「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method, program, and device for image formation for pattern images for use in an integral photography (IP) method on a light beam reproducing method.例文帳に追加

インテグラルフォトグラフィー（ＩＰ）法あるいは光線再生法において用いるパターン画像のための画像形成方法、画像形成プログラム及び画像形成装置を堤供することを目的とする。 - 特許庁

In an image conversion part 43, binarization processing is performed to a multilevel image stored in an image development memory 41 using the dither pattern to store a binary image in an image formation memory 44.例文帳に追加

画像変換部４３においては、このディザパターンを用いて画像展開メモリ４１に格納された多値画像に対し２値化処理を行い画像形成メモリ４４に格納する。 - 特許庁

To form solder part and the solder grains on each conductor pattern, a paste containing the solder grains is screen printed and the solder grains are heat melted to facilitate formation.例文帳に追加

導体パターン上に上記半田部分や半田粒を形成するには、半田粉含有ペーストをスクリーン印刷し、半田粉を加熱溶融させることにより、簡単に形成することができる。 - 特許庁

To provide the producing method of liposome using lipid pattern for efficiently forming liposome of a uniform shape from a uniformly patterned lipid film by electro-formation.例文帳に追加

エレクトロフォーメーションにより均一な形のパターン化された脂質フィルムから均一な形のリポソームを効率的に形成することができる脂質パターンを用いたリポソームの製造方法を提供する。 - 特許庁

To recycle toner without using a complicated foreign matter separation device, to obtain ideal intervals of toner pattern image formation and an ideal number of formed images, and to improve image quality.例文帳に追加

複雑な異物分離装置を用いることなくトナーリサイクルを可能とし、理想的なトナーパターン作像間隔や作像数を得ることができ、高画質化の向上を図ることができるようにする。 - 特許庁

The protective film pattern 3 is disposed on the same layer as the transparent electrode film 1 and is preferably formed of the same material as the transparent electrode film 1 upon the formation of the transparent electrode film 1.例文帳に追加

保護膜パターン３は、透明電極膜１と同層上に設けられ、透明電極膜１の形成時に透明電極膜１と同じ材料で形成することが好ましい。 - 特許庁

An alignment mark M for performing pattern formation by irradiating electron beam is formed so as not to penetrate an active Si layer 53 to prevent charge-up in a box layer 52.例文帳に追加

電子線照射によるパターン形成を行うためのアライメントマークＭは、活性Ｓｉ層５３を貫通することのないように形成し、ボックス層５２におけるチャージアップを防ぐようにした。 - 特許庁

This resist ink is used in resist pattern formation according to the direct resist drawing system and is characterized in that it is hardened by making contact with metal atoms on the surface of a substrate.例文帳に追加

レジスト直描方式によるレジストパターン形成に用いられるレジストインクにおいて、基材表面の金属原子と接触することにより硬化する事を特徴とするレジストインクを用いる。 - 特許庁

To solve both of coping to complicated shapes and uniformity on an exposure surface which are defects in conventional technology in pattern formation by the proximity exposure of photosensitive resist.例文帳に追加

感光性レジストの近接露光によるパターン形成において、従来技術の欠点であった形状の複雑化への対応、及び露光面内の均一化を同時に解決すること。 - 特許庁

To provide a novel photopolymerizable polysilane compound which has both photosensitivity and high transparency, and enables pattern formation of high accuracy having a high refractive index and good stability.例文帳に追加

感光性を有するとともに高透明性を有し、高屈折率かつ熱安定性が良好な高精度のパターン形成を可能とする新規な光重合性ポリシラン化合物を提供すること。 - 特許庁

To shorten the processing time for photo proximity effect correction and to suppress an increase of TATs in formation of pattern data even if the variations in the line widths and base widths of photomask patterns increase.例文帳に追加

光近接効果補正の処理時間の短縮を図り、フォトマスクパターンの線幅やスペース幅のバリエーションが増加しても、パターンデータの作成におけるＴＡＴの増加を抑制する。 - 特許庁

To provide an ink suitable to the formation of a circuit pattern such as an electroconductive circuit, which contains an electroconductive substance capable of conducting accurate printing and also contains a compound polymerizable with an active energy ray.例文帳に追加

導電回路などの回路パターンの形成に適しており、精細な印刷の可能な導電物質および活性エネルギー線重合性化合物を含む導電性インキの提供。 - 特許庁

The metal reflecting layer of the diffraction structure formation body having the metal reflecting layer conforming with the shape of the diffraction structure is provided in a pattern shape on the surface of the diffraction structure.例文帳に追加

回折構造の形状に追従した金属反射層を有する回折構造形成体の金属反射層が、回折構造の面上にパターン状に設けられていること。 - 特許庁

Provided are a positive resist composition comprising a polynuclear phenol compound having groups each having a sulfonate or sulfone bond and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

（Ａ）スルホネート結合若しくはスルホン結合を有する基を有する多核フェノール化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

A copolymer having a specific acrylate monomer or methacrylate monomer as a principal structure is used as an antireflection film in the formation of an ultrafine pattern in the semiconductor production process.例文帳に追加

特定のアクリレート系又はメタアクリレート系単量体を基本構造とする共重合体を、半導体の製造工程中、超微細パターンの形成時に反射防止膜に使用する。 - 特許庁

By a photoengraving method, a photoresist 30 having a pattern in which the end of a gate structure 15 and the formation scheduled region of the photodiode 18 adjacent to the end are opened is formed.例文帳に追加

写真製版法によって、ゲート構造１５の端部上、及び該端部に隣接するフォトダイオード１８の形成予定領域上が開口したパターンを有するフォトレジスト３０を形成する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power and excellent in PED stability in the formation of a contact hole pattern in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造におけるコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にＰＥＤ安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To make an arrangement interval between a gate electrode MG of a memory cell transistor and a gate electrode SG of a selection gate transistor narrow through fine pattern formation of the gate electrodes MG and SG.例文帳に追加

メモリセルトランジスタのゲート電極ＭＧと選択ゲートトランジスタのゲート電極ＳＧとの微細パターン形成で、ゲート電極ＭＧ−ＳＧ間の配置間隔を狭くできるようにする。 - 特許庁

To reduce toner consumption and light emitting energy of a light emitting part during detection of the position or toner density of a toner pattern without lowering working efficiency in essential image formation when performing such detection.例文帳に追加

トナーパターンの位置やトナー濃度の検出を行う際に、本来の画像形成の作業効率を低下させず、検出の際のトナー消費量・発光部の発光エネルギを低減する。 - 特許庁

In a halftone processing part 10, the N-ary processing based on the predetermined constraint information is applied to the calculated scan duty and a dot pattern to be a formation object is prepared.例文帳に追加

ハーフトーン処理部１０８では、該算出された走査Ｄｕｔｙに対し、予め定められた制約情報に基づくＮ値化を施して形成対象となるドットパターンを作成する。 - 特許庁

In addition, at formation of a wiring hole pattern a positive resist is used as a resist and wiring holes in the outer peripheral section of the wafer are crushed, by selectively heat-treating the outer peripheral section, after and development following the resist exposure.例文帳に追加

また配線孔パターンを形成する際のレジストとしてポジレジストを用い、パターン露光後の現像後にウエハ外周部を選択的に熱処理しウエハ外周部の配線孔を潰す。 - 特許庁

The high voltage output value of the primary electrostatic charge bias in the formation of a reference batch pattern is changed in accordance with the integrated time by referencing the data on a dark attenuation rate table.例文帳に追加

暗減衰率テーブル上のデータを参照することで、この積算時間に基づいて基準パッチパターンの形成における一次帯電バイアスの高圧出力値が変更される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed circuit board, in which an anchor profile is very small by the small number of processes and which is suitable for a fine pattern by a method, wherein a dry etching operation and a sputtering film formation operation are used.例文帳に追加

ドライエッチングやスパッタ成膜を用いることにより、少ない工程数でアンカープロファイルが非常に小さく、且つ微細パターン化に適したプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a building plate which facilitates formation of a building member such as a corner member that can easily match a pattern and a color with those of an external wall, to thereby prevent degraded appearance of the external wall.例文帳に追加

柄や色合いを合わせやすいコーナー部材などの建築部材を容易に形成することができて外壁の外観の低下を防止することができる建築板を提供する。 - 特許庁

To provide immersion type exposure method and apparatus capable of forming a required pattern by preventing image formation performance from being deteriorated due to the influence of polarization and securing prescribed contract.例文帳に追加

偏光の影響による結像性能の劣化を防止して所定のコントラストを確保し、所望のパターンを形成することができる液浸型の露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The method enables formation of a high-saturation, multi-gradation, complex pattern on a metal surface by irradiating the metal surface with the laser beam twice or more.例文帳に追加

本方法では、レーザ光を金属表面上に２回以上の複数回照射することにより、彩度が高く色階調の多い複雑な紋様を金属表面に描くことが可能になる。 - 特許庁

To provide a method for producing barrier ribs using a photosensitive paste, by which even a thick film can be subjected to pattern formation with small exposure energy (high sensitivity) and excellent productivity is achieved.例文帳に追加

感光性ペーストを用いる隔壁の製造方法であって、厚膜でも低露光量（高感度）でパターン形成が可能であり、生産性に優れた隔壁の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic green sheet which allows the formation of a fine conductor pattern on a substrate whose surface is applied with a mold release treatment, and also to provide a method of manufacturing a ceramic electronic component.例文帳に追加

表面に離型処理が施された基材上に微細な導体パターン部を形成できるセラミックグリーンシートの製造方法及びセラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Pre-alignment is corrected in first pattern formation by using a photomask with plural transparent windows on a peripheral part of a wafer.例文帳に追加

また、ウエファ周端部の品質上不完全領域にはパターンを形成しない方法ではウエファとフォトマスクの合わせずれの確認ができず、パターンずれが発生してしまう問題があった。 - 特許庁

NEW COMPOUND, METHOD FOR SYNTHESIZING THE SAME, INK, INK CARTRIDGE, RECORDING UNIT, INKJET RECORDING APPARATUS, RECORDING METHOD, LIQUID COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, ARTICLE, ENVIRONMENTAL HISTORY-DETECTING METHOD AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

新規化合物とその合成方法、インク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、液体組成物、パターン形成方法、物品、環境履歴検知方法及び記録媒体 - 特許庁

The pattern formation inhibition region 19 is spread from an outer rim of a dicing region 13 to an outer rim of a region where, in an exposure apparatus, the light passing through inside a blind enters.例文帳に追加

パターン形成禁止領域１９は、ダイシング領域１３の外縁から露光装置においてブラインドの内側を通過した光が当たる領域の外縁までの領域である。 - 特許庁

A second half-tone processing unit 110 executes binarization processing on the calculated scan duty based on predetermined constraining information and generates a dot pattern serving as an object for formation.例文帳に追加

第２ハーフトーン処理部１１０では、該算出された走査Ｄutyに対し、予め定められた制約情報に基づく２値化を施して形成対象となるドットパターンを作成する。 - 特許庁

The photosensitive film for circuit formation has a cushion layer, a photosensitive layer of 0.1 to 50 μm in thickness, and a cover film in order on a base film and the surface which comes into contact with the pattern mask does not contaminate the mask.例文帳に追加

ベースフィルムの上に逐次クッション層、厚みが０．１〜５０μｍの感光層、カバーフィルムを有し、パターンマスクと密着する面がマスク汚染性のない回路形成用感光性フィルム。 - 特許庁

To perform highly accurate processing in which punch-through of resist and striation due to resist damage are suppressed, in pattern formation by dry etching using a resist after the generation of ArF lithography as a mask.例文帳に追加

ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成において、レジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁

This article group stacking device 1 is provided with a liftable/lowerable conveyance means 11 receiving an article group A in an alignment pattern from an article group formation means 3 and conveying the article group A to a conveyance direction.例文帳に追加

物品群積付け装置１は、物品群形成手段３から整列パターンの物品群Ａを受け入れて搬送方向に搬送する昇降可能な搬送手段11を備える。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation method that can decrease the sensitivity dependence on the immersion time and acid solution discharged amount into immersion solution, and that is suitable for immersion exposure.例文帳に追加

レジスト感度の液浸時間依存性、および液浸液への酸溶出量を低減することが可能となる、液浸露光に好適なレジストパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

In a hardness testing machine 100, the surface of a sample S is captured by a CCD camera 12, and a pattern formation program 63a is executed by a CPU 61, then, a user can form an optional pattern to be projected on the surface of the sample S.例文帳に追加

硬さ試験機１００において、ＣＣＤカメラ１２により試料Ｓの表面が撮像され、ＣＰＵ６１が、パターン作成プログラム６３ａを実行することによって、その試料Ｓの表面に投影する任意のパターンをユーザが作成することができる。 - 特許庁

To provide an insect-proof net and an insect-proof screen door having no fear that pattern is stripped by cleaning, capable of reducing a fear that stitches are clogged due to the formation of the pattern and being produced with few working steps and a low cost.例文帳に追加

清掃洗浄を行なっても模様が剥げてしまうおそれがなく、模様の形成によって編み目が詰まってしまうおそれを減少させることができ、少ない加工工程で且つ低コストで生産できる防虫ネット及び防虫網戸の提供を図る。 - 特許庁

To provide: a positive resist composition which, in resist pattern formation, exhibits excellent lithography characteristics and can diminish defects; a method of forming a resist pattern using the positive resist composition; and a polymeric compound useful as a base component of the positive resist composition.例文帳に追加

レジストパターン形成において、優れたリソグラフィー特性を示し、ディフェクトを低減できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with sufficient sensitivity and resolution, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method and a method for manufacturing a printed wiring board using the composition.例文帳に追加

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

The mail forming function 14 is constituted so as to be capable of selecting the quotation pattern from the main patterns A-E in the formation of a return mail to a prescribed received mail and also selecting the quotation pattern with the sub-patterns A-C composed to the main patterns.例文帳に追加

メール作成機能１４では、所定の受信メールに対する返信メールの作成時に、主パタンＡ乃至Ｅの中から引用パタンが選択可能に構成され、また、副パタンＡ乃至Ｃを前記主パタンに複合させる選択も可能に構成されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a double-sided photomask, wherein there is not risk that a light shielding pattern on a front surface is damaged by abnormal discharge when a light shielding film is formed on a rear surface after formation of the light shielding pattern on the front surface.例文帳に追加

両面フォトマスクの作製方法において、表面に遮光パターンを形成した後、裏面に遮光膜を成膜するときに、異常放電による表面側の遮光パターンへのダメージ発生の恐れがない両面フォトマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

To improve the yield in a manufacturing process step by gently sloping the pattern sectional shape of the pattern formation performed by using selective etching by dry etching and abating a shorting defect in manufacturing a liquid crystal display device of an active matrix type.例文帳に追加

アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の製造に際し、ドライエッチングによる選択エッチングを用いて行なったパタン形成のパタン断面形状をなだらかにし、ショート不良を低減することにより製造工程における歩留まりを向上すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has high removability of development residue, allows formation of a fine pattern and is excellent in heat resistance, toughness, resolution and insulation; a forming method of a photosensitive film, a photosensitive laminate and a permanent pattern, using the photosensitive composition; and a printed board.例文帳に追加

現像残渣除去性が高く、微細パターンが形成でき、耐熱性、強靭性、解像性、及び絶縁性に優れている感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

Plural terminals arranged along a formation direction of a second differential signal pattern are formed on a second connector, and the second differential signal pattern is connected to terminals which are some of the plural terminals of the second connector and located in the neighborhood of a side at which an image processing circuit is mounted.例文帳に追加

第２のコネクタは、第２の差動信号パターンが形成される方向に沿って並ぶ複数の端子が形成され、第２の差動信号パターンは第２のコネクタの複数の端子のうち、画像処理回路が実装される側の近傍に位置する端子に接続される。 - 特許庁