「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a colored curable composition containing a dye polymer, the composition having excellent color purity, light resistance, heat resistance and solvent resistance, causing little color migration, and allowing formation of a cured film with good pattern formability.例文帳に追加

色純度、耐光性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移りが少なく、パターン成形性の良好な硬化膜を形成し得る色素多量体を含む着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

A control device adjusts, in accordance with an expansion amount of a wafer, a formation condition in forming a pattern on the wafer (steps S14, S15) when the wafer is installed on a wafer stage in a second chamber (step S13).例文帳に追加

制御装置は、ウエハが第２チャンバ内のウエハステージに設置されると（ステップＳ１３）、ウエハにパターンを形成する際の形成条件を、該ウエハの膨張量に応じて調整する（ステップＳ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁

To provide a dry film laminator capable of enhancing the lamination quality of a copper-clad laminated sheet and a dry film so as to make a defect such as breakage or residual copper hard to generate at the time of formation of a fine pattern circuit.例文帳に追加

ファインパターン回路の形成に際してカケや残銅等の欠陥が生じにくいように、銅張積層板とドライフィルムのラミネート品質を向上できるドライフィルムラミネート装置を提供する。 - 特許庁

To enable the formation of a fine conductor circuit pattern by forming a filled via wherein the inside of the via is completely filled with a plating metal without increasing the thickness of a conductor layer on the surface of a laminated board.例文帳に追加

積層板表面の導体層を厚くすることなくビア内が完全にめっき金属によって穴埋めされたフィルドビアを形成し、ファインな導体回路パターン形成を可能にすること。 - 特許庁

To enable reduction of fault in liquid immersion exposure by a method wherein acid which is melted and came out during liquid immersion exposure is compensated or supplemented seemingly, and further, a series of tacts such as exposure, development and pattern formation is compacted.例文帳に追加

液浸露光時に溶け出た酸を、補うもしくは、見かけ上補填すること、また露光・現像・パターン形成の一連のタクトをコンパクトにすることで液浸露光での不具合を低減すること。 - 特許庁

To improve manufacturing yield of disk media by eliminating the formation of a servo pattern which can uniformize a projection-to-depression ratio on a disk surface and requires a detailed physical process in particular.例文帳に追加

ディスク面上の凹凸比の均一化を図ることが可能で、かつ特に微細な物理的加工を要するサーボパターンの形成を省略することでディスク媒体の製造歩留まりを向上する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for the development of a substrate wherein it is possible to prevent very fine deposits from remaining on the substrate after a processing operation, especially on an open frame for the substrate or on a pattern formation region.例文帳に追加

現像処理後の基板、特に基板のオープンフレームやパターン形成領域に微小な付着物が残留するのを防止できる基板現像装置および基板現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in formation of a fine pattern even if a light shielding pigment is added at high concentration, and which is suitable for use as a black matrix material for a high light shielding or high definition color filter.例文帳に追加

高濃度の遮光性顔料を添加しても微細パターンの形成に優れ、高遮光又は高精彩カラーフィルター用のブラックマトリックス材料に好適な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed matter includes: a step in which a printing layer 109 is provided at a base material 107 using a predetermined pattern; and a step in which an opening 111 penetrating through the base material and the printed matter is provided in an opening formation region.例文帳に追加

基材１０７に所定パターンで印刷層１０９を設ける工程と、基材及び印刷層を貫通する開口部１１１を開口部形成領域に設ける工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a composite material, which allows a high flexibility in designing a conductive circuit and allows an easy formation of a conductive section having a fine pattern, without causing deterioration in an insulator.例文帳に追加

導電回路設計の自由度が高く、また、絶縁体のい劣化を生ず微細なパターンを有する導電部を容易に形成することのできる複合部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

A dielectric film of SiO2 is then deposited on the entire surface of the an n-type contact layer 13 followed by formation of a stripe mask pattern 25 extending in the (1-100) direction on the upper surface of n-type contact layer 13.例文帳に追加

次に、ｎ型コンタクト層１３の上に全面にＳｉＯ_2 からなる誘電体膜を堆積し、ｎ型コンタクト層１３の上面の（１−１００）方向に延びるストライプ状のマスクパターン２５を形成する。 - 特許庁

To provide an evaporation source and a thin film formation device forming a highly precise pattern on a large-size film forming object or an easily deflecting film forming object without causing a problem of mask strain.例文帳に追加

マスクの歪みの問題を招くことなく大型の成膜対象物又は撓みやすい成膜対象物に対して高精度のパターンを形成しうる蒸発源及び薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing method for discovering a high CMP rate, and for realizing high flattening, dishing amount reduction, and erosion amount reduction, and for realizing highly reliable metallic film embedding pattern formation.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lamination wiring board which makes filing of a via hole easy when an interlayer connection structure, wherein the thickness of an insulation layer is relatively large, is formed and enables high density pattern formation.例文帳に追加

絶縁層の厚さが比較的大きい層間接続構造を形成する際のビアホールの充填を容易にし，高密度なパターン形成ができる積層配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a metal polishing method for discovering a high CMP rate, and for realizing high flattening, dishing amount reduction, and erosion amount reduction, and for executing high reliable metallic film embedding pattern formation.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

To improve surface roughness (Ra) of a flat part of a mold made of resin used for a nano imprinting method and to reduce defects of formation of a pattern of a magnetic recording medium so as to enhance the productivity.例文帳に追加

ナノインプリント法に用いられる樹脂製モールドの平坦部の表面粗さ（Ｒａ）を改善し、磁気記録媒体のパターンの形成不良を低減し、生産性を向上させることができるようにする。 - 特許庁

The ready for win decision performances are done to determine whether the first figure 21 and the third figure 23 are displayed in the same pattern or not as objects in the formation of the ready for win state.例文帳に追加

このリーチ決定演出は、リーチ状態を形成する際に対象となる第１図柄２１と第３図柄２３が、同一の図柄となって表示されるか否かを決定するための演出である。 - 特許庁

There is provided a process of wiring a second conductive membrane DP electrically isolated from the conductive membrane EP by discharging liquid drops on the outside of the predetermined pattern formation area PI on the substrate P.例文帳に追加

基板Ｐ上の所定のパターン形成領域ＰＩの外側に液滴を吐出して、導電性膜ＥＰと電気的に分離された第２導電性膜ＤＰを配線する工程を有する - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which prevents spreading of chemical atmosphere that may occur during chemical processing and efficiently processes a pattern formation surface of a substrate with a heated fluid while heating the substrate.例文帳に追加

薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、基板を加熱しながら加熱流体により基板のパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

On an upper surface of the coil part 36, a region with a predetermined distance or more from the center seen from an axial direction of an output axis 31 is covered with a commutator pattern non-formation part 359 of a commutator disk 35.例文帳に追加

また、コイル部３６の上面は、出力軸３１の軸方向から見て中心から所定距離以上の領域が整流子ディスク３５の整流子パターン非形成部分３５９に覆われている。 - 特許庁

Furthermore, the image formation of the high precision can be performed by keeping sharpness of an electrostatic latent image pattern since the electrical resistance is increased by dark adaptation in the vicinity of a finishing position of contact of the 2nd part 12.例文帳に追加

また、第２の部分１２の接触終了位置付近では、上記電気抵抗が暗順応して高まるので、静電潜像パターンの鮮鋭度を保って高精細の画像形成ができる。 - 特許庁

To provide a thermal transfer medium enabling formation of a transfer pattern having a clear print, with excellent fixing properties and abrasion resistance, on any object of transfer constituted of a material of every sort.例文帳に追加

各種材料からなる被転写体のいずれに対しても、優れた定着性、耐擦過性をもって、鮮明な印字を有する転写パターンを形成することができる熱転写媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board with less short circuit defects between conductive circuits and excellent in circuit formability in the pattern formation of a conductive circuit of a printed wiring board by the semi-additive method.例文帳に追加

セミアディティブ法によるプリント配線板の導体回路パターン形成において、導体回路間のショート不良が少なく、回路形成性のよいプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a T-top shape and a round shape of the surface part of a chemical amplification type resist in the formation of a pattern of the resist utilizing an acid catalyzed reaction.例文帳に追加

本発明は、酸触媒反応を利用した化学増幅系レジストのパターン形成において、Ｔ−Ｔｏｐ形状やレジストの表面部分の丸まり形状を押さえる技術を提供する点にある。 - 特許庁

To provide a projection aligner which prevents blurs from occurring on a lens, by organic gas components being produced by applying light to an organic film which is used for formation of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパタンの形成に使われる有機膜に光を照射することによって生じる有機気体成分により、投影レンズに曇りが生じることを防止した投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a printed-wiring board and it's manufacturing method that achieves reliable electric connection between wiring layers and reliable pattern formation, and improves the manufacturing yield and productivity.例文帳に追加

配線層同士の電気的接続の高信頼性化およびパターン形成の高信頼性化を図り製造歩留まり、生産性などを向上できるプリント配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image formation system in which a document image is read by a monochromatic image forming device, and the document image and a woven pattern image of a color are overlapped with each other to form an image by a color image forming apparatus.例文帳に追加

モノクロ画像形成装置で原稿画像を読み取り、カラー画像形成装置により原稿画像とカラー色の地紋画像とを重ね合わせて画像を形成する画像形成システムの提供。 - 特許庁

To provide an image forming device or the like capable of adjusting an image by suppressing the influence of an optical memory on a detection pattern formed in a non-image-formation region during image forming operation.例文帳に追加

画像形成動作中における非画像形成領域に形成される検知用パターンに、光メモリーが与える影響を抑制して画像調整可能な画像形成装置等を提供すること。 - 特許庁

To provide a method that allows, in manufacturing members related to next generation displays, formation of a very fine thin film pattern at low cost on a substrate inferior to glass in heat resistance by an inverted printing process.例文帳に追加

次世代ディスプレイ関連部材の製造において、ガラスより耐熱性の劣る基板上に、反転印刷方法を介して、低コストで高精細な薄膜パターンを形成することを可能にする方法である。 - 特許庁

To provide a thin-film semiconductor element which has no matching margin in formation of a contact and wiring to greatly improve a degree of integration, and has increased flexibility of a layout pattern, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

コンタクトおよび配線形成時の合わせマージンがゼロであり、集積度を大幅に向上し、パターンレイアウトの自由度の拡大を可能とする薄膜半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, a suitability for miniaturization, a high productivity, and a damageless feature can be simultanesouly realized; and the functional film (such as the PZT film 206) can be processed along the region of no formation of the projected pattern 204.例文帳に追加

これにより、微細化適正・高生産性・ダメージレス化を両立させつつ、凸状パターン２０４の非形成領域に沿った機能膜（例えばＰＺＴ膜２０６）の加工を施すことが可能となる。 - 特許庁

Depending on the detection result, a predetermined process (purging process, wiping process, flashing process or the like) is performed on the inkjet head 101 and the action to discharge an ink droplet onto the pattern formation area 103 is performed.例文帳に追加

この検出結果に応じてインクジェットヘッド１０１に所定の処理（パージ処理、ワイピング処理やフラッシング処理等）を行った上でパターン形成領域１０３に対するインク滴の吐出動作を行う。 - 特許庁

To reduce downtime for an apparatus due to processing control for an image formation using a test pattern; and to obtain a stable image quality while employing an intermediate transfer method with high image superposing accuracy.例文帳に追加

画像重ね精度が高い中間転写方式を採用しながら、テストパターンを用いた画像形成のためのプロセス制御による装置のダウンタイムを低減し、かつ安定した画像品質を得る。 - 特許庁

To provide an electrophoretic display panel and its manufacturing method that enable energy-saving micromachining and formation of a continuous pattern with suppressed costs and a small number of processes.例文帳に追加

微細加工を省エネルギーで、かつコストが嵩まず、プロセス数が少なく、連続的なパターンの作製が可能で、かつ材質の選択の幅が広い電気泳動方式表示パネル及びその製造方法の提供にある。 - 特許庁

To solve the following problem: disconnection or increase and unevenness in wiring resistance due to resist residue remaining in distribution holes, or impossibility of formation of a fine circuit pattern due to swelling by development, in forming a copper wiring circuit by a dual damascene method in which distribution holes are formed prior to formation of distribution grooves using ArF lithography capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

微細パターン形成が可能なＡｒＦリソグラフィを用い、配線孔を配線溝に先だって形成するデュアルダマシン法で銅配線回路を作る場合、配線孔内に残るレジスト残渣の影響で断線や配線抵抗の増大およびバラツキが生じるという問題、あるいは現像膨潤によって微細回路パターン形成ができないという問題を解決することが本発明が解決する課題である。 - 特許庁

To provide a photosensitive planographic printing plate having high sensitivity and giving satisfactory printing resistance even under exposure conditions which irradiate the plate with small energy per unit area and to particularly provide a photosensitive planographic printing plate suitable for pattern formation with laser light, suitable particularly for plate making by direct pattern formation with laser light having 300-1,200 nm wavelength and exhibiting higher printing resistance than a conventional planographic printing plate.例文帳に追加

単位面積当たりの照射エネルギーが小さい露光条件に於いても充分な耐刷性を与え、高い感度を有する感光性平版印刷版、特にレーザー光による描画に適し、さらに、３００〜１，２００ｎｍの波長を有するレーザー光での直接描画での製版に特に好適であり、従来の平版印刷版に比べ、高い耐刷性を発現する感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a dense pattern independently of standing waves and capable of further forming a resist pattern having a high aspect ratio by using an underlayer film excellent in dry etching resistance and usable as a thin film in combination with a specified polysiloxane-base radiation-sensitive resin composition having high transparency at ≤193 nm wavelength, and to provide a bilayer film for pattern formation.例文帳に追加

ドライエッチング耐性に優れ薄膜として使用可能な下層膜と、１９３ｎｍ以下の波長において透明性の高い特定のポリシロキサン系感放射線性樹脂組成物とを組み合わせて用いることにより、定在波による影響を受けることがなく、緻密なパターンを形成することができ、さらに高いアスペクト比を有するレジストパターンを形成することができるパターン形成方法およびパターン形成用多層膜を提供する。 - 特許庁

To provide a drive signal formation device for delivery head, a printer and a drive signal formation method for delivery head which can keep smaller a memory capacity of a storage means for storing the number of pattern of waveform data used even if this number gets more and prevent a big load from being imposed on a central processing unit.例文帳に追加

使用する波形データのパターン数が多くなっても、それを記憶する記憶手段の記憶容量を小さく済ますことができ、しかも中央処理装置に大きな負荷がかかることのない吐出ヘッド用駆動信号生成装置、印刷装置及び吐出ヘッド用駆動信号生成方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently, a slope connected to the active surface of the electronic element from the surface of the wiring substrate is formed (a slope formation process), a metal wiring connecting an electrode terminal on the active surface to a wiring pattern on the wiring substrate is formed (a metal wiring formation process).例文帳に追加

続いて、電子素子の周囲に、配線基板の表面から電子素子の能動面に繋がる斜面を形成し（スロープ形成工程）、この斜面の表面に液滴吐出法により能動面上の電極端子と配線基板上の配線パターンとを接続する金属配線を形成する（金属配線形成工程）。 - 特許庁

The curve amount of the image formation line in the main scanning line direction is calculated, on the basis of a mark-pattern formed in three parts different from one another in the main scanning line direction of an intermediate transfer belt 20, and color shift in a subscanning line direction is corrected, on the basis of the curve amount of the image formation line in the main scanning line direction.例文帳に追加

中間転写ベルト２０の主走査線方向の互いに異なる３箇所に形成されたマークパターンに基づいて、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量を算出し、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量に基づき、副走査線方向の色ずれ（レジスト）補正を行う。 - 特許庁

To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.例文帳に追加

フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁

In the method for forming a chemical amplification type resist pattern by photolithography, a chemical amplification type resist film is formed on a substrate, a coating comprising amorphous polyolefins and having a smaller thickness than the resist film is formed on the resist film and the formation of a latent image pattern, the removal of the coating and development are successively carried out to form the objective chemical amplification type resist pattern.例文帳に追加

フォトリソグラフィーにより化学増幅型レジストパターンを形成する方法において、基板上に化学増幅型レジスト膜を形成したのち、その上に、該レジスト膜の厚さ以下の厚さを有する非晶性ポリオレフィン類からなる皮膜を形成し、次いで潜像パターンの形成、該皮膜の除去及び現像処理を順次施し、化学増幅型レジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a photocuring blue colorant composition for color filter excellent in pattern forming property by UV light laser which is excellent in hue and with which the chipping and peeling of the pattern-like film formed can be suppressed and which is good in pixel shape and can form a coloring pattern excellent in contact hole formation property, a color filter in which the composition is used, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display apparatus having the color filter.例文帳に追加

色相に優れ、且つ、形成されたパターン状の膜における欠けや剥がれが抑制され、画素形状が良好であり、コンタクトホール形成性にも優れた着色パターンを形成しうる、紫外光レーザーによるパターン形成性に優れた光硬化性青色着色組成物、それを用いたカラーフィルタ、その製造方法、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

Based on predetermined line data, the control circuit generates the punch data including: draw data for drawing predetermined pattern(s) on the workpiece W through formation of a plurality of penetrations H; cut data for cutting along the outline of the pattern(s) ; and auxiliary cut data for forming cut E which helps the user when detaching the outline of the pattern from workpiece W.例文帳に追加

制御回路は、所定の模様のラインデータから、被加工物Ｗに対し複数の小孔Ｈにより所定の模様を描画するための描画データと、模様の輪郭に沿って切断するためのカットデータと、被加工物Ｗから模様の輪郭部分を切離す作業をユーザが容易に行うための切込みＥを形成する補助切込データとを含む打刻データを作成する。 - 特許庁