「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the printed matter includes: a step in which a printing layer 109 is provided at a base material 107 using a predetermined pattern; and a step in which an opening 111 penetrating through the base material and the printed matter is provided in an opening formation region.例文帳に追加

基材１０７に所定パターンで印刷層１０９を設ける工程と、基材及び印刷層を貫通する開口部１１１を開口部形成領域に設ける工程とを含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in formation of a fine pattern even if a light shielding pigment is added at high concentration, and which is suitable for use as a black matrix material for a high light shielding or high definition color filter.例文帳に追加

高濃度の遮光性顔料を添加しても微細パターンの形成に優れ、高遮光又は高精彩カラーフィルター用のブラックマトリックス材料に好適な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for the development of a substrate wherein it is possible to prevent very fine deposits from remaining on the substrate after a processing operation, especially on an open frame for the substrate or on a pattern formation region.例文帳に追加

現像処理後の基板、特に基板のオープンフレームやパターン形成領域に微小な付着物が残留するのを防止できる基板現像装置および基板現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a composite material, which allows a high flexibility in designing a conductive circuit and allows an easy formation of a conductive section having a fine pattern, without causing deterioration in an insulator.例文帳に追加

導電回路設計の自由度が高く、また、絶縁体のい劣化を生ず微細なパターンを有する導電部を容易に形成することのできる複合部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint method by which a resin layer in an extruded area extruded from a pattern formation area can be easily removed, and to provide a method of processing a substrate using the imprint method.例文帳に追加

パターン形成領域からはみ出した、はみ出し領域の樹脂層を容易に除去することが可能となるインプリント方法およびインプリント方法を用いた基板の加工方法を提供する。 - 特許庁

There is provided a process of wiring a second conductive membrane DP electrically isolated from the conductive membrane EP by discharging liquid drops on the outside of the predetermined pattern formation area PI on the substrate P.例文帳に追加

基板Ｐ上の所定のパターン形成領域ＰＩの外側に液滴を吐出して、導電性膜ＥＰと電気的に分離された第２導電性膜ＤＰを配線する工程を有する - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which prevents spreading of chemical atmosphere that may occur during chemical processing and efficiently processes a pattern formation surface of a substrate with a heated fluid while heating the substrate.例文帳に追加

薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、基板を加熱しながら加熱流体により基板のパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

On an upper surface of the coil part 36, a region with a predetermined distance or more from the center seen from an axial direction of an output axis 31 is covered with a commutator pattern non-formation part 359 of a commutator disk 35.例文帳に追加

また、コイル部３６の上面は、出力軸３１の軸方向から見て中心から所定距離以上の領域が整流子ディスク３５の整流子パターン非形成部分３５９に覆われている。 - 特許庁

The ready for win decision performances are done to determine whether the first figure 21 and the third figure 23 are displayed in the same pattern or not as objects in the formation of the ready for win state.例文帳に追加

このリーチ決定演出は、リーチ状態を形成する際に対象となる第１図柄２１と第３図柄２３が、同一の図柄となって表示されるか否かを決定するための演出である。 - 特許庁

To provide an image display medium and an image formation method with a hologram image which can be authenticated by visual information and at the same time having hologram images with high forgery prevention effect where individual information is made into a pattern.例文帳に追加

目視情報による認証が可能で、かつ、偽造防止効果の高い、個別情報がパターニングされたホログラム画像を有する画像表示媒体および画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an oxide microstructure, facilitating precise formation of an oxide microstructure having a pattern with a fine width and a columnar shape with a high aspect ratio.例文帳に追加

幅が微細なパターンで、かつ、アスペクト比の高い柱状の形状を有する微細酸化物構造体を精密に形成することができる微細酸化物構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To remarkably reduce the time required for verification by previously estimating and detecting a problematic portion in a pattern shape exposed on a wafer for fine design data before mask formation.例文帳に追加

微細な設計データに対して、ウエハ上に露光されたパターン形状で問題となり得る箇所について、予めマスク作成前に予測・検出し、検証に必要な時間を大幅に短縮化する。 - 特許庁

To provide an evaporation source and a thin film formation device forming a highly precise pattern on a large-size film forming object or an easily deflecting film forming object without causing a problem of mask strain.例文帳に追加

マスクの歪みの問題を招くことなく大型の成膜対象物又は撓みやすい成膜対象物に対して高精度のパターンを形成しうる蒸発源及び薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing method for discovering a high CMP rate, and for realizing high flattening, dishing amount reduction, and erosion amount reduction, and for realizing highly reliable metallic film embedding pattern formation.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lamination wiring board which makes filing of a via hole easy when an interlayer connection structure, wherein the thickness of an insulation layer is relatively large, is formed and enables high density pattern formation.例文帳に追加

絶縁層の厚さが比較的大きい層間接続構造を形成する際のビアホールの充填を容易にし，高密度なパターン形成ができる積層配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The ultraviolet curable paste is used for the pattern formation via offset printing, and contains an ultraviolet curable monomer or oligomer, a photoinitiator, a binder resin, and inorganic fine particles.例文帳に追加

オフセット印刷によるパターン形成に用いられる紫外線硬化型ペーストであって、紫外線硬化型モノマー又はオリゴマー、光重合開始剤、バインダー樹脂及び無機微粒子を含有する紫外線硬化型ペースト。 - 特許庁

Screen printing is carried out using the particulate dispersed solution to form a wetting spread suppression part 11 comprising the aggregate of many metal particulates 10 in the pattern formation region 9 (b).例文帳に追加

次いで、前記微粒子分散溶液を使用してスクリーン印刷し、これにより多数の金属微粒子１０の集合体からなる濡れ拡がり抑制部１１をパターン形成領域９に形成する（ｂ）。 - 特許庁

Such a slit nozzle 2221 injects the inert gas to the substrate W under pattern formation process from the downstream side in the conveyance direction of the substrate W toward the surface vicinity of the substrate W.例文帳に追加

このようなスリットノズル２２２１が、パターン形成処理が行われている基板Ｗに対して、基板Ｗの搬送方向の下流側から基板Ｗの表面近傍に向けて不活性ガスを噴射する。 - 特許庁

The different scattering areas on the mask is capable of forming an SCALPEL pattern on a wafer by improved critical dimensioned(CD) control, reduced aberration feature formation, and improved yield.例文帳に追加

マスク上の異なる散乱領域は、改善されたクリティカル寸法（ＣＤ）制御，低減された収差フィーチャ形成および改善された歩留りで、ＳＣＡＬＰＥＬパターンをウェハ上に形成することを可能にする。 - 特許庁

An electrode pattern is drawn by irradiation with a laser on the glass substrate subjected to film formation with a paste composition, containing silver oxide powder and low melting point glass powder and the silver powder, is fired to the substrate.例文帳に追加

酸化銀粉末及び低融点ガラス粉末を含有するペースト組成物で製膜されたガラス基板上にレーザー照射により電極パターンを描画して銀粉末を基板に焼付ける。 - 特許庁

Functions or the like of elements at formation of the electron emission part by forming treatment are checked by the pattern of the element electrodes and the conductive thin film formed outside the region forming the electron emission element group.例文帳に追加

この電子放出素子群形成領域の外側に形成した素子電極，導電性薄膜パターンにて、フォーミング処理によって電子放出部を形成した際の素子の機能等をチェックする。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition capable of circumventing the effect of halation in the formation of an electrode of a plasma display panel, and to provide a pattern forming method using the photocurable resin composition.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの電極を形成する際にハレーションの影響を防止することが可能な光硬化性樹脂組成物、及び該光硬化性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate for pattern formation includes forming a coating of ≥1 to <10 nm in film thickness after drying by coating a substrate with a solution containing a surface treating agent having a specific structure.例文帳に追加

基板上に、特定の構造を有する表面処理剤を含む溶液を塗布し、乾燥後膜厚が１ｎｍ以上１０ｎｍ未満である塗膜を形成するパターン形成用基板の製造方法。 - 特許庁

The offset quantities between the additive patterns and the main patterns on the reticle 100 are made adequate, by which the resist pattern sizes may be made uniform while the adverse influence on the formation of the element patterns is prevented.例文帳に追加

レチクル１００では，付加パターンと主パターンとのずれ量を適正化することによって，素子パターンの形成への悪影響を防ぎつつ，レジストパターン寸法の均一化を図ることができる。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble photosensitive resin composition of which the pattern formation is easy and which has high heat resistance, high reliability (such as high moisture-resistance reliability), high transparency, and low permittivity.例文帳に追加

パターン形成が容易で、高耐熱性、耐湿信頼性等の高信頼性、更に高い透明性、低誘電率に優れた特性を有するアルカリ可溶性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A step of subjecting a semiconductor device pattern used for performing etching on or impurity injection into a photoresist layer, formed on the surface of a silicon wafer 103 to reduction exposure includes the formation of a reference chip.例文帳に追加

シリコンウエハ１０３表面に形成したフォトレジスト層に、エッチングまたは不純物注入を行うための半導体装置パターンを縮小露光する工程が、基準チップ形成処理を含む。 - 特許庁

Consequently, a suitability for miniaturization, a high productivity, and a damageless feature can be simultanesouly realized; and the functional film (such as the PZT film 206) can be processed along the region of no formation of the projected pattern 204.例文帳に追加

これにより、微細化適正・高生産性・ダメージレス化を両立させつつ、凸状パターン２０４の非形成領域に沿った機能膜（例えばＰＺＴ膜２０６）の加工を施すことが可能となる。 - 特許庁

To provide an image forming device or the like capable of adjusting an image by suppressing the influence of an optical memory on a detection pattern formed in a non-image-formation region during image forming operation.例文帳に追加

画像形成動作中における非画像形成領域に形成される検知用パターンに、光メモリーが与える影響を抑制して画像調整可能な画像形成装置等を提供すること。 - 特許庁

To provide a method that allows, in manufacturing members related to next generation displays, formation of a very fine thin film pattern at low cost on a substrate inferior to glass in heat resistance by an inverted printing process.例文帳に追加

次世代ディスプレイ関連部材の製造において、ガラスより耐熱性の劣る基板上に、反転印刷方法を介して、低コストで高精細な薄膜パターンを形成することを可能にする方法である。 - 特許庁

To provide an image formation system in which a document image is read by a monochromatic image forming device, and the document image and a woven pattern image of a color are overlapped with each other to form an image by a color image forming apparatus.例文帳に追加

モノクロ画像形成装置で原稿画像を読み取り、カラー画像形成装置により原稿画像とカラー色の地紋画像とを重ね合わせて画像を形成する画像形成システムの提供。 - 特許庁

Depending on the detection result, a predetermined process (purging process, wiping process, flashing process or the like) is performed on the inkjet head 101 and the action to discharge an ink droplet onto the pattern formation area 103 is performed.例文帳に追加

この検出結果に応じてインクジェットヘッド１０１に所定の処理（パージ処理、ワイピング処理やフラッシング処理等）を行った上でパターン形成領域１０３に対するインク滴の吐出動作を行う。 - 特許庁

To reduce downtime for an apparatus due to processing control for an image formation using a test pattern; and to obtain a stable image quality while employing an intermediate transfer method with high image superposing accuracy.例文帳に追加

画像重ね精度が高い中間転写方式を採用しながら、テストパターンを用いた画像形成のためのプロセス制御による装置のダウンタイムを低減し、かつ安定した画像品質を得る。 - 特許庁

To provide a thin-film semiconductor element which has no matching margin in formation of a contact and wiring to greatly improve a degree of integration, and has increased flexibility of a layout pattern, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

コンタクトおよび配線形成時の合わせマージンがゼロであり、集積度を大幅に向上し、パターンレイアウトの自由度の拡大を可能とする薄膜半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophoretic display panel and its manufacturing method that enable energy-saving micromachining and formation of a continuous pattern with suppressed costs and a small number of processes.例文帳に追加

微細加工を省エネルギーで、かつコストが嵩まず、プロセス数が少なく、連続的なパターンの作製が可能で、かつ材質の選択の幅が広い電気泳動方式表示パネル及びその製造方法の提供にある。 - 特許庁

To provide a photosensitive planographic printing plate having high sensitivity and giving satisfactory printing resistance even under exposure conditions which irradiate the plate with small energy per unit area and to particularly provide a photosensitive planographic printing plate suitable for pattern formation with laser light, suitable particularly for plate making by direct pattern formation with laser light having 300-1,200 nm wavelength and exhibiting higher printing resistance than a conventional planographic printing plate.例文帳に追加

単位面積当たりの照射エネルギーが小さい露光条件に於いても充分な耐刷性を与え、高い感度を有する感光性平版印刷版、特にレーザー光による描画に適し、さらに、３００〜１，２００ｎｍの波長を有するレーザー光での直接描画での製版に特に好適であり、従来の平版印刷版に比べ、高い耐刷性を発現する感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

To solve the following problem: disconnection or increase and unevenness in wiring resistance due to resist residue remaining in distribution holes, or impossibility of formation of a fine circuit pattern due to swelling by development, in forming a copper wiring circuit by a dual damascene method in which distribution holes are formed prior to formation of distribution grooves using ArF lithography capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

微細パターン形成が可能なＡｒＦリソグラフィを用い、配線孔を配線溝に先だって形成するデュアルダマシン法で銅配線回路を作る場合、配線孔内に残るレジスト残渣の影響で断線や配線抵抗の増大およびバラツキが生じるという問題、あるいは現像膨潤によって微細回路パターン形成ができないという問題を解決することが本発明が解決する課題である。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a dense pattern independently of standing waves and capable of further forming a resist pattern having a high aspect ratio by using an underlayer film excellent in dry etching resistance and usable as a thin film in combination with a specified polysiloxane-base radiation-sensitive resin composition having high transparency at ≤193 nm wavelength, and to provide a bilayer film for pattern formation.例文帳に追加

ドライエッチング耐性に優れ薄膜として使用可能な下層膜と、１９３ｎｍ以下の波長において透明性の高い特定のポリシロキサン系感放射線性樹脂組成物とを組み合わせて用いることにより、定在波による影響を受けることがなく、緻密なパターンを形成することができ、さらに高いアスペクト比を有するレジストパターンを形成することができるパターン形成方法およびパターン形成用多層膜を提供する。 - 特許庁

To provide a drive signal formation device for delivery head, a printer and a drive signal formation method for delivery head which can keep smaller a memory capacity of a storage means for storing the number of pattern of waveform data used even if this number gets more and prevent a big load from being imposed on a central processing unit.例文帳に追加

使用する波形データのパターン数が多くなっても、それを記憶する記憶手段の記憶容量を小さく済ますことができ、しかも中央処理装置に大きな負荷がかかることのない吐出ヘッド用駆動信号生成装置、印刷装置及び吐出ヘッド用駆動信号生成方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently, a slope connected to the active surface of the electronic element from the surface of the wiring substrate is formed (a slope formation process), a metal wiring connecting an electrode terminal on the active surface to a wiring pattern on the wiring substrate is formed (a metal wiring formation process).例文帳に追加

続いて、電子素子の周囲に、配線基板の表面から電子素子の能動面に繋がる斜面を形成し（スロープ形成工程）、この斜面の表面に液滴吐出法により能動面上の電極端子と配線基板上の配線パターンとを接続する金属配線を形成する（金属配線形成工程）。 - 特許庁

The curve amount of the image formation line in the main scanning line direction is calculated, on the basis of a mark-pattern formed in three parts different from one another in the main scanning line direction of an intermediate transfer belt 20, and color shift in a subscanning line direction is corrected, on the basis of the curve amount of the image formation line in the main scanning line direction.例文帳に追加

中間転写ベルト２０の主走査線方向の互いに異なる３箇所に形成されたマークパターンに基づいて、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量を算出し、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量に基づき、副走査線方向の色ずれ（レジスト）補正を行う。 - 特許庁

To provide an aligner device that can firstly reduce variation of edge formation positions of patterns formed on an exposure object substrate by suppressing swing of waveform patterns of diffraction images generated in a vicinity of an edge of a mask pattern, and secondly suppress variation of pattern line widths by making sharp of the slopes of waveform patterns of the diffraction images in the vicinity of the edge of the mask pattern.例文帳に追加

第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。 - 特許庁

Based on predetermined line data, the control circuit generates the punch data including: draw data for drawing predetermined pattern(s) on the workpiece W through formation of a plurality of penetrations H; cut data for cutting along the outline of the pattern(s) ; and auxiliary cut data for forming cut E which helps the user when detaching the outline of the pattern from workpiece W.例文帳に追加

制御回路は、所定の模様のラインデータから、被加工物Ｗに対し複数の小孔Ｈにより所定の模様を描画するための描画データと、模様の輪郭に沿って切断するためのカットデータと、被加工物Ｗから模様の輪郭部分を切離す作業をユーザが容易に行うための切込みＥを形成する補助切込データとを含む打刻データを作成する。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a photocuring blue colorant composition for color filter excellent in pattern forming property by UV light laser which is excellent in hue and with which the chipping and peeling of the pattern-like film formed can be suppressed and which is good in pixel shape and can form a coloring pattern excellent in contact hole formation property, a color filter in which the composition is used, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display apparatus having the color filter.例文帳に追加

色相に優れ、且つ、形成されたパターン状の膜における欠けや剥がれが抑制され、画素形状が良好であり、コンタクトホール形成性にも優れた着色パターンを形成しうる、紫外光レーザーによるパターン形成性に優れた光硬化性青色着色組成物、それを用いたカラーフィルタ、その製造方法、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.例文帳に追加

フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁