに照射させるので、大型の基板上の半導体膜においても均一なレーザ光を照射することができ、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減した半導体装置を作製することができる。 - 特許庁
To provide a developing device and an exposing/developing method for facilitating pattern formation with high resolution, improving mass-productivity and providing a product of high quality by exposure using a proximity exposure system in the exposing/developing steps of a method for manufacturing a color filter for processing a photosensitive resin composition applied on a substrate into a black matrix or a colored pattern.例文帳に追加
本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、プロキシミティ露光方式を用いた露光で、高解像度のパターン形成を可能にし、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を提供するための現像装置及び露光・現像方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
The record mask encoding method which encodes the mask data for recording a predetermined region of image data in N-steps includes an acquisition step for acquiring the mask data, and a formation step for forming index data in which a recording pattern of each pixel is expressed with the code data using the code data of the number of bits smaller than N assigned to the record pattern showing whether the pixel is recorded by what time scanning of the acquired mask data.例文帳に追加
画像データの所定の領域をN回に分けて記録するためのマスクデータを符号化する記録マスク符号化方法において、前記マスクデータを取得する取得工程と、前記取得したマスクデータの何回目の走査で画素を記録するかを示す記録パターンに対して割り振られたNより小さいビット数の符号データを用いて、各画素の記録パターンを前記符号データで表したインデックスデータを生成する生成工程とを有する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a semiconductor device capable of forming a low-resistance metallic semiconductor contact with an excellent reproducibility and excellent adhesive properties, by using a lift-off method proper to the formation of a fine pattern without an oxidation process and a heat treatment process; and to provide the semiconductor device manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加
酸化工程や熱処理工程を行うことなく、微細パターン形成に適したリフトオフ法を用いて低抵抗金属半導体接触を密着性良く、かつ再現性良く形成することが可能な半導体装置の製造方法及びその製造方法により製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁
In washing the fine structure such as a semiconductor, a micromachine or the like, peroxide is added to carbon dioxide set to a supercritical state and the peroxide itself is dissociated in carbon dioxide set at the supercritical state to remove a pollutant such as resist or etching residue at the time of formation of a pattern without destructing the fine structure.例文帳に追加
半導体やマイクロマシン等の微細構造の洗浄において、超臨界状態の二酸化炭素に過酸化物を添加し、更に過酸化物自体を超臨界状態の二酸化炭素中で解離させることにより、微細な構造を破壊することなく、パターン形成時のレジストやエッチング残渣物等の汚染物質を除去する。 - 特許庁
To provide a substrate for wiring circuit formation capable of improving the adhesiveness between an insulating layer and a conductive pattern and preventing delamination in metal thin layer, and to provide a wiring circuit substrate for which the substrate is employed and a method of forming a metal thin layer for forming the metal thin layer.例文帳に追加
絶縁層と導体パターンとの間の密着性の向上を図ることができ、しかも、金属薄層における層間剥離を防止することのできる、配線回路形成用基板、それが用いられる配線回路基板、その金属薄層を形成するための金属薄層の形成方法を提供すること。 - 特許庁
Then, a base plating layer 4 is formed so as to cover the resistor 2 and the insulator layer 3, a resist pattern is formed in the non-electrode forming region of the base plating layer 4, and the surface of the base plating layer 4 exposed from the resist is electroplated with an electrode material for the formation of a pair of electrodes 5.例文帳に追加
次いで、抵抗体2と絶縁体層3を覆うように下地めっき層4を形成し、この下地めっき層4の非電極形成領域にレジストパターンを形成した後、このレジストから露出する下地めっき層4の表面に電極材料を電解めっきして一対の電極5を形成する。 - 特許庁
To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加
超LSIや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁
To provide a resin capable of constituting a photosensitive resin composition which can easily adjust an alkali dissolution rate to enable good developing properties by an alkali aqueous solution and also can cope with the formation of a fine pattern, and particularly is suitable for photolithography, a photosensitive resin composition containing the resin, and a method for producing the resin.例文帳に追加
アルカリ水溶液による現像特性が良好となるアルカリ溶解速度を容易に調整でき、微細なパターン形成にも対応可能で、特にフォトリソグラフィーに好適な感光性樹脂組成物を構成し得る樹脂と、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、および該樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁
Consequently, the high-quality display device which is reduced in the fluctuation of finished dimension can be obtained, because the intensity of light emitting signals can be increased at the time of performing etching time successively performed after the formation of the resist pattern and substrates can be processed based on the optimum etching time by precisely determining ending points.例文帳に追加
レジストパターン形成に引き続いて行われるエッチング時の発光信号強度を高くすることが可能となり、的確な終点判断により基板ごとに最適なエッチング時間による加工を行うことができるため、仕上がり寸法のばらつきの少ない良質な表示装置を得ることが可能である。 - 特許庁
Moreover, a reaction product formed in a pattern sidewall part in self-alignment in dry etching of a metal film or a sidewall insulation film formed in self-alignment in an isotropic etching of a thick insulation film is used as a doping mask in the formation of an offset region or an LDD region.例文帳に追加
また、オフセット領域或いはLDD領域を形成する際のドーピングマスクとして、金属膜のドライエッチング時にパターン側壁部に自己整合的に形成される反応生成物、或いは厚い絶縁膜の異方性エッチングを行った時に自己整合的に形成される側壁絶縁膜を用いる。 - 特許庁
After a lower columnar electrode 10 is formed by electrolytic plating on an upper surface of a connection pad part of an upper metal layer 9 for wiring, a plating resist film 27 for upper columnar electrode formation made of negative dry film resist is pattern-formed on an upper surface of a base metal layer 8 including the upper metal layer 9.例文帳に追加
配線用の上部金属層9の接続パッド部上面に電解メッキにより下部柱状電極10を形成した後、上部金属層9を含む下地金属層8の上面にネガ型のドライフィルムレジストからなる上部柱状電極形成用メッキレジスト膜27をパターン形成する。 - 特許庁
Intensity of light reaching a resist film on a solid sample has a value suitable even to an upper part and a bottom part of the solid by imparting a function of attenuating light to a liquid for immersion exposure, and a suitable exposure intensity distribution is then formed over the entire sample surface, thereby surely reducing formation of an abnormal pattern due to reflected light.例文帳に追加
液浸露光の液体に、光減衰の機能を加えることにより、立体サンプル上のレジスト膜に到達する光強度を、立体の上部にも底部にも適正な値にでき、サンプル表面上の全体に適正な露光強度分布を形成できるので、反射光による異常パターンの発生を確実に低減できる。 - 特許庁
To provide black photopolymer composition which is superior to adhesion with a substrate and storage stability and hard to arise in optical density gap with position at the time of minute pattern formation because it reduce heat flow characteristics in the post-bake while maintaining sensibility, a black matrix prepared using the black photopolymer composition, and a color filter with the black matrix.例文帳に追加
基板との密着性及び貯蔵安定性に優れ、感度を維持しつつポストベークの際の熱流れ性を低減することで、微細パターン形成時、位置による光学密度差を生じにくい黒色感光性樹脂組成物、これを用いて製造されたブラックマトリクス及び上記ブラックマトリクスを備えるカラーフィルターの提供。 - 特許庁
To provide a conductive ink composition which in the formation of a copper-based electrically conducting portion, enables the electrically conducting portion to be formed at a temperature at which a resin can be used as a substrate, and which enables a pattern to be formed by screen printing; and to provide a method for producing an electrically conducting portion using the conductive ink composition, and its applications.例文帳に追加
銅を主成分とする電気的導通部位の形成において、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、且つスクリーン印刷法によるパターン形成が可能な導電性インク組成物、それを用いた電気的導通部位の製造方法、及びその用途を提供する。 - 特許庁
To provide an optical waveguide structure and an electronic device which have a high degree of freedom for designing a pattern shape, which enable the formation of a core portion (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and which include an optical waveguide having high optical coupling efficiency with light-emitting and light-receiving elements and is excellent in durability.例文帳に追加
パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部(光路)を簡単な方法で形成することができ、また、発光素子や受光素子との光結合効率および耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。 - 特許庁
The ceramic compact of this invention is calcined after ink for conductor pattern formation containing metal particles is imparted, used in manufacturing of the wiring board, constituted of a material containing a ceramic material and a binder, and contains a condensate of polyalcohol at least at a part near a surface.例文帳に追加
本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に多価アルコールの縮合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁
This layer 13 is exposed to light with the specified pattern and developed, and the part corresponding to the part where barrier ribs are to be formed is removed, and thereby grooves for barrier rib formation 13a and cell forming parts 13b are formed, and the surface of the cell forming parts 13b and the inside of the grooves 13a are covered with die releasing films.例文帳に追加
次に感光性材料層13を所定のパターンで露光した後に現像して隔壁形成予定部に対応する部分を除去することにより、隔壁形成用溝13a及びセル形成部13bを形成し、セル形成部13bの表面及び隔壁形成用溝13aの内部を離型膜にて被覆する。 - 特許庁
In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.例文帳に追加
リフレクタ24の反射面24aにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域24a1の一部を、光源22aからの光を投影レンズ28の後側焦点F近傍へ向けて反射させる集光用反射面24eとして構成する。 - 特許庁
The transfer form includes a paper base for transfer which has, on a base paper surface, a slowly water-soluble remoistenable adhesive layer and a quickly water-soluble remoistenable adhesive layer, the pattern forming layer containing the conductive material, and an overcoat layer formed of a protective member, The Oken-type smoothness after overcoat layer formation is ≥1,000 seconds.例文帳に追加
本発明の転写用紙は、原紙面上に遅水性再湿糊層と速水溶性再湿糊層とを含む転写用紙基材と、導電性材料を含有するパターン形成層と、保護部材により形成されるオーバーコート層と、を有し、オーバーコート層形成後の王研式平滑度が1000秒以上である。 - 特許庁
When the magnetic transfer recording to magnetic recording media is carried on one after another as many times as specified, the ferromagnetic thin-film pattern formation areas 2 on the master information carrier 3 are switched to carry out magnetic transfer recording to following magnetic recording media by using the same mater information carrier.例文帳に追加
次々の磁気記録媒体に対し所定回数の磁気転写記録を行ったときに、マスター情報担体3における強磁性薄膜パターン形成領域2を切り換えることにより、引き続き同じマスター情報担体を用いてさらに続く磁気記録媒体に対する磁気転写記録を遂行する。 - 特許庁
The resist used for pattern formation of a semiconductor integrated circuit contains a phenolic resin, such as 2, 3, 5-trimethyl phenol, having two or more alkyl groups, in which the alkyl groups are formed of the ortho coordination and meta coordination alone without containing a phenolic resin having two or more alkyl groups, in which the alkyl groups are formed of the meta coordination alone.例文帳に追加
半導体集積回路のパターン形成に用いられるレジストであって、アルキル基を2個以上有し、アルキル基がメタ配位のみで形成されるフェノール樹脂を含有せず、アルキル基を2個以上有し、アルキル基がオルソ配位とメタ配位のみで形成される2,3,5−トリメチルフェノール等のフェノール樹脂を含有する。 - 特許庁
To provide a conductive sheet of which the dimensional stability is highly ensured and the high frequency characteristics are also made excellent by enhancing the adhesion of a substrate sheet being an insulating film and a conductive layer while enabling the formation of a fine circuit pattern and improving the moisture absorbability of the substrate sheet.例文帳に追加
本発明の目的は、ファイン化された回路パターンの形成を可能としつつ絶縁性フィルムである基体シートと導電層との密着力を向上させ、さらに基体シートの吸湿性を改善し高度な寸法安定性を確保したとともに高周波特性にも優れた導電性シートを提供することにある。 - 特許庁
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