「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming method, capable of forming a fine pattern with high accuracy, without requiring a hard mask, further simplifying the formation step than conventionally, and reducing the manufacturing cost of the semiconductor device, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device and the semiconductor device.例文帳に追加

ハードマスクを必要とせずに、微細なパターンを高精度で形成することができ、従来に比べて工程の簡略化と半導体装置の製造コストの低減を図ることのできるパターン形成方法、半導体装置の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a glass ceramic wiring board, where dimension precision and precision in the formation of a surface circuit pattern are high, a resistor pattern is formed, and covering by a thermosetting resin is not required in plating, by surely restricting the sintering shrinkage of a glass ceramic green sheet.例文帳に追加

ガラスセラミックグリーンシートの焼結収縮を確実に拘束して、寸法精度および表面回路パターンの形成の精度が高く、抵抗体パターンが形成されており、メッキを施す際に熱硬化樹脂による被覆が不要なガラスセラミック配線基板を提供すること。 - 特許庁

The method for forming an impurity diffusion layer includes a pattern formation step, whereby a pattern is formed by printing the diffusion agent composition onto a semiconductor substrate, and a diffusion step, whereby the impurity diffusion component (A) in the diffusion agent composition is diffused onto the semiconductor substrate.例文帳に追加

また、不純物拡散層の形成方法は、半導体基板に、上述の拡散剤組成物を印刷してパターンを形成するパターン形成工程と、拡散剤組成物の不純物拡散成分（Ａ）を半導体基板に拡散させる拡散工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a composite glass epoxy substrate, along with a metal multilayer substrate using the same, capable of satisfying such opposing demands for resin substrate flatness and wiring pattern adhesion strength, as required for fine wiring pattern formation using a rigid resin substrate.例文帳に追加

リジッド樹脂基板を用いた微細な配線パターン形成において要求される、樹脂基板の平坦性と配線パターンの密着強度の二律背反の問題を解決するための複合ガラスエポキシ基板及びそれを用いた金属積層基板を提供する。 - 特許庁

Then, a pattern layer 20 is formed, and according to the pattern, an etch-stopping ion implantation layer 6, whose formation depth position from the first main surface of the second substrate 1 varies, is formed at a position shallower than that of the ion implantation layer 4 for peeling.例文帳に追加

その後、パターン層２０を形成するとともに、そのパターンに応じた形で、第二基板１の第一主表面Ｊからの形成深さ位置がそれぞれ異なるエッチストップ用イオン注入層６を、剥離用イオン注入層４よりも浅い位置に形成する。 - 特許庁

The scanning type probe microscope is provided further with an acquisition-registering means for acquiring and registering a reference pattern for alignment, and a recipe formation means for recipe-registering the luminous energy to an illuminance when registering an image pattern to a recipe by the acquisition-registering means.例文帳に追加

さらに走査型プローブ顕微鏡は、アライメントのための参照用パターンを取得・登録する取得登録手段と、この取得登録手段によって画像パターンをレシピに登録した時の照度に光量をレシピに登録するレシピ化手段とを備える。 - 特許庁

To provide a method which pattern-forms a thin film in a prescribed region on a substrate by using liquid materials by an application method at low cost and simply and easily, and a manufacturing method of an organic electroluminescent element, a semiconductor element, and an optical element which are obtained by using the pattern-formation method.例文帳に追加

塗布法により液状材料を用いて、低コストで且つ簡便に基板上の所定の領域に薄膜をパターン形成する方法及びこの方法を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、半導体素子及び光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide: an image forming apparatus that stores information associated with a woven pattern image which is not reflected on a print result when there are a plurality of woven pattern images; an information processing apparatus; an image formation system, image forming program; and an image forming apparatus control program.例文帳に追加

複数の地紋画像が存在する場合に、印刷結果に反映されなかった地紋画像に関する情報を保存することが可能な画像形成装置、情報処理装置、画像形成システム、画像形成プログラム、画像形成装置制御プログラムを提供する。 - 特許庁

Since the permissible range of the energy is narrow with the photosensitive material, such as the X-ray film 12, the formation of the dot pattern at the point of the time the transient period is past by the previous irradiation with the laser beam LB is extremely effective in forming the dot pattern of the adequate shape.例文帳に追加

Ｘレイフィルム１２等の感光材料では、エネルギーの許容範囲が狭いため、予めレーザービームＬＢを照射して過渡期を過ぎた時点でドットパターンを形成することは、適正な形状のドットパターンを形成する上で非常に有効である。 - 特許庁

In a color image forming apparatus, reflected light from the intermediate transfer member on which the pattern image for color matching among images of respective colors is formed is received by the optical sensor, and a formation position of the pattern image is read on the basis of a maximum peak of an output signal of the optical sensor.例文帳に追加

カラー画像形成装置は、各色の画像の色合わせを行うためのパターン画像が形成された中間転写体からの反射光を光センサで受光し、光センサの出力信号の最大ピークに基づいて、パターン画像の形成位置を読み取る。 - 特許庁

To obtain an infrared absorption ink excellent in an infrared absorption characteristic, a toner for electrophotography, an ink jet record liquid, a thermal transcription material for invisible pattern formation and an invisible pattern using them by using a specific infrared absorption material.例文帳に追加

本発明の目的は、特定の赤外線吸収材料を適用し、赤外線吸収特性に優れた不可視パターン形成用の赤外線吸収インキ、電子写真用トナー、インクジェット記録液、熱転写材料およびそれらを用いた不可視パターンの提供にある。 - 特許庁

Throughput in the semiconductor manufacturing process is increased and thereby the manufacturing process of a phtoresist pattern is reduced when applying the exposure device with the aforementioned structure and an exposure process to the photoresist pattern formation of the semiconductor substrate W with a step.例文帳に追加

前述した構成要素を有する露光装置及び露光工程を段差が存在する半導体基板Ｗのフォトレジストパターン形成に適用すると、半導体製造工程でのスループットを増加させるとともに、フォトレジストパターンの製造工程を短縮することができる。 - 特許庁

To provide a conductive pattern member formation method capable of providing a functional film forming ink on a conductive pattern to accurately define a boundary location of an end part of a functional film by using an ink jet system, at low cost, at an arbitrary position, with an arbitrary film thickness.例文帳に追加

インクジェット方式を用いて、低コストで、任意の位置に、任意の膜厚で、機能膜の端部の境界位置を正確に、機能性膜形成インクを導電性パターン上に付与することが可能な導電性パターン部材形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a transfer member which suppresses defective formation and defective transfer of an electric conductor and can form and transfer a fine pattern and to provide a method for manufacturing the transfer member, electronic parts adaptable to high frequency and a pattern forming method.例文帳に追加

本発明は、導電体の形成不良と転写不良を低減させ、ファインパターンを形成、転写することができる転写部材及びその製造方法と高周波に対応できる電子部品及びパターン形成方法を提供することを目的としたものである。 - 特許庁

To provide a mold for imprints wherein the peeling quality obtained between the mold and a hardened resist is improved, and such problems are reduced as the destruction, peeling, and sticking to the mold of the hardened resist, and as the deformation and dimensional abnormality of the obtained resist pattern, and further, the formation of the good resist pattern is made possible.例文帳に追加

モールドと硬化したレジスト剥離性を向上させ、硬化したレジストの破壊や剥離、モールドへの付着、得られるレジストパターンの変形、寸法異常等の問題を低減し、良好なレジストパターンの形成を可能とするインプリント用モールドを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for making an exposure mask which enables transfer formation of a real pattern with high dimensional accuracy with respect to the design pattern onto a wafer by proximity effect correction considering the loading effect arisen in a dry etching process for making an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク作製のドライエッチング工程で発生するローディング効果も考慮した近接効果補正により、設計パターンに対する寸法精度の良好な実パターンをウェハ上に転写形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

In order to attain the object, a pattern formation body is provided which is characterized by being having a coarse and fine pattern consisting of absorption regions and dense regions and character imparting layers each of which is formed in the dense region and which contains character imparting agent.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、吸収領域と緻密領域とからなる粗密パターンと、上記緻密領域上に形成され、特性付与剤を含有する特性付与層とを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To provide a titanium black dispersion composition for forming a light-shielding film, which has high dispersibility of titanium black and high storage stability; and a radiation-sensitive composition having good flatness due to reduced residue in pattern formation leading to no generation of roughness on the top face of the pattern.例文帳に追加

チタンブラックの分散性が高く、保存安定性の高い遮光膜形成用のチタンブラック分散組成物、および、パターン形成したときに、残渣が抑制され、パターン上面の荒れが発生せず平坦性の良好な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition suitable for the formation of an interlayer insulating film having high heat resistance, high solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant, and having a large development margin that allows formation of a favorable pattern even when a developing time exceeds the optimal developing time in a developing process.例文帳に追加

高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率及び低誘電率の層間絶縁膜の形成に好適であり、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できる大きな現像マージンを有するポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

The inclination of an LR camera is aligned with that of a reference line of a master plate, a focus of the LR camera is changed from a pattern formation plane of the master plate to a nozzle formation plane of the head, so that the inclinations of the heads are aligned to that of the LR camera to align the inclinations of a plurality of the heads.例文帳に追加

ＬＲカメラの傾きとマスタープレートの基準線の傾きとを一致させ、ＬＲカメラの焦点をマスタープレートのパターン形成面からヘッドのノズル形成面に切り替え、ヘッドの傾きをＬＲカメラの傾きと一致させて、複数のヘッドの傾きを一致させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus that suppresses the quantity of warpage in a substrate by forming a film having an internal stress only on the rear surface of the substrate without damaging the front surface thereof and consistently applies film formation to the rear surface and pattern formation to the front surface.例文帳に追加

内部応力を有する膜を基板の裏面にのみ形成することにより、基板の反り量を抑制し、その際に基板の表面にダメージを与えず、裏面に対する成膜と表面に対するパターン形成とを一貫して行う半導体製造装置を得られるようにする。 - 特許庁

The correction amount related to the image formation contrast potential is calculated based on a relation between the stored detection density and the density of the specified pattern formed on the image carrier 4 and detected by the optical sensor 40 at a prescribed timing, then, the image formation contrast potential is adjusted by the correction amount.例文帳に追加

そして、記憶された検出濃度と、所定のタイミングで像担持体４上に形成される特定パターンの光学センサ４０による検出濃度との関係に基づいて、作像コントラスト電位に対する補正量を演算して、該補正量で作像コントラスト電位を調整する。 - 特許庁

Plasma treatment is carried out for the stress distortion formation film 24 using the third resist pattern 25 as a mask to reform the upper side portion of a first active region 11a in the stress distortion formation film 24 so that a tensile stress containing portion 24A is formed.例文帳に追加

第３のレジストパターン２５をマスクにして、応力歪み生成膜２４に対してプラズマ処理を行うことにより、応力歪み生成膜２４における第１の活性領域１１ａの上側部分を改質して引っ張り応力を生じる引っ張り応力含有部２４Ａを形成する。 - 特許庁

In the test pattern, a first region where the formation density of first dots is higher than that of second dots, and a second region where the formation density of second dots is higher than of the first dots are mixed in main and sub-scanning directions.例文帳に追加

このテストパターンは、第１のドットの形成密度が第２のドットの形成密度よりも高い第１の領域と、第２のドットの形成密度が第１のドットの形成密度よりも高い第２の領域とが、主走査方向および副走査方向に混在するテストパターンである。 - 特許庁

Since several rectangle openings from which size differs are provided in the first formation aperture 6 and several character openings from which size differs in the second formation aperture 11 are provided according to it, the optimal opening size can be selected according to the circuit pattern, and the reduction of the number of shots can be attained.例文帳に追加

第１成形アパーチャ６にサイズの異なる複数の矩形開口を設け、それに合わせて、第２成形アパーチャ１１にサイズの異なる複数のキャラクタ開口を設けるため、回路パターンに応じて最適な開口サイズを選択することができ、ショット数の削減が図れる。 - 特許庁

After a first resist pattern 52 for opening a logic element formation region 32 is formed, a third insulating film 18A made of silicon oxide is etched by a fluoric acid aqueous solution with the first resist pattern 52 as a mask, thus removing a portion for covering the logic element formation region 32 including a buried element separation film 15B of the third insulating film 18A.例文帳に追加

ロジック素子形成領域３２を開口する第１のレジストパターン５２を形成した後、第１のレジストパターン５２をマスクとして、酸化シリコンからなる第３の絶縁膜１８Ａに対して、弗酸水溶液によるエッチングを行なうことにより、第３の絶縁膜１８Ａの埋め込み素子分離膜１５Ｂを含むロジック素子形成領域３２を覆う部分を除去する。 - 特許庁

Next, the density of the developer image attached to the non subject region in formation of the test pattern is detected, the ghost occurrence level and a transfer bias level in which no ghost phenomenon occurs based on the density level of the developer in the non subject region of the test pattern are estimated and the transfer bias level for image formation according to the estimate is set.例文帳に追加

そして、テストパターンの形成の際に非対象領域に付着した現像剤像の濃度を濃度検出センサ７１によって検知し、ゴースト発生レベルと、テストパターンにおける非対象領域の現像剤像の濃度レベルとに基づいてゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルを推測し、その推測に応じた画像形成用の転写バイアスレベルを設定する。 - 特許庁

A technology which segments the halftone formation bitmap into a plurality of image tiles, compares each image tile with a corresponding halftone-formed reference pattern, and identifies it as the one comprising a uniform region by which halftone is formed if it is compatible with the corresponding reference pattern and detects a region which is not uniform in the halftone formation bitmap.例文帳に追加

ハーフトーン形成ビットマップを複数のイメージフタイルに区分化すること、各イメージタイルを対応するハーフトーン形成された基準パターンと比較すること、及び、これが対応する基準パターンと適合する場合には、該イメージタイルをハーフトーン形成された一様な領域を含むものとして識別することを含む、ハーフトーン形成ビットマップにおいて一様でない領域を検出する技術。 - 特許庁

This invention in related to the formation of a semiconductor device laminated on a substrate 1 including a step forming laminated bodies 2, 3, 4, 5 as well as a forming step of a circuit element by photolithography including the formation of an alignment mask, the reference pattern by the aperture of the alignment mask as well as another mask specifying the circuit element aligned with the reference pattern.例文帳に追加

本発明は、基板（１）上に積層体（２，３，４，５）を形成する工程と、位置合わせマスクの形成、このマスクの開口部による基準パターンの形成、及びこの基準パターンに位置合わされた回路素子を規定するマスクの形成を含むフォトリソグラフィにより回路素子を形成する工程を具える基板上に集積化された半導体装置を形成する方法に関するものである。 - 特許庁

The exposure device equipped with a lighting optical system having a first lighting light source 1 for drawing based upon exposure pattern data and a lighting optical system having a second lighting light source 2 for irradiating a desired area including a pattern-drawn area with an energy beam is used to achieve high-precision pattern formation based on the exposure pattern data with high throughput at low cost.例文帳に追加

露光パターンデータに基づいて描画するための第１の照明光源１を有する照明光学系と、前記パターン描画された領域を含有する所望の面積に対してエネルギー線を照射するための第２の照明光源２を有する照明光学系とを備えた露光装置を用いることにより、露光パターンデータに基づく高精度のパターン形成を高スループットかつ低コストに達成する。 - 特許庁

To provide a light-emitting device in which a circuit pattern having a glossy surface can be obtained without requiring plating or etching processing, and processes can be reduced and simplified as a result, a high-density circuit pattern can be easily formed, and the circuit pattern having the glossy surface can be efficiently formed by avoiding the formation of a glossy surface on a circuit pattern which does not need gloss.例文帳に追加

めっき加工やエッチング加工を行うことなく光沢面を有する回路パターンを得ることができて工程を数少なくして簡略化することができ、また、高密度の回路パターンを容易に形成することができ、さらに、光沢が不要な回路パターンには光沢面が形成されないようにして効率よく回路パターンの表面を光沢面に形成することができる発光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

(1) A pattern formation method, comprises a process where a photoresist formed on a base body is exposed in a pattern, a background exposure process I where the entire surface of a forming region of the photoresist or a range comprising at least the region exposed in a pattern is exposed.例文帳に追加

基体上に形成したフォトレジストをパターン状に露光する工程を備えるパターン形成方法において、フォトレジストの形成領域の全面もしくは少なくとも上記パターン状に露光を行う領域を含む範囲を露光する背景露光工程Ｉを具備し、該背景露光工程は、形成されるフォトレジストパターンのエッジラフネスを低減する条件を選択して行う。 - 特許庁

The electrode structure 10 of the parallel MOSFET circuit can secure the area (the mounting area of parts) for mounting the parts such as the other circuit for the whole area of the printed circuit board 4 and an area (the formation area of a pattern) for forming the pattern, can widen the width of the pattern, and is suitable for high density as a product.例文帳に追加

本発明の並列ＭＯＳＦＥＴ回路の電極構造１０では、プリント基板４の全領域に対して他の回路のような部品を実装するための領域（部品の実装領域）、パターンを形成する領域（パターンの形成領域）が確保できる上にパターンの幅も広くでき、製品としての高密度化に適している。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a multilayer wiring substrate which uses a pattern formation method (a semi-additive method and a subtractive method) for each layer according to pattern width and pattern density of a wiring layer, by discriminating a layer with a fine wiring layer (such as a signal wiring layer) and a layer with a relatively rough layer appropriately, and to provide the multilayer wiring substrate.例文帳に追加

微細な配線層（例えば、信号配線層等）を有する層と比較的粗い配線層を有する層とに層別し、配線層のパターン幅及びパターン密度に応じて、層毎にパターン形成方法（セミアディテイブ法、ブトラクティブ法）を使い分ける多層配線基板の製造方法及び多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.例文帳に追加

現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the rotational speed of the polygon mirror is fine-adjusted to correct a magnification in the sub-scanning direction Z, a screen pattern 80 used as image formation means is changed to a screen pattern in which interference is hard to generate against a displacement of a beam in the sub-scanning direction Z, for example, a screen pattern which has a large angle of a straight line D1 to the main scanning direction Y.例文帳に追加

副走査方向Ｚの倍率を補正するために、ポリゴンミラーの回転速度を微調整する際に、画像形成手段として用いられているスクリーンパターン８０をビームの副走査方向Ｚのずれ量に対して干渉が発生しにくいもの、例えば、直線Ｄ１の主走査方向Ｙとのなす角度が大きいスクリーンパターンに変更する。 - 特許庁

To provide an optical substrate manufacturing method capable of molding a core part and an external pattern at high positional accuracy as to a manufacturing method for molding a core part by using a molding die in which a core pattern formation part is formed and filling the core pattern part of the molding die with a core material in consideration of defects in conventional technology.例文帳に追加

本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑みてなされたもので、コアパターン形成部を形成した成形型を用い、この成形型のコアパターン部にコア材を充填してコア部を成形する製造方法で、コア部の成形と外形の成形を位置精度よく行うことが可能な光基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a pattern formed through a developing step by utilizing a photoresist composition containing a thermal acid generator is reheated, acid is generated from the thermal acid generator, as a result the photoresist composition causes a crosslinking reaction under the action of the acid and pattern width slimming due to SEM beams for CD measurement in SEM after pattern formation can be prevented.例文帳に追加

熱酸発生剤（thermal acid generator）を含むフォトレジスト組成物を利用することにより、現像工程を経て形成されたパターンを再び加熱することにより熱酸発生剤から酸が発生し、これからフォトレジスト組成物が架橋反応を引き起こし、パターン形成後ＳＥＭでＣＤ測定時にＳＥＭビームによりパターンの幅のが減少を防ぐことができる。 - 特許庁

The covering formation agent for the pattern minuteness used for forming the minute pattern by being coated on a substrate having the photoresist pattern contains: (a) water-soluble polymer; and (b) a carboxyl group-containing compound or its salt or at least one selected from an esterified matter, peroxide and peracid.例文帳に追加

本発明のパターン微細化用被覆形成剤は、ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、（ａ）水溶性ポリマーと、（ｂ）カルボキシル基含有化合物又はその塩類若しくはエステル化物、過酸化物、及び過酸の中から選ばれる少なくとも１種とを含有することを特徴とする。 - 特許庁

This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.例文帳に追加

基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a pattern matching method by which, even when almost the same enumerated parts are present in a pattern for example, pattern matching of design data and images acquired by an image formation device or the like can be performed in high accuracy; and to provide its program and a device therefor, concerning a method, a program, and a device suitable for specifying information on unevenness in the design data.例文帳に追加

本発明の目的は、設計データ内の凹凸情報を特定するのに好適な方法，プログラム及び装置の提供に係り、一例として同じような部分が羅列するようなパターンであっても、設計データと、画像形成装置等で取得された画像との間のパターンマッチングを高精度に行い得る方法，プログラム及び装置の提供にある。 - 特許庁

This invention relates to the method of manufacturing the TAB tape provided with an insulating tape and a circuit pattern formed on the insulating tape, including the processes of: forming a sputter thin film only in a formation schedule region of the circuit pattern on the insulating tape; and forming an electric plating layer on the sputter thin film formed on the insulating tape to form the circuit pattern.例文帳に追加

絶縁性テープと、絶縁性テープ上に形成された回路パターンと、を有するＴＡＢテープの製造方法であって、絶縁性テープ上における回路パターンの形成予定領域のみにスパッタ薄膜を形成する工程と、絶縁性テープ上に形成されたスパッタ薄膜上に電気めっき層を形成して回路パターンを形成する工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a resist material having high crosslinking efficiency, very high contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, high sensitivity and high resolution, less liable to swell during development, so that pattern collapse and line edge roughness are reduced, and suitable for use as a fine pattern forming material particularly for VLSI manufacture or in photomask pattern formation.例文帳に追加

架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。 - 特許庁

The ink for conductor pattern formation, for forming a conductor pattern imparted to a ceramic molding body structured of materials including ceramic particles and a binder by a droplet discharge method, contains an aqueous dispersion medium, and metal particles dispersed in the aqueous dispersion medium, with a total content of oxygen and nitrogen in the ink for conductor pattern formation measured by the gas chromatography of 12 ppm or less.例文帳に追加

本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、セラミックス粒子とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体へ付与され、導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、水系分散媒と、水系分散媒に分散した金属粒子とを含み、ガスクロマトグラフィー法によって測定される導体パターン形成用インク中の酸素と窒素との合計の含有量が１２ｐｐｍ以下であることを特徴とする特徴とする。 - 特許庁

In the second process, the resist layer 6 is leveled to generate a difference in exposure amount needed for insolubilization between the resist layer 6 on the pedestal formation region 1a and the resist layer 6 on the pedestal non-formation region 1b, and in the third process, exposure conditions of the exposure light are so set that the resist pattern is formed in the pedestal formation region 1a in the fourth process.例文帳に追加

そして、第２工程でレジスト層６を均すことにより、台座形成領域１ａ上のレジスト層６と台座非形成領域１ｂ上のレジスト層６との間に、不溶化するのに必要な露光量の差を生じさせ、第４工程にて台座形成領域１ａにレジストパターンが形成されるように、第３工程にて露光光の露光条件を設定する。 - 特許庁