「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

A contact probe 13 is arranged corresponding to an arrangement pattern of a test pad 11 provided in a circuit formation domain 5a which is an inspection object on the upper surface of a holder substrate 15 provided on this contact unit 2, and an inspection probe group 14a-14d is arranged corresponding to dummy pads 7a-7d.例文帳に追加

コンタクトユニット２に備わるホルダ基板１５の上面には、検査対象たる回路形成領域５ａに備わるテストパッド１１の配置パターンに対応してコンタクトプローブ１３が配置されると共に、ダミーパッド７ａ〜７ｄに対応して、検出プローブ群１４ａ〜１４ｄが配置される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which maintains a sufficient transparency, solvent resistance and adhesion and is provided with a required resolving power and storage stability even when it is submitted to a high-temperature treatment after formation of a pattern of an inter-laminar insulating film or a microlens, and an interlaminar insulating film and a microlens prepared therefrom.例文帳に追加

層間絶縁膜マイクロレンズパターンの形成後、高温処理を施しても、十分な透明性、耐溶剤性、密着性を維持し、かつ必要な解像度、保存安定性を具備した感放射線性樹脂組成物、およびそれから得られる層間絶縁膜、マイクロレンズを提供する。 - 特許庁

To obtain a metal-polishing liquid which can express a high polishing rate ration (Ta/Cu, TaN/Cu) of tantalum, tantalum nitride and copper, enables high flattening and dishing quantity reduction, and enables the formation of a highly reliable metal film embedded pattern, and to provide a method for polishing with the metal-polishing liquid.例文帳に追加

タンタル、窒化タンタルと銅の高い研磨速度比（Ｔａ／Ｃｕ、ＴａＮ／Ｃｕ）を発現し、高平坦化及びディッシング量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which has such properties as high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, and which is for use in formation of a planarizing film for a TFT substrate or an interlayer insulation film having a pattern of good resolution or a core or cladding material of an optical waveguide.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁

To overcome the problem of a prior art such that the reaction product of the atom of a metal film and the gas of dry etching is generated for preventing the patterning of the insulating film in a termination process when the insulating film on the metal film is subjected to dry etching by a mask made of a photosensitive resin that is subjected to pattern formation.例文帳に追加

金属膜上の絶縁膜を、パターン形成された感光性樹脂のマスクでのドライエッチングを行うと、終端工程で、上記金属膜の原子と上記ドライエッチングのガスとの反応生成物が生成され、上記絶縁膜のパターン化の支障になる。 - 特許庁

A substrate of this invention is a substrate for thin film pattern formation in which banks are provided on its substrate and liquid thin film material is filled between the banks by the ink jet method or the like, and the bank is a one on which ruggedness processing is applied to at least a part of the surface of a side wall face or the like.例文帳に追加

基板上にバンクが設けられ、バンク間にインクジェット法等により液状の薄膜材料が充填される薄膜パターン形成用基板であって、上記バンクは、側壁面等の表面の少なくとも一部に凹凸加工が施されたものである薄膜パターン形成用基板である。 - 特許庁

The MOSFET is a non-punch-through type element, and the p-type body layer 3 has, at an end (channel formation region 3b or terminal region 5), a part having a longer trailing pattern of an p-type impurity concentration profile along the depth of the n-type drift layer 2 than a center part (body region 3a).例文帳に追加

当該ＭＯＳＦＥＴはノンノンパンチスルー型の素子であり、ｐ型ボディ層３は、端部（チャネル形成領域３ｂまたは終端領域５）に中央部（ボディ領域３ａ）よりもｐ型不純物濃度プロファイルのｎ型ドリフト層２の深さ方向への裾引きが長い部分を有する。 - 特許庁

To provide a composition for the formation of an inorganic antireflection film with which an antireflection film having a high antireflection effect even in a rather thin film and having excellent adhesion property and sticking property with a resist film can be formed and a resist pattern having excellent resolution and accuracy can be formed.例文帳に追加

簡便な方法により、比較的薄膜でも反射防止効果が高く、かつレジスト膜との接着性、密着性に優れる反射防止膜を形成でき、しかも解像度、精度に優れるレジストパタ—ンを形成できる無機系反射防止膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

Electrode paste, whose binder is a resin with a thermosetting temperature lower than a thermosetting temperature of binder resin of the resistor layer 21 and a glass transition temperature, is subjected to pattern formation in the surface of the resistor layer 21 and the resin is thermally set, thus forming an electrode layer 22.例文帳に追加

次に前記抵抗体層２１のバインダー樹脂の熱硬化温度およびガラス転移温度よりも低い熱硬化温度を有する樹脂をバインダーとした電極ペーストを、前記抵抗体層２１の表面にパターン形成し、前記樹脂を熱硬化させて電極層２２を形成する。 - 特許庁

The ceramic molding is formed by imparting an ink for formation of a conductor pattern containing metal particles and then sintering and used in manufacture of wiring boards.例文帳に追加

本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に多価アルコールを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A spiral pattern is considered to be a localized amorphous region generated upon spin doping of the catalytic element solution due to insufficient formation of an extremely thin silicon oxide film during the ozone water treatment step.例文帳に追加

上記渦状の模様は、オゾン水処理工程の極薄シリコン酸化膜の成膜不足により、触媒元素溶液のスピン添加処理の際に、局部的に撥水現象が生じ、触媒元素が均一に添加されない為、局部的非晶質領域が発生したものと考えられる。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a lift-off process which facilitates resist stripping by ozone water without using an organic solvent and facilitates formation of a wiring pattern with high processability and reliability by a lift-off process, for example, on a semiconductor substrate or a liquid crystal substrate.例文帳に追加

有機溶媒を使用することなくオゾン水によりレジスト剥離を容易に行うことができ、例えば半導体用基板や液晶用基板上に、リフトオフ法により加工性および信頼性の高い配線パターンを形成することを可能とするリフトオフ用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The apparatus for pattern formation keeps the carriage 20 equipped with a first semiconductor laser LD1 emitting a first irradiation light Le1 of a wavelength having a high absorptivity to a metal ink F and a second semiconductor laser LD2 emitting a second irradiation light Le2 of a wavelength having a low absorptivity to the metal ink F.例文帳に追加

金属インクＦに対して吸収率が高い波長の第１照射光Ｌｅ１を出射する第１半導体レーザＬＤ１と、金属インクＦに対して吸収率が低い波長の第２照射光Ｌｅ２を出射する第２半導体レーザＬＤ２をキャリッジ２０に備えた。 - 特許庁

The delay time for the data formation time occurring before the pattern to be exposed is obtained on the sample is calculated for each of a predetermined plurality of scanning directions X and Y, and the scanning direction having the shorter delay time is selected as the scanning direction in that case.例文帳に追加

その場合の走査方向として、前記露光すべきパターンが前記試料上に得られるまでに発生するデータ生成時間のための遅延時間を、予め定められた複数の走査方向Ｘ、Ｙ毎に算定し、算定された遅延時間がより短い走査方向を選択する。 - 特許庁

In the method for formation of wiring structure, a first organic matter-bearing silicon oxide film 303, an SOG film 304 having a low specific inductive capacity, and a second organic matter-containing silicon oxide film 305 are sequentially deposited on a semiconductor substrate 300, and then, a mask pattern 308 is formed on the silicon oxide film 305.例文帳に追加

半導体基板３００上に、第１の有機含有シリコン酸化膜３０３、低誘電率ＳＯＧ膜３０４及び第２の有機含有シリコン酸化膜３０５を順次堆積した後、第２の有機含有シリコン酸化膜３０５の上にマスクパターン３０８を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing wiring that suppresses an increase in resistance of a Cu wiring pattern due to diffusion of Mn when a Cu-Mn alloy is combined with a bimetal film to make a self-repair of a defect and improve adhesiveness during formation of a Cu wiring structure by a damascene method.例文帳に追加

ダマシン法によるＣｕ配線構造の形成において、Ｃｕ−Ｍｎ合金をバリアメタル膜に組み合わせて欠陥の自己修復および密着性の向上を図る際に、Ｍｎの拡散によるＣｕ配線パターンの抵抗増加を抑制する配線の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for thick-film resist film formation, capable of reducing viscosity and forming a thick-film resist film of 1-15 μm film thickness, having proper in-plane uniformity of film thickness, and to provide a thick-film resist laminate and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

低粘度化が可能であり、かつ膜厚面内均一性の良好な膜厚１〜１５μｍの厚膜レジスト膜を形成できる厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、当該ポジ型レジスト組成物を用いた厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method discovering early a VA pattern formation defective substrate by detecting a partial VA deficiency of VA having a line width of 5-10 μm, and improving a line production efficiency, and also to provide a defect inspection device to which the defect inspection method is adapted.例文帳に追加

線幅５μｍ〜１０μｍのＶＡの、部分ＶＡ欠損を検出することで、ＶＡパターン形成不良基板を早期に発見し、ラインの生産効率を向上させることが可能な欠陥検査方法、および、この欠陥検査方法を適応した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine sufficiently enhancing expectation of a player by easily grasping the approach to a presence position of a final stop pattern forming a big win symbol combination and an effective line through a visual performance and an acoustic performance in a formation of a ready-to-win.例文帳に追加

リーチ形成時における視覚的演出及び聴覚的演出を通じて、大当りの図柄組み合わせを形成し得る最終停止図柄の存在位置及び有効ラインへの接近を容易に把握でき、遊技者の期待感を十分に高めることができる遊技機の提供。 - 特許庁

In the image formation apparatus which forms and outputs image information as visible images to papers, a synthesizing means 3 is set for superposing a predetermined pattern image on original image information to an entire paper face in the case where the paper is outputted in a state with visual images being formed to both of front and rear faces of the paper.例文帳に追加

画像情報を用紙に可視画像として形成出力する画像形成装置において、用紙の表裏両面に可視画像が形成された状態で出力される場合、本来の画像情報に、所定パターン画像を用紙全面重畳する合成手段３を備えた。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head by which defects of exfoliation, loss or the like of a metal film are eliminated, and microfabrication is attained without an increase of its dimension and satisfactory characteristics, quality and a yield are achieved in the formation of the metal film onto a pattern opening part of insulation films on a substrate.例文帳に追加

基板上の絶縁膜のパターン開口部への金属膜の形成にあたり、金属膜の剥離や消失などの不良を無くすことができ、寸法の拡大もなく微細化が可能で、特性、品質、歩留まりの良い薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation capable of visualizing brilliance of a light reflection layer and visualizing an OVD (optical variable device) image in particular when the light reflection layer is an OVD, under reflection light and capable of visualizing another latent image pattern under transmission light.例文帳に追加

反射光下においては、光反射層の光沢を視認することができ、特に光反射層がＯＶＤの場合には、ＯＶＤ画像を視認することができ、透過光下においては別の潜像模様を視認することができる形成体を提案することを目的とする。 - 特許庁

To provide a top layer film forming composition for forming a top layer film that hardly causes intermixing with a photoresist film, keeps a stable film state hardly eluting in an immersion liquid, can suppress generation of a development peeling defect, and allows formation of a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングが生じ難く、液浸液に溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するための上層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

The screen is formed to a sheet shape by weaving formation of roughly woven portions 4 of a knot inserted to a rod-shaped bodies 3 and 8 or a rope-shaped body 10 are formed to a plurality of places at predetermined intervals so as to be united into a pattern made by the weaving of the sunshade sheet 2.例文帳に追加

織編成によりシート状に形成するとともに、棒状体３，８あるいは紐状体１０を挿通する目合の大きい粗織り部４…を、当該日除けシートの織成による模様に融合するように、所定の間隔で複数箇所に形成した日除けシート２。 - 特許庁

To obtain a pattern data forming method which is capable of relieving an increase in the data capacity of drawing data occurring in the generation of OPC patterns in formation of electron beam drawing data of a reticle, an increase in data handling time by accompanying the same, and an increase in the load on production resources and a drawing method for reticle.例文帳に追加

本発明は、レチクルの電子ビーム描画データの作成において、ＯＰＣパターンの発生に起因する描画データのデータ容量増加、これに伴うデータハンドリング時間の増加、および生産資源に対する負荷の増加を緩和できるパターンデータ作成方法およびレチクルの描画方法を得る。 - 特許庁

To provide a method of forming a film by a photo-electrodeposition method or a photocatalyst method, by which the film having uniform film thickness and excellent pattern can be formed by uniformizing the concentration of hydrogen ions in the vicinity of the surface of a substrate for film formation when the film is formed, and to provide an apparatus for forming the film.例文帳に追加

光電着法または光触媒法を用いた膜形成において、膜形成する基板表面近傍の水素イオン濃度を均一にすることにより、膜厚が均一な優れたパターン成膜が可能な膜形成方法および膜形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a green photosensitive coloring composition for a color filter having high luminance, enabling suppression of brightness reduction in color filter formation process, being excellent in heat resistance and allowing a good pattern shape of a filter segment; and a color filter using this, which has high luminance and high definition.例文帳に追加

高輝度であって、カラーフィルタの形成工程においても明度の低下を抑制することができ、耐熱性に優れ、フィルタセグメントのパターン形状についても良好なカラーフィルタ用緑色感光性着色組成物、及びこれを用いた高輝度及び高精細のカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant resin composition excellent in pattern precision and adhesion to a substrate, developable with water or a dilute alkali solution and suitable for use in the formation of a soldering resist, an interlayer dielectric or the like for a printed wiring board and an IC package and to provide a sensitive film using the resin composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

This can arrange the pair of pads 12a, 12b nearer to the end side of the board where the width of the solder resist is not sufficiently formed because pattern formation and the solder resist 11 are forbidden between the end of the board end side of the pair of pads 12a, 12b and the end 10e of the board.例文帳に追加

これにより一対のパッド１２ａ，１２ｂの板端側端部から板端１０ｅまでの間は、パターン形成およびソルダーレジスト１１が禁止されることから、一対のパッド１２ａ，１２ｂを板端側に十分なソルダーレジストの幅を形成できない板端側まで近付けて配置することができる。 - 特許庁

To solve a problem that the color blur can not be calculated correctly because of the influence of the remarkable image formation unevenness due to the reference color derivation when a registration pattern is read for measurement of the color deviation in an image forming device which is used as an output device of computer, etc.例文帳に追加

コンピュータ等の出力機器として使用される画像形成装置において、色ずれ量を検出するためのレジストレーションパターンを読み取る際に、基準色の画像形成むらが大きい場合、その影響によって正しく色ずれ量を換算できず色ずれ量演算が正確に行えない。 - 特許庁

To provide a composite resin molded product, which is suitable for obtaining a multilayer circuit board allowing formation of a high-density wiring pattern and excellent laser processed shapes, excellent in low linear expansion, flame retardancy, and surface smoothness of an insulating layer, and scarcely produces toxic substances in incineration, for an electrical insulating layer.例文帳に追加

高密度の配線パターンの形成が可能でレーザ加工形状が良好な多層配線板を得るのに好適で、低線膨張、難燃性及び絶縁層の平坦性に優れ、かつ、焼却時に有害物質をほとんど発生しない電気絶縁層用の複合樹脂成形体を提供する。 - 特許庁

An image processing section 40 of the image forming apparatus selects and reads outs any one among the threshold tables stored in the memory unit 20 according to the stored density pattern information and the screen processing is performed by using the read out threshold table, thereby correcting the density of the image formation.例文帳に追加

画像形成装置の画像処理部４０は、記憶された濃度パターン情報に応じて記憶部２０に記憶された閾値テーブルのうちいずれか一つを選択して読出し、読み出した閾値テーブルを用いてスクリーン処理を行うことによって画像形成の濃度を補正する。 - 特許庁

In the apparatus, the most appropriate concentration control can always be carried out by setting the value of transfer bias applied when transferring a test pattern formed on the photoreceptor drum 4 to transfer material P by a transfer charging blade 8 to be a higher value than when transferring in a normal image formation.例文帳に追加

感光ドラム４上に形成されたテストパターンを転写帯電ブレード８によって転写材Ｐ上に転写する際に印加する転写バイアスの値を、通常の画像形成時における転写時よりも高い値とすることにより、常に最適な濃度制御を行うことができる。 - 特許庁

A coating material is applied to an object X to be decorated by a coating head 24 and laser beam L1 is radiated from the opposite side through the object X to be decorated to make formation of a decoration pattern possible without being influenced by the color and the thickness of the coating material.例文帳に追加

装飾対象物Ｘに対して、塗布ヘッド２４から塗料を塗布するとともに、反対側から装飾対象物Ｘを透過させてレーザ光Ｌ１を照射することにより、塗料の色や厚さの影響を受けずに装飾体パターンを形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a formation method of a circuit material which is excellent in workability and enables a bus bar to be readily and surely stuck to a portion of a copper foil pattern of a printed substrate, requiring increase of an allowable current amount and furthermore does not require special resist treatment for the bus bar.例文帳に追加

プリント基板の銅箔パターンのうち許容電流量を増加する必要がある部分に、バスバーを容易にかつ確実に貼り付けることができ、さらに、前記バスバーに別途レジスト処理を施す必要もない作業性に優れた回路材の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.例文帳に追加

純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the insulated gate-type semiconductor device has steps of: forming a gate insulating film on a semiconductor substrate; carrying out the film formation of the tantalum carbide film on the gate insulating film; and performing hydrogen plasma treatment after forming a mask pattern having an aperture for exposing a part of the tantalum carbide film.例文帳に追加

半導体基板上にゲート絶縁膜を形成する工程と、前記ゲート絶縁膜上に炭化タンタル膜を成膜する工程と、前記炭化タンタル膜の一部を露出する開口を有するマスクパターンを形成したのち、水素プラズマ処理を行う工程とを設ける。 - 特許庁

The display pattern of the figures c being displayed as first and third figures 19 and 21 changes to that combining the design information z2 with identifying information y2('2') from that of the design information z2(the design of 'child of water') (Fig. 6(a)) almost simultaneously with the formation of a ready-for-winning state.例文帳に追加

リーチ状態が形成されると略同時に、第１，第３図柄１９，２１として表示されている図柄ｃの表示形態は、意匠情報ｚ２（「水の子」の意匠）のみの表示形態から、識別情報ｙ２（「２」）と意匠情報ｚ２が組み合わされた表示形態に変化する（図６（ａ））。 - 特許庁

When installing the dielectric body and barrier ribs on the glass board 12, the material of dielectric body is placed on the top layer of the electrode, and thereon the material for the barrier ribs is placed, and after formation of the barrier rib pattern, the material of dielectric body and the patterned material of the barrier ribs are subjected to a baking process simultaneously.例文帳に追加

他方の基板ガラス１２に、誘電体と隔壁と設けるに際し、電極の上層に誘電体材料を配置し、更に誘電体材料の上層に隔壁材料を配置し、隔壁パターン形成後、それら誘電体材料とパターン化した隔壁材料とを同時に焼成する。 - 特許庁

To provide a variable rigidity type dynamic vibration absorbing device, capable of solving the problem of a pattern formation phenomenon if any generated due to vibration of a contact roll system, for example, to which there is no fundamental measure of prevention at site, giving fatal damage to the product, or causing a situation of setting an upper limit of line speed.例文帳に追加

例えば、接触ロール系の振動により発生するパターン形成現象に対する現場の根本的な対策方法はなく、このパターン形成現象が発生した場合、製品に致命的なダメージを与たり、ライン速度の上限を設定せざるを得ない状況に陥る。 - 特許庁

The image of a display pattern generator 102 is optically reduced and projected to the spatial optical modulator 101 having optical sensitivity by a multi-lens image-formation optical system 103, and a phase or amplitude distribution corresponding to a projected image group 104 is formed on an electrooptical medium.例文帳に追加

光感度を有する空間光変調器１０１に表示パターン発生器１０２の画像が多眼結像光学系１０３によって光学的に縮小投影され、この投影画像群１０４に対応した位相あるいは振幅分布が電気光学媒体に形成される。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a board for treatment by allowing the surface of a flexible resin board to contact with an ozone solution, a step of subjecting the surface of the board to electroless deposition for the formation of an electroless plate coating on the surface, and a step of forming a wiring pattern on the electroless plate coating.例文帳に追加

フレキシブル樹脂基板の表面とオゾン溶液とを接触させて処理基板を形成する工程と、処理基板の表面を無電解めっき処理して無電解めっき被膜を形成する工程と、無電解めっき被膜上に配線パターンを形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The MOSFET is a punch-through type element, and the p-type body layer 3 has, at a center part (contact region 3c), a part having a longer trailing pattern of a p-type impurity concentration profile along the depth of the n-type drift layer 2 than an end (channel formation region 3b or terminal region 5).例文帳に追加

当該ＭＯＳＦＥＴはパンチスルー型の素子であり、ｐ型ボディ層３は、中央部（コンタクト領域３ｃ）に端部（チャネル形成領域３ｂまたは終端領域５）よりもｐ型不純物濃度プロファイルのｎ型ドリフト層２の深さ方向への裾引きが長い部分を有する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of surely connecting the divided patterns together, lessening a width change in a line at a joint between the transferred patterns, when the divided patterns are formed on a mask and then transferred to a resist for the formation of the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

分割されたパターンをマスク上に形成し、レジストに転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、分割されたパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a projection aligner for controlling the image formation characteristic variation of a projection optical system due to exposure heat within an allowable value, and for easily obtaining a pattern with high resolution without extremely deteriorating productivity, and to provide a method for manufacturing a device by using this.例文帳に追加

本発明は、露光熱による投影光学系の結像特性変動が許容値を越えないように制御し、生産性を著しく低下させることなく高解像度のパターンが容易に得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁