「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

As a master information carrier 3 on which a shape pattern corresponding to the digital information signal to be magnetically transferred and recorded to a magnetic recording medium 9, a master information carrier 3 is used which has a plurality of ferromagnetic thin-film pattern formation areas 2, etc., corresponding to information signals of the same specification arranged on the surface of the same nonmagnetic base 1.例文帳に追加

磁気記録媒体９に対して磁気転写記録すべきディジタル情報信号に対応する形状パターンが強磁性薄膜をもって形成されているマスター情報担体３について、同一の非磁性基体１の表面に同一仕様の情報信号対応の強磁性薄膜パターン形成領域２‥が複数個配置されているマスター情報担体３を用いる。 - 特許庁

To provide a resist material that has good barrier performance to water, enables to keep a resist composition from eluting to water, has a high receding contact angle to water, is useful for an immersion lithography due to excellent process applicability without requiring a protective film, and enables to form a fine pattern precisely, as well as to provide a pattern formation method using the material.例文帳に追加

水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト組成物の水への溶出を抑制でき、水に対して高い後退接触角を有し、保護膜を必要とせずに優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効で、微細なパターンを高精度で形成することができるレジスト材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.例文帳に追加

露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The recording device includes a beam deflection section for relatively moving an irradiation position of the exposure beam with respect to a substrate; a substrate velocity adjustment section for adjusting a moving velocity of the substrate according to roughness and fineness of the latent pattern; and a deflection control section for controlling to change a deflection velocity of the exposure beam during formation of the latent pattern according to the moving velocity of the substrate.例文帳に追加

基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 - 特許庁

To provide a lamp with double filament type in which, by suppressing that light emitted from a low beam filament for passing is reflected by inner lead wires supporting a high beam filament for driving, occurrence of irregular reflection light which does not contribute to formation of low beam light distribution pattern and gives an adverse effect is prevented, and thereby, an optimal light distribution pattern can be formed.例文帳に追加

ダブルフィラメントタイプの電球において、すれ違いビーム用フィラメントから放出された光が走行ビーム用フィラメントを支持する内部リード線で反射されるのを抑制することによって、すれ違い用配光パターンの形成に寄与せず、且つ有害な影響を与える乱反射光の発生を防止し、よって最適な配光パターンの形成が可能となるようにすること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.例文帳に追加

高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

A vehicular headlamp device includes: a lamp unit forming a light distribution pattern Hi for a high beam that includes an upper area above the cut-off line of a light distribution pattern Lo for a low beam and is divided into a plurality of individual patterns Hia-Hie; and a control unit controlling the formation of each of the individual patterns Hia-Hie according to the presence of the forward vehicle 400.例文帳に追加

車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンＬｏのカットオフラインから上方の領域を含むとともに複数の個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅに分割されたハイビーム用配光パターンＨｉを形成可能な灯具ユニットと、前方車両４００の存在に応じて各個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅの形成を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

This image forming device having a plurality of recording heads discharging liquid droplets includes: a formation part making each of the plurality of recording heads form an image pattern; a sensing part sensing the density of each image pattern; and a correction part correcting the density of the liquid droplets discharged from the plurality of the recording heads based on the sensed density of the image patterns.例文帳に追加

液滴を吐出する複数の記録ヘッドを有する画像形成装置において、前記複数の記録ヘッドそれぞれに画像パターンを形成させる形成部と、前記それぞれの画像パターンの濃度を検知する検知部と、前記検知された画像パターンの濃度に基づいて、前記複数の記録ヘッドが吐出する液滴の濃度を補正する補正部と、を有する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound which can constitute a photoresist composition having an excellent resolution, forming a fine pattern with a good rectangularity, obtaining favorable resist characteristics even when acid strength of an acid generated from an acid generator is weak, and having favorable sensitivity, the photoresist composition using the polymer compound and a resist pattern formation method using the photoresist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁

In such a state that the scanning length due to the laser beam of the other semiconductor laser corresponding to the correction condition while changing the correction condition, a pattern image for confirmation is outputted and a correction condition used at the time of usual formation of image can be selected and set from the correction conditions corresponding to the respective outputted confirming pattern images.例文帳に追加

また、補正条件を変えながらその補正条件に応じて他の半導体レーザのレーザ光による走査長が補正された状態で、確認用パターン画像を出力し、出力された各確認用パターン画像にそれぞれ対応する補正条件の中から、通常の画像形成時に使用される補正条件を選択して設定することが可能である。 - 特許庁

The evaluation method of the resist composition, which is used in the resist pattern forming method including a process of immersion exposure, includes forming of a resist film, selectively exposing, performing a treatment in which the resist film is brought into contact with a immersion solvent used in the process of immersion exposure, baking after exposure (PEB), developing, and evaluating the obtained resist pattern formation performance.例文帳に追加

浸漬露光する工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法であって、 レジスト膜を形成し、選択的露光し、前記レジスト膜に前記浸漬露光する工程に用いる浸漬溶媒を接触させる処理を行い、露光後加熱（ＰＥＢ）し、現像し、得られたレジストパターン形成性能を評価することを特徴とするレジスト組成物の評価方法。 - 特許庁

In the semiconductor device wherein an outside connection terminal 50 electrically connecting the electrode 12 of a semiconductor element through a wiring pattern 52 to the electrode formation face of the semiconductor element is formed, the outside connection terminal 50 is formed of a wire consisting of an electrically conductive material, and the bonding part side of the wire is provided to be buried in a metal layer forming the wiring pattern 52.例文帳に追加

半導体素子の電極形成面に、配線パターン５２を介して半導体素子の電極１２と電気的に接続する外部接続端子５０が形成された半導体装置において、前記外部接続端子５０が、導電材からなるワイヤにより形成され、該ワイヤのボンディング部側が前記配線パターン５０を形成する金属層に埋没して設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which reduces generation of development defects and scum and can form a pattern excellent in followability to immersion liquid during liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film formed from the composition, and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

An insulation resist membrane is formed on the substrate, the surface ionized array pattern is formed on the resist membrane by irradiating the resist membrane with an electron beam, the dipolar ionic liposome is coupled to the surface ionized array pattern by an electrostatic interaction, and the fellow individual liposomes are kept under an isolated condition by electrostatic repulsion to prevent membrane fusion, breakage and aggregate formation.例文帳に追加

基板上に絶縁性レジスト膜を形成し、このレジスト膜に電子ビーム照射により表面イオン化した配列パターンを形成し、この表面イオン化した配列パターンに両性イオン性リポソームを静電相互作用により結合させ、かつ、個々のリポソーム同士は静電反発により、孤立状態に保たれ、膜融合、破壊、凝集体形成が防止されている。 - 特許庁

In the antenna for reader, 15 with an antenna pattern 23 formed on the antenna forming object member 5, such as the shelf board of the bookstand, or the like, a conductive and porous sheet-like member 51 is provided on the antenna formation object member 5, and the outer periphery of the porous sheet-like member 51 extends substantially along the outer periphery of the antenna pattern 23 in planar view.例文帳に追加

書架などの棚板などのアンテナ形成対象部材５に形成されているアンテナパターン２３を有するリーダ用アンテナ１５において、導電性で多孔性のシート状部材５１が、上記アンテナ形成対象部材５に設けられ、上記多孔性シート状部材５１の外周囲が、平面的に見て、上記アンテナパターン２３の外周囲にほぼ沿って延在している。 - 特許庁

To provide a diffraction structure formation body with a patterned metal reflecting layer formed by processing a metal reflecting layer in a fine pattern shape at a high speed and its manufacturing method, diffraction structure transfer foil using the diffraction structure formation body having the patterned metal reflecting layer, a diffraction structure sticker, diffraction structure transfer foil, and an information recording medium with the diffraction structure using the diffraction structure sticker.例文帳に追加

細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁

This radiation-sensitive resin composition is used for forming a resist film for use in a resist pattern formation method including a liquid dipping exposure process using bicyclohexyl as a liquid for liquid dipping exposure, and the static contact angle of a formed resist film to the hydroxyl is 30-90°.例文帳に追加

液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、ビシクロヘキシルに対する静的接触角が３０〜９０°である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The delay time for the data formation time occurring before the pattern to be exposed is obtained on the sample is calculated for each of a predetermined plurality of scanning directions X and Y, and the scanning direction having the shorter delay time is selected as the scanning direction in that case.例文帳に追加

その場合の走査方向として、前記露光すべきパターンが前記試料上に得られるまでに発生するデータ生成時間のための遅延時間を、予め定められた複数の走査方向Ｘ、Ｙ毎に算定し、算定された遅延時間がより短い走査方向を選択する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which has superior storage stability for resist liquid and post-exposure temporal stability as well as high sensitivity and high resolving power in pattern formation by irradiation with an electron beam or EUV in microprocessing of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上及び技術の課題を解決することであり、電子線又はＥＵＶの照射によるパターン形成において、高い感度及び解像度とともに、レジスト液の保存安定性及び引き置き経時安定性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To improve the manufacturing yield of a reflection-transmission liquid crystal display device provided with a reflective display region and a transmissive display region inside a pixel by reducing the probability of short-circuiting due to abnormal pattern formation of a transparent pixel electrode formed on an array substrate.例文帳に追加

一つの画素内に反射表示領域と透過表示領域とを備えた反射透過型液晶表示装置において、アレイ基板上に形成される透明画素電極のパターン形成異常によるショートの発生確率を減らして製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a surface treating method of a substrate having irregularities on the surface (e.g. a semiconductor substrate having protruding insulating parts and recessed electrode parts formed on the surface being used in the formation of a metal film pattern) in which only the protrusions can be reformed selectively in the fabrication of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイス製造において、表面に凹凸形状を有する基板（たとえば、金属膜パターンの形成に用いられる、凸部絶縁部と凹部電極部が表面に形成された半導体基板等）の、凸部のみを選択的に改質しうる基板の表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

Output image data wherein formation of pixels is suppressed in the vicinity of a center of a dot matrix is obtained by this suppression pattern, and an exposure part irradiates the photoreceptor drum by an exposure determined on the basis of the image data and an exposure energy profile, to form an electrostatic latent image.例文帳に追加

この抑制パターンにより、網点内の中央部近傍に画素の形成が抑制された出力画像データが得られることになり、露光部では、この画像データに基づき決定された露光量で且つ、露光エネルギープロファイルにより、感光ドラム上を照射して静電潜像を形成する。 - 特許庁

To enable to reduce a stress effect undergoing from an element isolation film by an element formation region by a dummy pattern provided to flatten the front surface of a substrate in which the element isolation film is formed, and to enable to improve the operating characteristic of the element by controlling positively the stress effect.例文帳に追加

素子分離膜が形成された基板表面の平坦化を図るために設けるダミーパターンによって、素子形成領域が素子分離膜から受ける応力効果を低減できるようにし、また、応力効果を積極的に制御して素子の動作特性を向上できるようにする。 - 特許庁

On the surfaces of a mother ceramic substrate 10, break grooves 11 are formed in a grid pattern by a laser scribing method, and the mother substrate is primarily divided along the break grooves which extend in one direction, then dross which is produced in the break groove formation process is removed by barrel polishing or the like.例文帳に追加

セラミック製マザー基板１０の表面にレーザスクライビング法によってブレーク溝１１を格子状に形成し、該マザー基板を一方向に延在するブレーク溝に沿って１次分割し、ブレーク溝形成時に発生した溶融再凝固物（ドロス）をバレル研磨等で除去する。 - 特許庁

An illumination optical system 20A of this pattern inspection device guides incoherent light emitted from an emission face F of an optical fiber array 21 toward a long and narrow illumination region R formed on the surface of a printed circuit board 7 by using nonaxisymmetric image formation elements such as a cylindrical lens 22 or the like.例文帳に追加

パターン検査装置の照明光学系２０Ａは、オプティカルファイバーアレイ２１の出射面Ｆから出射されるインコヒーレント光を、シリンドリカルレンズ２２などの非軸対象結像要素を用いて、プリント基板７の表面に形成される細長形状の照明領域Ｒに対して導く。 - 特許庁

To solve problems due to a difference in reflectance during formation of a nanohole pattern and problems due to a decrease in wiring reliability resulting from etching at the same time, while eliminating an increase in effective dielectric constant between wiring lines in the same wiring layer and an increase in variation in wiring width.例文帳に追加

同一配線層の配線間における実効誘電率の増大及び配線幅のばらつきの増加を解消しつつ、ナノホールパターンの形成時における反射率差に起因する課題と、エッチングによる配線信頼性低下の課題とを同時に解決できるようにする。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure and an electronic device which have a high degree of freedom for designing a pattern shape, which enable the formation of a core portion (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and which include an optical waveguide that is excellent in durability and allows high integration.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れるとともに高集積化が可能な光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of improving electric performance by reducing a surface resistivity of a conductive composition pattern-formed on a base material and containing a silver particle and a resin binder after formation, and to provide a method of manufacturing an electromagnetic shielding material utilizing the same.例文帳に追加

基材上にパターン状に形成された銀粒子と樹脂バインダを含む導電性組成物層について、形成後にその表面抵抗率を下げて電気的性能を向上させる方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The ceramic molding is formed by imparting an ink for formation of a conductor pattern containing metal particles and then sintering and used in manufacture of wiring boards.例文帳に追加

本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に多価アルコールを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor( polyamic acid ) to be used for producing a specific polyimide, high in convenience and enabling finer and more accurate pattern formation, to provide a composition containing the precursor, and to provide a method for producing a product intermediate using the precursor or the composition.例文帳に追加

特定のポリイミドを製造するために用いられるものであって、利便性が高く、より微細で正確なパターン形成が可能となり得るポリイミド前駆体（ポリアミック酸）および当該前駆体を含む組成物、並びにこれらを利用する製品中間体製造方法を提供する。 - 特許庁

Electrode paste, whose binder is a resin with a thermosetting temperature lower than a thermosetting temperature of binder resin of the resistor layer 21 and a glass transition temperature, is subjected to pattern formation in the surface of the resistor layer 21 and the resin is thermally set, thus forming an electrode layer 22.例文帳に追加

次に前記抵抗体層２１のバインダー樹脂の熱硬化温度およびガラス転移温度よりも低い熱硬化温度を有する樹脂をバインダーとした電極ペーストを、前記抵抗体層２１の表面にパターン形成し、前記樹脂を熱硬化させて電極層２２を形成する。 - 特許庁

To provide a composition for the formation of an inorganic antireflection film with which an antireflection film having a high antireflection effect even in a rather thin film and having excellent adhesion property and sticking property with a resist film can be formed and a resist pattern having excellent resolution and accuracy can be formed.例文帳に追加

簡便な方法により、比較的薄膜でも反射防止効果が高く、かつレジスト膜との接着性、密着性に優れる反射防止膜を形成でき、しかも解像度、精度に優れるレジストパタ—ンを形成できる無機系反射防止膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To extend the possibility of local formation or modification of a pattern of specific magnetization direction in a planar magnetic surface or in a magnetic film and to obtain an improved magnetic storage and recording device having one or more surfaces in which such patterns are formed.例文帳に追加

プレーナ磁気面または磁気膜内において、局所的に特定の磁化方向のパターンを生成または変異する可能性を拡張すること、及びこうしたパターンを設けられる１つ以上の表面を有する、改善された磁気記憶及び記録装置を提供すること。 - 特許庁

A spiral pattern is considered to be a localized amorphous region generated upon spin doping of the catalytic element solution due to insufficient formation of an extremely thin silicon oxide film during the ozone water treatment step.例文帳に追加

上記渦状の模様は、オゾン水処理工程の極薄シリコン酸化膜の成膜不足により、触媒元素溶液のスピン添加処理の際に、局部的に撥水現象が生じ、触媒元素が均一に添加されない為、局部的非晶質領域が発生したものと考えられる。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a lift-off process which facilitates resist stripping by ozone water without using an organic solvent and facilitates formation of a wiring pattern with high processability and reliability by a lift-off process, for example, on a semiconductor substrate or a liquid crystal substrate.例文帳に追加

有機溶媒を使用することなくオゾン水によりレジスト剥離を容易に行うことができ、例えば半導体用基板や液晶用基板上に、リフトオフ法により加工性および信頼性の高い配線パターンを形成することを可能とするリフトオフ用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The apparatus for pattern formation keeps the carriage 20 equipped with a first semiconductor laser LD1 emitting a first irradiation light Le1 of a wavelength having a high absorptivity to a metal ink F and a second semiconductor laser LD2 emitting a second irradiation light Le2 of a wavelength having a low absorptivity to the metal ink F.例文帳に追加

金属インクＦに対して吸収率が高い波長の第１照射光Ｌｅ１を出射する第１半導体レーザＬＤ１と、金属インクＦに対して吸収率が低い波長の第２照射光Ｌｅ２を出射する第２半導体レーザＬＤ２をキャリッジ２０に備えた。 - 特許庁

To provide an organic acid soluble type polyamide resin composition with excellent injection molding property, adhesiveness, resistance to a plating processing liquid, solubility to an organic acid and formation property of a circuit pattern, and a method for manufacturing a three-dimensional injection molding circuit component using the resin composition.例文帳に追加

射出成形性、接着性、めっき処理液に対する耐性、有機酸に対する溶解性、回路パターンの形成性に優れた有機酸可溶型ポリアミド樹脂樹脂組成物と、該樹脂組成物を用いた三次元射出成形回路部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A formation method of pixel pattern includes steps of: (1) forming a coating film of a colored radiation-sensitive composition containing at least one type selected from the group consisting of a dye and a lake pigment, on a substrate and (2) exposing at least part of the coating film with ultraviolet LED.例文帳に追加

（１）基板上に染料及びレーキ顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する着色感放射線性組成物の塗膜を形成する工程、並びに（２）前記塗膜の少なくとも一部に紫外線ＬＥＤを用いて露光する工程を含む画素パターンの形成方法。 - 特許庁

As a result, exposure can be performed suitably since the atmosphere of the interface 12 is controlled to have prescribed humidity or oxygen concentration when a wafer W travels on the interface 12 in processes before and after exposure by an aligner 13, so that accurate pattern formation is enabled.例文帳に追加

これにより、露光装置１３による露光前及び露光後の工程において、ウエハＷがインターフェース部１２を行き来する際、当該インターフェース部１２の雰囲気が所定の湿度又は酸素濃度に制御されているので、好適に露光を行うことができ、正確なパターン形成を行うことができる。 - 特許庁

The infrared absorption ink for invisible pattern formation contains an infrared absorption material wherein the maximum wavelength of spectroscopic absorption has 750-1,100 nm and absorbance at 650 nm is not more than 5% of absorbance at the maximum wavelength of the spectroscopic absorption.例文帳に追加

７５０〜１１００ｎｍに分光吸収極大波長を有し、かつ６５０ｎｍにおける吸光度が、該分光吸収極大波長における吸光度の５％以下である赤外線吸収材料を含有することを特徴とする不可視パターン形成用赤外線吸収インキ。 - 特許庁

Through-holes 100 are provided to a glass board 1 by sandblasting, a wiring pattern 120 and an interlayer insulation layer 110 are formed on the glass board 1, a plating wiring 101 is formed on the inner surface of the through-holes 100, or the through-holes are filled up with conductive matter for the formation of a multilayered wiring board.例文帳に追加

ガラス基板１にサンドブラストにより貫通孔１００を形成し、該ガラス基板の上に配線パターン１２０および層間絶縁層１１０を形成し、該貫通孔１００の内面にめっき配線１０１または導電性物質を充填して、多層配線基板を形成する。 - 特許庁

This can arrange the pair of pads 12a, 12b nearer to the end side of the board where the width of the solder resist is not sufficiently formed because pattern formation and the solder resist 11 are forbidden between the end of the board end side of the pair of pads 12a, 12b and the end 10e of the board.例文帳に追加

これにより一対のパッド１２ａ，１２ｂの板端側端部から板端１０ｅまでの間は、パターン形成およびソルダーレジスト１１が禁止されることから、一対のパッド１２ａ，１２ｂを板端側に十分なソルダーレジストの幅を形成できない板端側まで近付けて配置することができる。 - 特許庁

The MOSFET is a non-punch-through type element, and the p-type body layer 3 has, at an end (channel formation region 3b or terminal region 5), a part having a longer trailing pattern of an p-type impurity concentration profile along the depth of the n-type drift layer 2 than a center part (body region 3a).例文帳に追加

当該ＭＯＳＦＥＴはノンノンパンチスルー型の素子であり、ｐ型ボディ層３は、端部（チャネル形成領域３ｂまたは終端領域５）に中央部（ボディ領域３ａ）よりもｐ型不純物濃度プロファイルのｎ型ドリフト層２の深さ方向への裾引きが長い部分を有する。 - 特許庁

The display pattern of the figures c being displayed as first and third figures 19 and 21 changes to that combining the design information z2 with identifying information y2('2') from that of the design information z2(the design of 'child of water') (Fig. 6(a)) almost simultaneously with the formation of a ready-for-winning state.例文帳に追加

リーチ状態が形成されると略同時に、第１，第３図柄１９，２１として表示されている図柄ｃの表示形態は、意匠情報ｚ２（「水の子」の意匠）のみの表示形態から、識別情報ｙ２（「２」）と意匠情報ｚ２が組み合わされた表示形態に変化する（図６（ａ））。 - 特許庁