「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

Faults of the electrode pattern and their locations are grasped by conducting appearance inspection immediately after formation of the electrode on a glass substrate, correction of the electrode is conducted standing on information obtained with the appearance inspection, then following formation process of each composing layer is executed, followed by a non-contact continuity test is performed as the final inspection before shipment.例文帳に追加

ガラス基板上に電極を形成した直後に外観検査を実施して電極パターンの欠陥及びその位置を把握し、その外観検査で得た情報を基にして電極の修正を実施し、それ以降の各構成層の形成工程を経た後に、出荷前の最終検査として非接触による電極の導通検査を行う。 - 特許庁

To provide a polishing agent for a metal capable of increasing polishing speed sufficiently while keeping an etching speed as low, suppressing the corrosion and dishing of the surface of a metal and enabling the formation of a highly reliable embedded pattern of the metal membrane.例文帳に追加

エッチング速度を低く保ちつつ、研磨速度を充分上昇させ、金属表面の腐食とディシングの発生を抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive insulating resin composition which is superior in fluidity during thermal bonding after pattern formation and is formed into an insulating film having good adhesion to a substrate, and to provide an insulating film formed of the photosensitive insulating resin composition.例文帳に追加

パターン形成後の加熱接着時の流動性に優れ、基板との密着性が良好な絶縁膜となる感光性絶縁樹脂組成物、さらに該感光性絶縁樹脂組成物から形成される絶縁膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in the adaptability for a halftone phase difference shift mask and resolution for the formation of a contact hole pattern and to provide a positive resist composition having little deformation of a hole during etching and a wide exposure margin for under exposure.例文帳に追加

コンタクトホールパターン形成時のハーフトーン位相差シフトマスク適性と解像力に優れたポジ型レジスト組成物、更には、エッチング時のホール変形が少なく、アンダー露光時の露光マージンが広いポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The triangular pin tool inhibits the formation of the vertical hook line in the stir zone, and due to the asymmetric rotational pattern of the triangular pin, it enhances the mixing of the material around the tool pin and oxide layer is dispersed in the stir zone to increase the weld strength.例文帳に追加

三角形ピン溶接工具は攪拌領域での垂直のフックライン形成を防止し、三角ピンの非対称回転パターンにより、ピン周囲の材料攪拌を助長し、酸化層を攪拌領域で拡散して溶接強度を増加する。 - 特許庁

By mounting a reticle or a dummy reticle even on a reticle-mounting section which is by right not used for formation of a pattern, all the reticle mounting sections (holders or the like) are protected from the irradiation of scattered electron beams, preventing electrification of a reticle fixing mechanism.例文帳に追加

本来のパターン形成に使用されないレチクル搭載部にもレチクルやダミーを搭載することによって、全てのレチクル搭載部（ホルダ等）に、散乱された電子線が当らないようにし、レチクル固定機構の帯電を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide polishing liquid for metal, which enables high-reliability buried pattern formation of a metal film by sufficiently increasing the polishing speed while keeping the etching speed low, and thus suppressing erosion and dishing of a metal surface.例文帳に追加

エッチング速度を低く保ちつつ、研磨速度を充分上昇させ、金属表面の腐食とディシングの発生を抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

To provide a ring lighting type color measuring method and a device thereof in which the difference of formation of shadows is small regardless of the inegularity pattern and the effect of the relation between the direction of a material to be measured and the lighting direction is not generated.例文帳に追加

凹凸模様の状態にかかわらず影の出来方の相違が小さく、被測定物の向きと照明方向との関係の影響が生じないリング照明式色彩測定方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

Furthermore, a light shielding film 11A is arranged to cover a non-pattern formation region 51 which is in a region between the pixel region 10P and the perpendicular driving circuit 40 and in which the gate line GL and the sustaining capacity line SC are not formed.例文帳に追加

そして、画素領域１０Ｐと垂直駆動回路４０の間の領域であって、ゲート線ＧＬ及び保持容量線ＳＣが形成されていない非パターン形成領域５１を覆う遮光膜１１Ａが配置されている。 - 特許庁

To provide a photosetting colored composition for color filter capable of producing a color filter having excellent transparency and heat resistance by means of a photolithography and has an excellent development performance permitting the pattern formation in a short developing time.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によって、優れた透明性および耐熱性を有するカラーフィルターが製造でき、短い現像時間でパターン形成が可能な優れた現像性を有するカラーフィルター用光硬化性着色組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a resin for a resist which is highly transparent to far ultraviolet rays having wavelengths of about 220 nm or lower and high etching resistance and is excellent in adhesion to a substrate; and a chemical amplification-type resist and to provide a pattern formation method using the resist.例文帳に追加

略２２０ｎｍ以下の波長の遠紫外線に対する光透明性が高く、エッチング耐性が高く、且つ基板密着性の優れたレジスト用樹脂、化学増幅型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the medium 1 for determining authenticity, an alignment layer 3 and a light selection reflecting pattern layer 4 are sequentially layered on one surface of a base material 2, and a reflection type hologram comprising a hologram formation layer 5 and a reflective layer 6 is layered on the other surface.例文帳に追加

基材２の片面に配向膜３、光選択反射パターン層４が順に積層され、他の面にホログラム形成層５および反射性層６からなる反射型ホログラムを積層して真偽判定用媒体１とする。 - 特許庁

To provide both a method for measurement of a contact angle that can suppress measurement error with good measurement repeatability and a nanoimprint method that enables reliable high-definition pattern formation with high throughput using values obtained with the method for the measurement of the contact angle.例文帳に追加

測定誤差が抑制でき、計測再現性のある接触角の測定方法と、この接触角の測定方法で得られた値を用いて高精細なパターン形成を高スループットで安定して行えるナノインプリント方法を提供する。 - 特許庁

It is considered that such a photosensitive composition imparts a filler effect and light transmission effects of the acrylic resin fine particles and has adequacy for suppressing formation of a T-shaped top, imparting a proper pattern shape and suppressing surface wrinkles, at a proper balance.例文帳に追加

このような感光性組成物では、アクリル樹脂微粒子のフィラー効果と光透過効果が得られると考えられ、Ｔ−Ｔｏｐ形状抑制性、パターン形状及び表面シワ抑制についてバランス良く適性を備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a light-emitting device and a substrate for evaporation capable of improving accuracy of pattern formation of respective color EL layers when manufacturing a full-color flat panel display using red, green, and blue light-emitting colors.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び蒸着用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that attains formation of a resist pattern having superior adhesion to a substrate, good image forming property and les bleeding or sublimation products of the composition, even at long-term use, and to provide a photosensitive resin laminate.例文帳に追加

基材との密着性に優れ、画像形成性が良く、長時間使用されても組成物の染み出しや昇華生成物が少ないレジストパターンが形成できる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体の提供。 - 特許庁

The photosensitive film for permanent pattern formation has a support, a cushion layer and a photosensitive layer in this order, wherein the photosensitive layer comprises a photosensitive composition containing (A) a binder, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator and (D) an extender.例文帳に追加

永久パターン形成用感光性フィルムが、支持体と、クッション層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with an MOS transistor which can increase a gate width of the MOS transistor and can restrain excess etching of a gate insulating film in dry etching process for pattern formation of a gate wiring.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタを備える半導体装置であって、ＭＯＳトランジスタのゲート幅を増加でき、且つ、ゲート配線をパターニング形成するドライエッチング工程に際して、ゲート絶縁膜の過剰なエッチングを抑制可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a tacky adhesive usable as a substitute for a double-coated adhesive tape, preventing the generation of gas caused by the evaporation of solvent while keeping high tacky adhesivity and enabling easy formation of a pattern with ultraviolet rays.例文帳に追加

両面粘着テープ代替材料として用いることができ、高い粘接着力を維持したまま、溶媒揮発によるガス発生を防ぎ、紫外線によるパターン形成を容易に行うことのできる粘接着剤を提供する。 - 特許庁

To provide a device for image formation in which the amount of toner deposition can be accurately detected and no undesirable influences are given to the image density and gradation control (AIDC control) even when the total length of a gradation test pattern is decreased.例文帳に追加

階調テストパターンの全長を短くしても正確にトナー付着量を検出することができ、画像濃度および階調性の制御（ＡＩＤＣ制御）に悪影響を及ぼさない画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The distance between the positions (m, n) and (m+i, n+j) is determined so that the first and second droplets join mutually after spreading in the pattern formation area.例文帳に追加

そして、前記第１液滴と前記第２液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記（ｍ、ｎ）の着弾可能位置と前記（ｍ＋ｉ、ｎ＋ｊ）の着弾可能位置との間の距離が決められている。 - 特許庁

At least at part of a circuit formation surface of the insulating layer 10, a 2nd insulator layer 20 which is thick enough to bury the circuit pattern 13 is formed by using a material which is not dissolved with a solution for etching the insulator layer 10.例文帳に追加

この絶縁体層１０の回路形成面の少なくとも一部に、絶縁体層１０をエッチングする溶液では溶解しない材料を用いて、回路パターン１３を埋め尽くす厚さの第２絶縁体層２０を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a push-button switch body capable of relatively precisely forming a shape on a key top part, and of reducing risk of occurrence of restriction in design or a product shape by facilitating formation and determination of a small pattern.例文帳に追加

キートップ部に形状を比較的精密に形成でき、小さな模様の形成や判別を容易にして意匠や製品形状に制約の生じるおそれを減少させ得る押釦スイッチ体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a glass bottle on which a label can be stuck and an uneven pattern is expressed at a low cost in utilizing merits of an uneven parison molding such that the formation of checks by molding is less and solving a problem that a mold manufacturing cost is high.例文帳に追加

ラベルが貼れて、成形によるビリの発生が少ないという凹凸パリソン成形のメリットを活かしつつ、金型作製費用が高いという問題を解決し、凹凸模様が表現されたガラスびんを安価に製造する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which has a high sensitivity and high resolution and decreased development defects in pattern formation by irradiation with active radiations (electron beams, X-rays, or EUV: extreme ultraviolet rays) for manufacturing of semiconductors, photomasks, etc.例文帳に追加

半導体、フォトマスク製造等のための、活性放射線（電子線、Ｘ線、又はＥＵＶ）の照射によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a film-forming process for forming a film 13 of silicon dioxide on the surface 11 of a die 1 having an irregular pattern 12, and a mold releasing agent formation process for applying a silane coupling agent to the surface of the film 13 of silicon dioxide.例文帳に追加

凹凸パターン１２を有する金型１の表面１１に二酸化ケイ素の膜１３を形成する成膜工程と、前記二酸化ケイ素の膜１３の表面にシランカップリング剤を塗布する離型剤形成工程とを含む。 - 特許庁

To provide a capacitor capable of increasing capacitance density, simplifying a manufacturing process, improving high frequency characteristics, and improving the versatility of a dielectric material without requiring pattern formation on a nano scale, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ナノスケールのパターン形成を必要とせずに、容量密度の向上，製造プロセスの簡略化，高周波特性の向上，誘電体材料の汎用性の向上を図ることができるコンデンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

When an inspection mode is a die-to-database, the pattern data of a database used in the formation of reference data in the inspection device 100 is read by the control calculator 110 to be converted to OASIS format data high in general-purpose properties.例文帳に追加

検査モードがダイ−トゥ−データベースのときには、検査装置１００で参照データの生成に利用しているデータベースのパターンデータを制御計算機１１０で読み込み、汎用性の高いＯＡＳＩＳフォーマットデータに変換する。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet for supporting and protecting a semiconductor wafer, and a method for grinding the back of the semiconductor wafer such that adhesion residue is effectively prevented owing to unevenness of a formation surface for a circuit pattern or the like of a recent semiconductor wafer.例文帳に追加

近年の半導体ウェハの回路パターン等の形成面における凹凸に起因する糊残りを効果的に防止することができる半導体ウェハ保持保護用粘着シート及び半導体ウェハの裏面研削方法を提供する。 - 特許庁

Thus, it becomes possible to curtail a formation-removal process of a mask pattern and the number of reticles in use, and the MOSFETs having the different operating voltage can be formed efficiently at a low cost with a constant performance being ensured.例文帳に追加

これにより、マスクパターンの形成・除去工程並びに使用するレチクル枚数の削減が可能になり、動作電圧が異なるＭＯＳＦＥＴを、一定の性能を確保しつつ、効率的に低コストで形成することが可能になる。 - 特許庁

To facilitate the alignment by photolithography in the pattern formation of resistors and to prevent the generation of inferior products caused by the disconnection of the resistors at the interface of a common electrode part and a glaze glass layer.例文帳に追加

抵抗体Ｒのパターン形成におけるフォトリソグラフィーによる位置合わせが容易であり、共通電極部分Ｍとグレースガラス層との界面での抵抗体Ｒの断線による不良品の発生を防ぐことができるサーマルヘッドを提供する。 - 特許庁

To raise reliability to thermal stress and a heat cycle and enable etching processing to be applied to the formation of a circuit pattern, and reduce a manufacturing cost in a ceramic circuit board formed by joining a ceramic substrate and a metallic circuit board.例文帳に追加

セラミックス基板と金属回路板とを接合したセラミックス回路基板において、熱応力や熱サイクルに対する信頼性を高めた上で、回路パターンの形成にエッチング加工を適用可能にすると共に、製造コストの低減を図る。 - 特許庁

An acid is generated in the first resist frame 6 by heat or light irradiation, and a crosslinking layer formed between the first resist frame 6 and the minute pattern formation material 8 covers the first resist frame 6.例文帳に追加

加熱または光照射により第１のレジストフレーム６中に酸を発生させ、第１のレジストフレーム６と微細パターン形成材料８との界面に生じた架橋層で第１のレジストフレーム６を被覆するように構成する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having sufficiently high sensitivity and resolving power in the production of a semiconductor device and in the formation of a contact hole pattern, less liable to produce particles in a resist solution and excellent in dependency on density.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The mold for imprint-processing 12 is composed by covering the mold with perfluoropolyether 11 having a functional group chemically reacted with the material 10 of the mold, and is used for the pattern formation of a semiconductor device or micro-optical element.例文帳に追加

金型の材料１０と化学的に反応する官能基を有するパーフルオロポリエーテル１１で被覆してなるものであり、半導体素子又は微小光学素子のパターン形成に用いることを特徴とするインプリント加工用モールド１２。 - 特許庁

This reduces the effect of defocusing of line widths or the like in the line pattern to be imaged on the wafer and also decreases the effect of reticle formation errors or the like, and enables a high-precision measurement of projection optical system imaging characteristics.例文帳に追加

このようにすれば、ウエハ上に形成されるラインパターンの像の線幅等のサイズへのデフォーカス量、レチクル製造誤差等の影響を少なくすることができ、高精度に投影光学系の結像特性を計測することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an inkjet recording head which enables a stable pattern formation without suffering from the influence of reflection caused by a base coat even when forming an ink ejection port by an i-ray exposure, not leaving behind an antireflection film.例文帳に追加

ｉ線露光によりインク吐出口の形成を行う場合でも、下地による反射の影響がなく、安定したパターン形状が可能であり、反射防止膜が残らないインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition for silica glass optical waveguide formation capable of forming a cured product which avoids thermal deformation of pattern shape in dry etching and baking (has excellent heat resistance) and has excellent resolution.例文帳に追加

ドライエッチングやベーキングのときパターン形状が熱により変形せず（耐熱性に優れ）、解像性に優れた硬化物を形成することができる石英系ガラス光導波路形成用ネガ型感光性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

In the formation process of the conductor layers 19, 22, 33, alignment marks 41, 42 are formed, which comprise a first light reflection section 43 and a second light reflection section 45 for surrounding the first light reflection section 43 while being separated by a removing pattern 44.例文帳に追加

導体層１９，２２，３３の形成工程では、第１光反射部４３と抜きパターン４４を隔ててその第１光反射部４３を包囲する第２光反射部４５とからなる位置合わせマーク４１，４２を形成する。 - 特許庁

To provide a wireless base station capable of enhancing the accuracy of directive pattern formation in the case of communication between a terminal station employing the individual UW (Unique Word) system and a terminal station employing the common UW system by using the space multiplex system.例文帳に追加

本発明は、個別ＵＷ方式の端末局と共通ＵＷ方式の端末局と空間多重方式を用いて通信する場合の指向性パターンの形成精度を向上する無線基地局を提供する。 - 特許庁

The formation of an upper electrode 42 is performed by transforming a liquid 2 containing fine metallic particles into a metallic film through heat treatment after the liquid 2 is applied directly to the surface of a piezoelectric layer 40 in a pattern by means of an ink-jet head 101.例文帳に追加

上部電極４２の形成を、インクジェットヘッド１０１により金属微粒子を含有する液体２を圧電体層４０の上に直接パターン塗布した後、熱処理を施して液体２を金属膜に変換することで行なう。 - 特許庁

Then, etching is performed in three steps: (1) patterning of the ITO film along the resist pattern 8, (2) formation of the lower layer contact hole 41 by an etching liquid such as buffered hydrofluoric acid, and (3) removal of an "eaves-like part" 6a of the ITO film.例文帳に追加

そして、（１）レジストパターン８に沿ったＩＴＯ膜のパターニング、（２）バッファードフッ酸等のエッチング液による下層コンタクトホール４１の作成、及び（３）ＩＴＯ膜の「ひさし状部分」６ａの除去という３段階のエッチングを行う。 - 特許庁

To provide a printing method which can precisely control the distance between a printing plate and a printing base material, which is an important factor in printing of an electronic device or the like requiring pattern formation of high precision, by a simple method, and to provide a printer.例文帳に追加

高精度のパターン形成が要求される電子デバイス等の印刷において重要な因子である、印刷版と印刷基材との距離を、簡便な方法で精密に制御し得る印刷方法および印刷機を提供すること。 - 特許庁

The surfaces of the first and the second members through which they are adhered to each other are preferably provided with different adhesion and connection properties through the provision of a surface adhesion promoter or the formation of a fine-structured pattern on only one member, or the like.例文帳に追加

第１及び第２部材のそれぞれの合せることができる表面は、表面接着促進剤、又は部材の１つにのみ微構造の模様を設けることによってなど、異なる接着接合特性を備えることが好ましい。 - 特許庁

Since the protection film 3 can be formed on the reflecting film 2 directly without the aid of a formation process of the slit pattern after forming the reflecting film 2, the high-quality reflecting surface having few defects such as a dirt, a flaw or deterioration can be acquired.例文帳に追加

反射膜２の成膜後、スリットパターンの形成工程を経由しないで、直ちに、反射膜２上に保護膜３を成膜することができるため、汚れ、疵、劣化等の不具合が少ない良質の反射面を得ることが可能となる。 - 特許庁