「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which connecting reliability is high, and any void generation failure or connection failure is not generated, and an adhesive to be used for this, in an alloy formation connecting method by thermal eutectic between a metallic projection on the electrode pad of a semiconductor element and the wiring pattern of a wiring board.例文帳に追加

半導体素子の電極パッド上の金属突起と配線基板の配線パターンとの熱共晶による合金形成接続法において、接続信頼性が高く、ボイド発生不良や接続不良が発生しない半導体装置の製造方法とそれ用の接着剤を提供する。 - 特許庁

At least the particular portion is covered with a solder resist 3 for a belt type conductor of the wiring circuit board for mounting in which the belt type conductor 2 is exposed at the time of formation in a stripe pattern, so that the conductor can individually be connected to an electrode E of an electronic component.例文帳に追加

電子部品の電極Ｅに対し個別に導体を接続し得るように、帯状導体２がストライプパターンをなすよう露出して形成された実装用の配線回路基板の該帯状導体に対して、少なくとも特定部分をソルダーレジスト３によって覆う。 - 特許庁

In the organic electroluminescent element equipped with an organic layer containing an organic light-emitting material between a pair of counter electrodes, ultraviolet rays are irradiated to the organic layer, the irradiation amount is changed, and formation of light emission pattern having the contrast caused by the light emission brightness corresponding to the irradiation amount of the ultraviolet rays is applied.例文帳に追加

一対の対向電極間に有機発光材料を含む有機層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記有機層に紫外線を照射し、該照射量を変化させて、紫外線照射量に対応した発光輝度によるコントラストを有する発光パターン形成を施す。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of allowing formation of a photoresist film that has a little amount of an eluted substance in a liquid for immersion exposure, with which the film is brought into contact during immersion exposure, that shows a large receding contact angle with the liquid for immersion exposure, and gives a fine resist pattern with high accuracy.例文帳に追加

液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きい、微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なフォトレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The metal thin film 14 is subjected to reactive ion etching treatment, pattern formation being faithful to the mask 17 is carried out by the ion etching, isotropic etching of a radical is utilized for advancing the etching from the gap between the mask 17 and the metal thin film 14, and the sectional shape of a gate electrode 18 is tapered.例文帳に追加

金属薄膜14をリアクティブ・イオン・エッチング処理し、イオンエッチングによってマスク17に忠実にパターン形成し、ラジカルの等方性エッチングを利用してマスク17と金属薄膜14の隙間からエッチングを進行させ、ゲート電極18の断面形状を肩の落ちたテーパ形状にする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an insulative wiring board, by which the deposition or the formation of bridges on the outside of a pattern can be suppressed by inactivating an adsorbed chelating agent and at the same time, inhibiting trapping of Au ion and formed Au-nuclei in a substitution or reduction plating method.例文帳に追加

本発明は、吸着したキレート剤を不活性化するとともに、置換及び還元めっき法のＡｕイオン及び生成したＡｕ核を捕捉しないようにし、パターン外の析出やブリッジ発生がない、絶縁性配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern accuracy and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayey dielectric or the like for a printed wiring board or an IC package and a photosensitive film using the composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

A low-transmittance layer 11 formed into a discontinuous pattern, and a high-transmittance multi-layer film 12 formed on the low-transmittance layer and a non-formation region of the low-transmittance layer are arranged on the outside surface of a front panel 1 having a phosphor screen 3 formed on its inside surface.例文帳に追加

内面に蛍光体スクリーン３が形成された前面パネル１の外面に、不連続な配置パターンに形成された低透過率層１１と、低透過率層上及び低透過率層の未形成領域に形成された高透過率多層膜１２とが設けられている。 - 特許庁

A first resin pattern 12p having lower adhesiveness to the surface of an unhardened resin sheet than the surface of a first conductive substrate having the conductive surface is formed on the first conductive substrate (10, 11) to form a master substrate for the formation of a second conductive layer.例文帳に追加

表面が導電性である第１の導電性基板（１０，１１）上に、第１の導電性基板の表面よりも未硬化樹脂シートの表面に対して接着性が低い第１の樹脂パターン１２ｐを形成して第２の導電層形成用のマスター基板を形成する。 - 特許庁

In the vicinity of the opposite end parts of a thin metal plate 61 parallel with the longitudinal direction of a lead frame, an exposed part 63 of the thin metal plate extending linearly in the longitudinal direction is formed as a dummy pattern by photo-etching simultaneously with formation of an etching resist layer 62.例文帳に追加

フォトエッチング法にて、リードフレームの長手方向と平行な金属薄板６１の両端部近傍に、長手方向に線状に延びる金属薄板の露出部６３をダミーパターンとして、エッチングレジスト層６２の形成と同時に金属薄板の両面上に形成すること。 - 特許庁

To provide a glass ceramics material for photosensitive paste capable of forming a high definition pattern, as to formation of a barrier plate layer such as a plasma display panel mainly using a soda-lime glass and a plasma address liquid crystal display panel, and other insulating coats of electric and electronic circuits.例文帳に追加

主としてソーダライムガラス基板を用いたプラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネル等の隔壁層の形成やその他の電気・電子回路の絶縁性被膜形成に関し、高精細パターン形成か可能な感光性ペースト用ガラスセラミックス材料が求められている。 - 特許庁

In the formation of a pattern of a chemical amplification type resist 10 utilizing an acid catalyzed reaction, the surface of a silicon substrate (semiconductor substrate) 20 is wet-treated by rinsing with an aqueous solution 70 of about pH 4.0-10.0 between exposure and PEB.例文帳に追加

酸触媒反応を利用した化学増幅系レジスト（レジスト）１０のパターン形成において、図１に示すように露光（図１の（ｃ））とＰＥＢ（図１の（ｅ））との間にＰＨ４．０〜１０．０程度の水溶液７０でシリコン基板（半導体基板）２０の表面をリンスするウエット処理（図１の（ｄ））をする。 - 特許庁

Moreover, a recording method for recording a pattern which includes a long mark or a long space having a length being 10 times the recording channel bit length or more so as to cover the prepits on the recording track with the long mark or the long space on the prepit formation area is used with respect to the medium.例文帳に追加

また、その媒体に対して、前記プリピット形成領域上では、記録トラック上の前記プリピットを長マークあるいは長スペースで覆うように、記録チャネルビット長の１０倍以上の長さをもつ長マークあるいは長スペースを含むパターンを記録する記録方法を用いる。 - 特許庁

To provide a high-resolution positive type chemically amplified resist material which contains a matrix resin obtained by a simple production method, enables fine resist pattern formation when applied to a non-photolithography process in which exposure is performed under vacuum, and suppresses dropping of a protective group in exposure.例文帳に追加

マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。 - 特許庁

On the ceramic green sheet 1 forming the internal-layer portion, first and second internal electrode patterns 3a and 3b are printed by turns, and further an internal-layer electrode pattern for additional stacking and an internal-electrode non-formation portion 3c to be a ceramic green sheet for stack number adjustment are provided at predetermined positions.例文帳に追加

前記内層部を形成するセラミックグリーンシート１には、第１、第２の内部電極パターン３ａ，３ｂを交互に印刷し、さらに所定位置に追加積層用の内部電極パターンと積層枚数調整用セラミックグリーンシートとなる内部電極非形成部３ｃを設ける。 - 特許庁

The film pattern formation method comprises a step S1 of forming banks in compliance with film patterns on a substrate, a process S5 of forming an accepting film having acceptability with respect to a functional liquid in a groove between the banks, and a process S6 of arranging the functional liquid on the accepting film.例文帳に追加

本発明の膜パターンの形成方法は、基板上に膜パターンに応じたバンクを形成する工程Ｓ１と、バンク間の溝に、機能液に対して受容性を有する受容膜を設ける工程Ｓ５と、受容膜上に機能液を配置する工程Ｓ６とを有することを特徴とする。 - 特許庁

If a setting is performed so that an image-formation position is conformed to a reading image surface 16, a scattered light from the light scattering pattern 13 is input to the reading image surface 16 without futility and a spatial light intensity distribution in sub scanning direction can be made uniform.例文帳に追加

そこで、この結像位置と読み込み画像面１６とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン１３からの散乱光が無駄なく読み込み画像面１６に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁

The semiconductor device has a holding part 16 which holds information regarding the reference etching rate of an etching object and an etching rate calculation part 15 which calculates the etching rate when the etching object is etched based on information regarding a pattern formation region of the etching object.例文帳に追加

エッチング対象物の基準エッチングレートに関する情報を保持する保持部１６と、基準エッチングレートに関する情報及びエッチング対象物のパターン形成領域に関する情報に基づいて、エッチング対象物をエッチングする際のエッチングレートを算出するエッチングレート算出部１５とを備える。 - 特許庁

To provide a vehicle headlight with an actuator miniaturized and weight-saved and with luminance at irradiation effectively enhanced without adversely affecting on formation of a low-beam light distribution pattern, in a projector type one equipped with a movable shade.例文帳に追加

可動シュードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、すれ違いビーム用配光パターンの形成に悪影響を及ぼすことなく、アクチュエータの小型軽量化を図ると共に、照射時の光度を効率よく高めることができる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

To provide a developing device and an exposing/developing method for facilitating pattern formation with high resolution, improving mass-productivity and providing a product of high quality by exposure using a proximity exposure system in the exposing/developing steps of a method for manufacturing a color filter for processing a photosensitive resin composition applied on a substrate into a black matrix or a colored pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、プロキシミティ露光方式を用いた露光で、高解像度のパターン形成を可能にし、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を提供するための現像装置及び露光・現像方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The cleaning liquid: cleans the droplet discharging device discharging the conductor pattern forming ink used for formation of a conductor pattern by a droplet discharging method, the ink being prepared by dispersing metal particles in an aqueous dispersion medium; and contains ceramic particles and an aqueous dispersion medium that the ceramic particles disperse, with pH at least 0.1 and not more than 3.0.例文帳に追加

本発明の洗浄液は、液滴吐出方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を洗浄するための洗浄液であって、セラミックス粒子と、前記セラミックス粒子が分散する水系分散媒とを含み、ｐＨが０．１以上３．０以下であることを特徴とすることを特徴とする。 - 特許庁

The pattern formation method includes the steps of: laminating a self-assembled monolayer and a polymer film on a substrate; chemically bonding the polymer film to the self-assembled monolayer with an irradiation of an energy ray, thereby forming a polymer surface layer on the self-assembled monolayer; and forming a polymer alloy having a pattern of a phase-separated structure on the polymer surface layer.例文帳に追加

基板上に自己組織化単分子膜とポリマー膜を積層する工程と、エネルギー線を照射することにより前記ポリマー膜と前記自己組織化単分子膜を化学結合させ、ポリマー表面層を前記自己組織化単分子膜上に形成する工程と、相分離構造のパターンを有するポリマーアロイを前記ポリマー表面層上に形成する工程と、を含むパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Since a semiconductor film on the surface of a substrate is obliquely irradiated with a laser beam while the substrate is moved at a constant speed of 20-200 cm/s, the semiconductor film on the large-sized substrate can be uniformly irradiated with the laser beam, the concentric circle pattern is not formed or the formation of the concentric circle pattern is reduced in a semiconductor device being manufactured.例文帳に追加

本発明によれば、２０〜２００ｃｍ/ｓの間の一定の速度で基板を移動させながら、前記基板の表面上の半導体膜にレーザ光を斜めに照射させるので、大型の基板上の半導体膜においても均一なレーザ光を照射することができ、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減した半導体装置を作製することができる。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition less liable to a sensitivity change with the lapse of time in the production of a semiconductor device and having improved density dependency, a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern and less liable to generate particles in a resist solution and a positive type photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern and excellent in shelf stability.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、経時での感度変動が少なく、また、疎密依存性が改善されたポジ型フォトレジスト組成物、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、また、レジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、また、保存安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The record mask encoding method which encodes the mask data for recording a predetermined region of image data in N-steps includes an acquisition step for acquiring the mask data, and a formation step for forming index data in which a recording pattern of each pixel is expressed with the code data using the code data of the number of bits smaller than N assigned to the record pattern showing whether the pixel is recorded by what time scanning of the acquired mask data.例文帳に追加

画像データの所定の領域をＮ回に分けて記録するためのマスクデータを符号化する記録マスク符号化方法において、前記マスクデータを取得する取得工程と、前記取得したマスクデータの何回目の走査で画素を記録するかを示す記録パターンに対して割り振られたＮより小さいビット数の符号データを用いて、各画素の記録パターンを前記符号データで表したインデックスデータを生成する生成工程とを有する。 - 特許庁

To provide a heterojunction bipolar transistor that can be selectively etched, can adopt an HBT layer structure containing a semiconductor material with improved adhesion with a mask pattern, forms a guard ring with improved reproducibility without losing the easiness of a guard ring formation process, and has the improved reproducibility of HBT element characteristics, and its manufacturing method.例文帳に追加

選択エッチング可能であり、マスクパターンとの密着性の良好な半導体材料を含むＨＢＴ層構造を採用し、ガードリング形成工程の容易さを損なうことなくガードリングを再現性よく形成し、ＨＢＴ素子特性の再現性が良好なヘテロ接合バイポーラトランジスタおよびその作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Even when the abnormal pattern formation occurs on a boundary part between the transmissive pixel electrode 17 and the transparent pixel electrode adjacent thereto around the flat part 30, because there is less probability of contact of the two neighboring transparent pixel electrodes with each other, the probability of short-circuiting between the electrodes is reduced.例文帳に追加

平坦部分３０の周囲において透明画素電極１７及びこれと隣り合う透明画素電極との境界部分にパターン形成異常が発生していても、隣り合う２つの透明画素電極が互いに接触する可能性が低くなるため、電極間でのショートの発生確率を減らすことができる。 - 特許庁

The hologram sheet material comprises: a long transparent hologram substrate 1 which is transparent to UV rays or electron beams; a transparent rugged thin film layer 2 formed on the surface of the hologram substrate 1 and suitable for reproducing a hologram; and a geometrical pattern formation part 3 locally formed on the transparent rugged thin film layer 2.例文帳に追加

本発明によるホログラム生地は、紫外線または電子線に透明な長尺の透明ホログラム基板１と、前記ホログラム基板１の表面に形成されホログラムの再現に適した透明凹凸薄膜層２と、前記透明凹凸薄膜層２の上に局部的に形成された幾何学模様形成部分３から構成されている。 - 特許庁

According to the manufacturing method of the optical disk, formation of the rugged pattern to the sheet shaped substrate member 80 can be performed at a temperature lower than a glass transition point by providing a base member 90 and generation of deformation, distortion and wrinkles can be prevented.例文帳に追加

本発明に係る光ディスクの製造方法によれば、下地部材９０を設けることでシート状基板部材８０への凹凸パターンの形成をガラス転移点未満の温度で行うことが可能となり、シート状基板部材８０及び凹凸パターン２２に対する変形、歪み、シワの発生を防止することができる。 - 特許庁

The method can prevent an inorganic hard mask film from being damaged by the formation of a pattern by forming a multilayer mask layer, including the inorganic hard mask film, an organic mask film, an antireflection film, and a silicon containing photo resist film and dry-etching the antireflection film and the organic mask film using O_2 plasma.例文帳に追加

この方法は無機ハードマスク膜、有機マスク膜、反射防止膜及びシリコン含有フォトレジスト膜が積層された多層のマスク層を形成し、Ｏ_２プラズマで前記反射防止膜及び有機マスク膜を乾式エッチングしてパターンを形成することによって無機ハードマスク膜の損傷を防止することができる。 - 特許庁

To provide a resin capable of constituting a photosensitive resin composition which can easily adjust an alkali dissolution rate to enable good developing properties by an alkali aqueous solution and also can cope with the formation of a fine pattern, and particularly is suitable for photolithography, a photosensitive resin composition containing the resin, and a method for producing the resin.例文帳に追加

アルカリ水溶液による現像特性が良好となるアルカリ溶解速度を容易に調整でき、微細なパターン形成にも対応可能で、特にフォトリソグラフィーに好適な感光性樹脂組成物を構成し得る樹脂と、該樹脂を含有する感光性樹脂組成物、および該樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the high-quality display device which is reduced in the fluctuation of finished dimension can be obtained, because the intensity of light emitting signals can be increased at the time of performing etching time successively performed after the formation of the resist pattern and substrates can be processed based on the optimum etching time by precisely determining ending points.例文帳に追加

レジストパターン形成に引き続いて行われるエッチング時の発光信号強度を高くすることが可能となり、的確な終点判断により基板ごとに最適なエッチング時間による加工を行うことができるため、仕上がり寸法のばらつきの少ない良質な表示装置を得ることが可能である。 - 特許庁

In the electrode offset printing step, a mold 89 for electrode formation in which an electrostatic electrode pattern is formed by a process combining an ultraviolet lithography and electroforming is mounted on a roll 87 of an offset printing device 86 to perform offset printing of a photosensitive resin 90 having electric conductivity on a molding 1.例文帳に追加

電極オフセット印刷工程では、紫外線リソグラフィと電鋳を組み合わせたプロセスにより静電電極パターンが形成された電極形成用金型８９をオフセット印刷装置８６のロール８７に装着して、導電性を有する感光性樹脂９０を成形品１にオフセット印刷する。 - 特許庁

By forming at least bilirubin or a bilirubin derivative into a photosensitive thin film, the solubility of the exposed portion of the thin film in water or an alkali solution is increased, without particularly requiring a conventional photoinitiator for generating a high-reactivity radical, acid or base in the thin film, whereby pattern formation is allowed.例文帳に追加

少なくとも、ビリルビンまたはビリルビン誘導体を感光性薄膜とすることで、薄膜中に従来技術のような反応性の高いラジカルや酸、塩基など発生する光開始剤を特に必要とせず、水またはアルカリ溶液によって露光した部分の溶解性が向上し、パターン形成が可能となる。 - 特許庁

The ceramic compact of this invention is calcined after ink for conductor pattern formation containing metal particles is imparted, used in manufacturing of the wiring board, constituted of a material containing a ceramic material and a binder, and contains a condensate of polyalcohol at least at a part near a surface.例文帳に追加

本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に多価アルコールの縮合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

The ceramics molding is sintered after application of a metal-particle-containing conductor pattern formation ink, is used to manufacture the wiring substrate, includes a material containing a ceramics material and a binder and includes a dispersibility reducing agent at least in a part in the vicinity of its surface.例文帳に追加

本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に分散性低下剤を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This layer 13 is exposed to light with the specified pattern and developed, and the part corresponding to the part where barrier ribs are to be formed is removed, and thereby grooves for barrier rib formation 13a and cell forming parts 13b are formed, and the surface of the cell forming parts 13b and the inside of the grooves 13a are covered with die releasing films.例文帳に追加

次に感光性材料層１３を所定のパターンで露光した後に現像して隔壁形成予定部に対応する部分を除去することにより、隔壁形成用溝１３ａ及びセル形成部１３ｂを形成し、セル形成部１３ｂの表面及び隔壁形成用溝１３ａの内部を離型膜にて被覆する。 - 特許庁

After all, for having the low absorption capacity and the high acid initiator efficiency in an ultraviolet region, even if the subject photo-acid initiator ≥10 pts.mass is added to a photosensitive polyimide precursor composition, lowering permeability of the whole composition is not great, resultingly, even a film having a thickness of ≥10 μm, the pattern formation of a high resolution can be stably formed.例文帳に追加

結局、紫外線領域で吸収度が低く酸発生効率が高いため、感光性ポリイミド前駆体組成物に１０質量部以上多量添加しても全体組成物の透過度低下が大きくなく、結果的に１０μｍ以上の高いフィルム厚さでも高解像度のパタン形成が安定的に形成できる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin compsn. for color filters which does not deteriorate the performance of the performance of the color filters and capable of decreasing the quantity of exposure and improving working efficiency at the time of pattern formation at the time of producing the color filters using a photolithography method and a process for producing the color filters using the same.例文帳に追加

本発明の課題はフォトリソグラフィー法を用いたカラーフィルターの製造にあたり、本来の目的である色フィルターの性能を劣化せず、パターン形成時の露光量を低下し、作業効率の向上できるカラーフィルター用感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, when drawing processing is completed and printing start request is made to an engine part 108, start of the image formation process of MYK of a plane of color where drawing point discrimination is performed and a plane of a color used by the stamp pattern is performed by the engine part 108, synchronized with the imaging process operation of the engine part 108, and the data are printed and outputted.例文帳に追加

そして、描画処理が完了し、エンジン部１０８に印刷起動を行う際、描画点判別された色のプレーンとスタンプパターンが使用する色のプレーンのＭＹＫの作像プロセス起動をエンジン部１０８で行い、エンジン部１０８の作像プロセス動作に同期させて印刷出力する。 - 特許庁

To provide a game machine capable of enhancing the interest of a player to the game easily by recognizing a specified pattern at a specified position as a 'ready-to-win' state and by complicatedly raising the expectation to the winning flag formation step by step.例文帳に追加

特定図柄の特定の停止位置での停止を、いわゆるリーチ目として、容易に認識することができ、また、入賞フラグ成立の報知手段として、複雑且つ段階的に入賞フラグ成立への期待感を高揚させることができて、遊技を面白く興味溢れるものにすることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic powder-containing composition capable of producing a transfer film excellent in flexibility of a film forming material layer and transferability (heat adhesiveness of the film forming material layer to a glass substrate), a transfer film and a method for producing a plasma display panel which allows formation of a pattern having high dimensional accuracy and excels in work efficiency.例文帳に追加

膜形成材料層の可撓性、転写性（ガラス基板に対する膜形成材料層の加熱接着性）に優れた転写フィルムを製造することのできる無機粉体含有組成物および転写フィルム、並びに寸法精度が高いパターンを形成でき、作業性に優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition which allows formation of an optical functional sheet having a fine pattern and can sufficiently satisfy adhesion with a sheet substrate, mold-release properties with a die, surface hardness of a processed layer, and flexibility/scratch resistance of a sheet, and to provide the optical functional sheet.例文帳に追加

本発明は、微細なパターンを有する光学機能性シートを形成可能とし、シート基材との密着性、金型との離型性、加工層の表面硬度とシートの柔軟性・耐擦傷性を十分に満足できる光硬化性樹脂組成物および光学機能性シートを提供せんとするものである。 - 特許庁