「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

In the apparatus, the most appropriate concentration control can always be carried out by setting the value of transfer bias applied when transferring a test pattern formed on the photoreceptor drum 4 to transfer material P by a transfer charging blade 8 to be a higher value than when transferring in a normal image formation.例文帳に追加

感光ドラム４上に形成されたテストパターンを転写帯電ブレード８によって転写材Ｐ上に転写する際に印加する転写バイアスの値を、通常の画像形成時における転写時よりも高い値とすることにより、常に最適な濃度制御を行うことができる。 - 特許庁

A coating material is applied to an object X to be decorated by a coating head 24 and laser beam L1 is radiated from the opposite side through the object X to be decorated to make formation of a decoration pattern possible without being influenced by the color and the thickness of the coating material.例文帳に追加

装飾対象物Ｘに対して、塗布ヘッド２４から塗料を塗布するとともに、反対側から装飾対象物Ｘを透過させてレーザ光Ｌ１を照射することにより、塗料の色や厚さの影響を受けずに装飾体パターンを形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a formation method of a circuit material which is excellent in workability and enables a bus bar to be readily and surely stuck to a portion of a copper foil pattern of a printed substrate, requiring increase of an allowable current amount and furthermore does not require special resist treatment for the bus bar.例文帳に追加

プリント基板の銅箔パターンのうち許容電流量を増加する必要がある部分に、バスバーを容易にかつ確実に貼り付けることができ、さらに、前記バスバーに別途レジスト処理を施す必要もない作業性に優れた回路材の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.例文帳に追加

純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the insulated gate-type semiconductor device has steps of: forming a gate insulating film on a semiconductor substrate; carrying out the film formation of the tantalum carbide film on the gate insulating film; and performing hydrogen plasma treatment after forming a mask pattern having an aperture for exposing a part of the tantalum carbide film.例文帳に追加

半導体基板上にゲート絶縁膜を形成する工程と、前記ゲート絶縁膜上に炭化タンタル膜を成膜する工程と、前記炭化タンタル膜の一部を露出する開口を有するマスクパターンを形成したのち、水素プラズマ処理を行う工程とを設ける。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for thick-film resist film formation, capable of reducing viscosity and forming a thick-film resist film of 1-15 μm film thickness, having proper in-plane uniformity of film thickness, and to provide a thick-film resist laminate and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

低粘度化が可能であり、かつ膜厚面内均一性の良好な膜厚１〜１５μｍの厚膜レジスト膜を形成できる厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、当該ポジ型レジスト組成物を用いた厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The multi-layered printed wiring board (1) is formed by laminating an internal layer circuit board (4) between two outermost layer copper foils across prepregs in one body, the multi-layered printed wiring board having a closed circuit as a test pattern (6) outside a circuit formation region (5) of the inner circuit board (4).例文帳に追加

二枚の最外層銅箔の間に、プリプレグを介して内層回路基板（4）が積層一体化されてなる多層プリント配線板（1）であって、内層回路基板（4）の回路形成領域（5）外に、テストパターン（6）としての閉回路を有することを特徴とする多層プリント配線板とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus independently including a black image forming section and color image forming sections, the image forming apparatus extending the life of a color photoreceptor by application of a lubricant thereto, allowing black toner to be recyclable, and preventing defects in image formation such as a void in an image detection pattern and deterioration in transfer ratio.例文帳に追加

黒の作像部がカラーの作像部と独立している画像形成装置において、潤滑剤塗布によるカラー感光体の長寿命化と、黒トナーのリサイクルを図り、また画像検知パターンの中抜け、転写率低下などの作像の不具合を防止する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a black curable composition for a wafer-level lens that forms a cured film with excellent light shielding properties and exhibiting excellent sensitiveness necessary for curing in pattern formation, and an easy-to-produce wafer-level lens with light quantity properly adjusted by the presence of a light shielding film.例文帳に追加

遮光性に優れた硬化膜を形成することができ、パターン形成時の硬化に必要な感度に優れたウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物を提供し、遮光膜の存在により光量が適切に調整され、簡易に製造しうるウエハレベルレンズを提供する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board capable of totally confirming misalignment between via holes and wiring patterns immediately after wiring pattern formation of the printed wiring board, and taking corrective action by discovering failures in the early stage to feed back the failures to a process in the case of continuous defects; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

プリント配線板の配線パターン形成直後に、バイアホールと配線パターン間の位置ズレを全数確認することが可能で、異常を早期発見して連続不良の場合には工程にフィードバックし、是正処置を取ることができるプリント配線板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a control and management program for a caisson excavator capable of easily varying and setting image formation and display for management of excavation, functions to prevent contact during operation of plural machines, and the pattern of excavator speeds, in addition to setting caisson shapes, cutting-edge ceiling corner shapes, shaft position and rail shapes.例文帳に追加

ケーソン形状、刃口天井コーナ形状、シャフト位置、レール形状の他、掘削管理用画像製作および表示、複数台稼働時の接触防止機能、掘削機速度パターンの設定などを容易に変更、設定できるケーソン掘削機の制御、管理プログラムを提供すること。 - 特許庁

A testing circuit to determine whether the mask that has been used to from the source/drain and gate electrode of a transistor, contact and wiring of each layer thereof is correct or not is formed within a chip or in the scribe region, and this circuit is then coupled with formation of the pattern of mask used.例文帳に追加

トランジスタのソース・ドレイン、ゲート電極とその上各層のコンタクトと配線を形成する際に使用したマスクが正しい物か否かを判定する為の試験回路をチップ内又はスクライブ領域に形成しておき、この回路を使用マスクのパターン形成により連結される。 - 特許庁

In the method of manufacturing a top contact type field effect transistor 10 of this embodiment, after a protection layer 22 is formed on an active layer 18 formed in a semiconductor layer formation step, a photoresist film is formed on the protection layer 22 and it is exposed to a pattern shape in an exposure step.例文帳に追加

本実施の形態のトップコンタクト型の電界効果型トランジスタ１０の製造方法によれば、半導体層形成工程で形成した活性層１８上に、防護層２２を形成した後に、該防護層２２上にフォトレジスト膜を形成して露光工程においてパターン状に露光する。 - 特許庁

A contact probe 13 is arranged corresponding to an arrangement pattern of a test pad 11 provided in a circuit formation domain 5a which is an inspection object on the upper surface of a holder substrate 15 provided on this contact unit 2, and an inspection probe group 14a-14d is arranged corresponding to dummy pads 7a-7d.例文帳に追加

コンタクトユニット２に備わるホルダ基板１５の上面には、検査対象たる回路形成領域５ａに備わるテストパッド１１の配置パターンに対応してコンタクトプローブ１３が配置されると共に、ダミーパッド７ａ〜７ｄに対応して、検出プローブ群１４ａ〜１４ｄが配置される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which maintains a sufficient transparency, solvent resistance and adhesion and is provided with a required resolving power and storage stability even when it is submitted to a high-temperature treatment after formation of a pattern of an inter-laminar insulating film or a microlens, and an interlaminar insulating film and a microlens prepared therefrom.例文帳に追加

層間絶縁膜マイクロレンズパターンの形成後、高温処理を施しても、十分な透明性、耐溶剤性、密着性を維持し、かつ必要な解像度、保存安定性を具備した感放射線性樹脂組成物、およびそれから得られる層間絶縁膜、マイクロレンズを提供する。 - 特許庁

This game machine is provided with reels 3L, 3C, 3R for fluctuating and displaying a pattern required for a game, a CPU 31 for determining internal winning role, and a RAM 33 for storing information related to bonus based on the results of determination of CPU 31 and formation of winning of bonus or not.例文帳に追加

遊技機は、遊技に必要な図柄を変動表示するリール（３Ｌ，３Ｃ，３Ｒ）と、内部当選役を決定するＣＰＵ（３１）と、ＣＰＵ（３１）の決定結果及びボーナスの入賞の成否に基づいて、ボーナスに関連する情報を記憶するＲＡＭ（３３）とを備える。 - 特許庁

The upper layer after the pattern formation is used as a mask for the optical ozone ashing of the lower layer and then a peeling process for the upper layer, a conductive film forming process, an electroforming process, a peeling process for an electroformed film (stamper layer 12), and a specific postprocess for the electroformed film are carried out to obtain a desired original disk.例文帳に追加

パターン形成後の上層をマスクとして下層を光オゾンアッシングし、その後、上層の剥離工程、導電膜形成工程、電鋳工程、電鋳膜（スタンパ層１２）の剥離工程および、この電鋳膜に対する所定の後処理工程を経て所望の原盤を得る。 - 特許庁

To overcome the problem of a prior art such that the reaction product of the atom of a metal film and the gas of dry etching is generated for preventing the patterning of the insulating film in a termination process when the insulating film on the metal film is subjected to dry etching by a mask made of a photosensitive resin that is subjected to pattern formation.例文帳に追加

金属膜上の絶縁膜を、パターン形成された感光性樹脂のマスクでのドライエッチングを行うと、終端工程で、上記金属膜の原子と上記ドライエッチングのガスとの反応生成物が生成され、上記絶縁膜のパターン化の支障になる。 - 特許庁

A substrate of this invention is a substrate for thin film pattern formation in which banks are provided on its substrate and liquid thin film material is filled between the banks by the ink jet method or the like, and the bank is a one on which ruggedness processing is applied to at least a part of the surface of a side wall face or the like.例文帳に追加

基板上にバンクが設けられ、バンク間にインクジェット法等により液状の薄膜材料が充填される薄膜パターン形成用基板であって、上記バンクは、側壁面等の表面の少なくとも一部に凹凸加工が施されたものである薄膜パターン形成用基板である。 - 特許庁

To obtain a metal-polishing liquid which can express a high polishing rate ration (Ta/Cu, TaN/Cu) of tantalum, tantalum nitride and copper, enables high flattening and dishing quantity reduction, and enables the formation of a highly reliable metal film embedded pattern, and to provide a method for polishing with the metal-polishing liquid.例文帳に追加

タンタル、窒化タンタルと銅の高い研磨速度比（Ｔａ／Ｃｕ、ＴａＮ／Ｃｕ）を発現し、高平坦化及びディッシング量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which has such properties as high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, and which is for use in formation of a planarizing film for a TFT substrate or an interlayer insulation film having a pattern of good resolution or a core or cladding material of an optical waveguide.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁

To provide a defect inspection method discovering early a VA pattern formation defective substrate by detecting a partial VA deficiency of VA having a line width of 5-10 μm, and improving a line production efficiency, and also to provide a defect inspection device to which the defect inspection method is adapted.例文帳に追加

線幅５μｍ〜１０μｍのＶＡの、部分ＶＡ欠損を検出することで、ＶＡパターン形成不良基板を早期に発見し、ラインの生産効率を向上させることが可能な欠陥検査方法、および、この欠陥検査方法を適応した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

In the method for formation of wiring structure, a first organic matter-bearing silicon oxide film 303, an SOG film 304 having a low specific inductive capacity, and a second organic matter-containing silicon oxide film 305 are sequentially deposited on a semiconductor substrate 300, and then, a mask pattern 308 is formed on the silicon oxide film 305.例文帳に追加

半導体基板３００上に、第１の有機含有シリコン酸化膜３０３、低誘電率ＳＯＧ膜３０４及び第２の有機含有シリコン酸化膜３０５を順次堆積した後、第２の有機含有シリコン酸化膜３０５の上にマスクパターン３０８を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing wiring that suppresses an increase in resistance of a Cu wiring pattern due to diffusion of Mn when a Cu-Mn alloy is combined with a bimetal film to make a self-repair of a defect and improve adhesiveness during formation of a Cu wiring structure by a damascene method.例文帳に追加

ダマシン法によるＣｕ配線構造の形成において、Ｃｕ−Ｍｎ合金をバリアメタル膜に組み合わせて欠陥の自己修復および密着性の向上を図る際に、Ｍｎの拡散によるＣｕ配線パターンの抵抗増加を抑制する配線の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the image formation apparatus which forms and outputs image information as visible images to papers, a synthesizing means 3 is set for superposing a predetermined pattern image on original image information to an entire paper face in the case where the paper is outputted in a state with visual images being formed to both of front and rear faces of the paper.例文帳に追加

画像情報を用紙に可視画像として形成出力する画像形成装置において、用紙の表裏両面に可視画像が形成された状態で出力される場合、本来の画像情報に、所定パターン画像を用紙全面重畳する合成手段３を備えた。 - 特許庁

To provide a game machine sufficiently enhancing expectation of a player by easily grasping the approach to a presence position of a final stop pattern forming a big win symbol combination and an effective line through a visual performance and an acoustic performance in a formation of a ready-to-win.例文帳に追加

リーチ形成時における視覚的演出及び聴覚的演出を通じて、大当りの図柄組み合わせを形成し得る最終停止図柄の存在位置及び有効ラインへの接近を容易に把握でき、遊技者の期待感を十分に高めることができる遊技機の提供。 - 特許庁

To provide a green photosensitive coloring composition for a color filter having high luminance, enabling suppression of brightness reduction in color filter formation process, being excellent in heat resistance and allowing a good pattern shape of a filter segment; and a color filter using this, which has high luminance and high definition.例文帳に追加

高輝度であって、カラーフィルタの形成工程においても明度の低下を抑制することができ、耐熱性に優れ、フィルタセグメントのパターン形状についても良好なカラーフィルタ用緑色感光性着色組成物、及びこれを用いた高輝度及び高精細のカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a film by a photo-electrodeposition method or a photocatalyst method, by which the film having uniform film thickness and excellent pattern can be formed by uniformizing the concentration of hydrogen ions in the vicinity of the surface of a substrate for film formation when the film is formed, and to provide an apparatus for forming the film.例文帳に追加

光電着法または光触媒法を用いた膜形成において、膜形成する基板表面近傍の水素イオン濃度を均一にすることにより、膜厚が均一な優れたパターン成膜が可能な膜形成方法および膜形成装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain a pattern data forming method which is capable of relieving an increase in the data capacity of drawing data occurring in the generation of OPC patterns in formation of electron beam drawing data of a reticle, an increase in data handling time by accompanying the same, and an increase in the load on production resources and a drawing method for reticle.例文帳に追加

本発明は、レチクルの電子ビーム描画データの作成において、ＯＰＣパターンの発生に起因する描画データのデータ容量増加、これに伴うデータハンドリング時間の増加、および生産資源に対する負荷の増加を緩和できるパターンデータ作成方法およびレチクルの描画方法を得る。 - 特許庁

To provide a formation capable of visualizing brilliance of a light reflection layer and visualizing an OVD (optical variable device) image in particular when the light reflection layer is an OVD, under reflection light and capable of visualizing another latent image pattern under transmission light.例文帳に追加

反射光下においては、光反射層の光沢を視認することができ、特に光反射層がＯＶＤの場合には、ＯＶＤ画像を視認することができ、透過光下においては別の潜像模様を視認することができる形成体を提案することを目的とする。 - 特許庁

The screen is formed to a sheet shape by weaving formation of roughly woven portions 4 of a knot inserted to a rod-shaped bodies 3 and 8 or a rope-shaped body 10 are formed to a plurality of places at predetermined intervals so as to be united into a pattern made by the weaving of the sunshade sheet 2.例文帳に追加

織編成によりシート状に形成するとともに、棒状体３，８あるいは紐状体１０を挿通する目合の大きい粗織り部４…を、当該日除けシートの織成による模様に融合するように、所定の間隔で複数箇所に形成した日除けシート２。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head by which defects of exfoliation, loss or the like of a metal film are eliminated, and microfabrication is attained without an increase of its dimension and satisfactory characteristics, quality and a yield are achieved in the formation of the metal film onto a pattern opening part of insulation films on a substrate.例文帳に追加

基板上の絶縁膜のパターン開口部への金属膜の形成にあたり、金属膜の剥離や消失などの不良を無くすことができ、寸法の拡大もなく微細化が可能で、特性、品質、歩留まりの良い薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a barrier rib for a flat display, wherein the light exposure margin where problems such as meandering and/or peeling, pattern thickening and/or residual film formation do not occur can be enlarged when forming the barrier rib for the flat display with high definition and high aspect ratio, and wherein the increase of a required light exposure is small.例文帳に追加

高精細かつ高アスペクト比の平面ディスプレイ用隔壁を形成する際に、蛇行や剥がれ、パターン太りや残膜形成といった問題が発生しない露光量マージンを拡大でき、かつ必要露光量の増大が少ない平面ディスプレイ用隔壁の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a top layer film forming composition for forming a top layer film that hardly causes intermixing with a photoresist film, keeps a stable film state hardly eluting in an immersion liquid, can suppress generation of a development peeling defect, and allows formation of a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングが生じ難く、液浸液に溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するための上層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern precision and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayer dielectric or the like for a printed wiring board and an IC package and to provide a sensitive film using the resin composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner for controlling the image formation characteristic variation of a projection optical system due to exposure heat within an allowable value, and for easily obtaining a pattern with high resolution without extremely deteriorating productivity, and to provide a method for manufacturing a device by using this.例文帳に追加

本発明は、露光熱による投影光学系の結像特性変動が許容値を越えないように制御し、生産性を著しく低下させることなく高解像度のパターンが容易に得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

In order to form a sintered material of uniform thickness on a substrate which has irregularity of thickness, a resin under coating layer, which disappears without a harmful influence when it is burned, is formed on the substrate and plane polished before the formation of a desired paste layer or a pattern for baking.例文帳に追加

厚さムラがある基板の上に均一な厚さの焼成物を形成する方法として、焼成時に悪影響なしに消滅する樹脂を基板の上に下引き層として形成し、それを平面研磨した後に、所望の焼成用ペースト層やパターンを形成する。 - 特許庁

The pattern formation method includes a step(a) of forming a resist film on a substrate, a pre-wet step(b) of putting prewet liquid on the resist film and removing the pulley wet liquid, after a certain period of time, and a step(c) of exposing onto the resist film on the substrate via the immersion liquid.例文帳に追加

基板上にレジスト膜を形成する工程（ａ）、該レジスト膜上にプリウェット液を盛り、一定時間後、そのプリウェット液を除去するプリウェット工程（ｂ）、基板上のレジスト膜に液浸液を介して露光する工程（ｃ）を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a letterpress for pattern formation, which has at least resin-made projection portions and a base for supporting the projection portions, such that water-insoluble solvent ink and water ink can be printed with the same resin plate material and impurity leakage from the resin plate material to an organic layer is prevented.例文帳に追加

少なくとも樹脂製凸部及び該凸部を支持する基材を有するパターン形成用凸版において、これを有機ＥＬ素子に適用する場合、非水溶系溶剤インキと水性インキを同一の樹脂版材で印刷可能とし、樹脂版材から有機層への不純物漏出を防止する。 - 特許庁

To provide an acid-unstable group effective for a fluorine-containing compound; a fluorine-containing compound, a fluorine-containing polymerizable monomer, and a fluorine-containing polymer compound, all of them having an acid-unstable group or groups with high transparency and etching resistance; a photoresist using them; and a pattern formation method.例文帳に追加

含フッ素化合物にとって効果的な酸不安定基を提供し、さらに酸不安定基自体に高い透明性、エッチング耐性を持たせた含フッ素化合物、重合性単量体、高分子化合物、又はそれらを用いたフォトレジスト及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist material characterized by having high sensitivity and high resolution equivalent to or higher than those of a conventional positive type resist material, alleviating the formation of standing waves because of the good pattern shape on especially a high-reflecting substrate, and therefore causing reduced edge roughness.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料と同等か若しくはこれを上回るほど高感度、高解像度であるとともに、特に高反射基板上でのパターン形状が良好で、定在波の発生が軽減され、エッジラフネスが少ない特性を示すポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

Removal of a mask in a region to form the semiconductor element and removal of a sacrifice layer and the mask in the region to form the micro structure are carried out in the same process by forming the sacrifice layer by using a mask material to carry out pattern formation of a film in manufacturing the micro machine.例文帳に追加

マイクロマシンの作製に際して、膜のパターン形成を行うためのマスク材料を用いて犠牲層を形成し、半導体素子を形成する領域におけるマスクの除去と、微小構造体を形成する領域における犠牲層とマスクの除去を同一の工程にて行う。 - 特許庁

Because of formation of the both face, connection wiring pattern 223, a break can be prevented in the vicinity of the through-hole bottom part 1131, and the wire 221 can be easily led out of the circumference of the through-hole bottom part 1131, consequently, a resistance value of the wire can be lowered.例文帳に追加

この両面接続用配線パターン２２３の形成により、貫通孔底部１１３１近辺においての断線を抑制することができ、かつ貫通孔底部１３１周囲からの配線２２１の引き出しが容易となり、配線の抵抗値を低減することが可能となる。 - 特許庁

Next, when the target threshold is stored in one blank storage element, a dot shape to be actually formed is assumed on the basis of a dot formation pattern expressed by the arrangement of storage elements in which the threshold has been already stored, and a coverage C is calculated for each of the blank storage elements.例文帳に追加

次に、空白格納要素の１つに対して着目閾値を格納したとした場合に、閾値が既に格納された格納要素の配置が表すドットの形成パターンに基づいて、実際に形成されるドット形状を想定し、空白格納要素の各々について、被覆率Ｃを算出する。 - 特許庁

The image of a display pattern generator 102 is optically reduced and projected to the spatial optical modulator 101 having optical sensitivity by a multi-lens image-formation optical system 103, and a phase or amplitude distribution corresponding to a projected image group 104 is formed on an electrooptical medium.例文帳に追加

光感度を有する空間光変調器１０１に表示パターン発生器１０２の画像が多眼結像光学系１０３によって光学的に縮小投影され、この投影画像群１０４に対応した位相あるいは振幅分布が電気光学媒体に形成される。 - 特許庁