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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Pattern Formationの意味・解説 > Pattern Formationに関連した英語例文

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Pattern Formationの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2870



例文

To provide a projection aligner which prevents blurs from occurring on a lens, by organic gas components being produced by applying light to an organic film which is used for formation of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパタンの形成に使われる有機膜に光を照射することによって生じる有機気体成分により、投影レンズに曇りが生じることを防止した投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To improve manufacturing yield of disk media by eliminating the formation of a servo pattern which can uniformize a projection-to-depression ratio on a disk surface and requires a detailed physical process in particular.例文帳に追加

ディスク面上の凹凸比の均一化を図ることが可能で、かつ特に微細な物理的加工を要するサーボパターンの形成を省略することでディスク媒体の製造歩留まりを向上する。 - 特許庁

A foundation part which is subjected to pattern formation for the purpose of forming an orifice plate flat is composed of the same material as an orifice plate constituting material (CR), avoiding a Deep-UV type resist (ODUR).例文帳に追加

オリフィスプレートを平坦に形成する目的でパターン形成する土台部を、Deep−UV型レジスト(ODUR)ではなく、オリフィスプレート構成材料(CR)と同一の材料にて構成する。 - 特許庁

A control device adjusts, in accordance with an expansion amount of a wafer, a formation condition in forming a pattern on the wafer (steps S14, S15) when the wafer is installed on a wafer stage in a second chamber (step S13).例文帳に追加

制御装置は、ウエハが第2チャンバ内のウエハステージに設置されると(ステップS13)、ウエハにパターンを形成する際の形成条件を、該ウエハの膨張量に応じて調整する(ステップS14,S15)。 - 特許庁

例文

In the method for formation of wiring structure, a first organic film 603, a silicon oxide film 604, and a second organic film 605 are sequentially deposited on a semiconductor substrate 600, and then, a mask pattern 608 is formed on the second organic film 605.例文帳に追加

半導体基板600上に、第1の有機膜603、シリコン酸化膜604、第2の有機膜605を順次堆積した後、第2の有機膜605の上にマスクパターン608を形成する。 - 特許庁


例文

To provide a coating liquid for forming a silica-based film not suffering troubles caused by gas evolution in a thermal treatment, having excellent shalf stability and exhibiting excellent planarity sufficient to cope with formation of a fine circuit pattern.例文帳に追加

熱処理時のガス発生に起因するトラブルのない、しかも保存安定性の良好な、微細配線パターンの形成に十分に対応できるシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。 - 特許庁

To form bit lines wherein the composition and formation conditions of a bit line hard mask pattern and a bit line nitride film spacer are varied and bit lines are formed, to improve a process margin of an SAC process and decrease an SAC process failure.例文帳に追加

SAC工程のマージンを高め、SAC工程失敗を低減させるため、ビットラインハードマスクパターン及びビットライン窒化膜スペーサの成分及び形成条件を変化させてビットラインを形成する。 - 特許庁

To provide a resin transfer material, free of remaining of a resin layer in unwanted portions and capable of attaining reliable pattern formation, when being patterned after transfer, and capable of improving reliability.例文帳に追加

転写後において、パターニングしたときに、不必要な部分に樹脂層が残存せず、確実なパターン形成を達成することができ、信頼性を向上させることのできる、樹脂転写材を提供すること。 - 特許庁

To provide a metal polishing method for discovering a high CMP rate, and for realizing high flattening, dishing amount reduction, and erosion amount reduction, and for executing high reliable metallic film embedding pattern formation.例文帳に追加

高いCMP速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a groove pattern formation method in a base layer which enables two groove patterns to be formed in the base layer in fitting state without generating retreat of a fitting part in the base layer or the like.例文帳に追加

下地層等において突合せ部の後退が生じること無く、下地層に突合せ状態で二つの溝パターンを形成することができる、下地層における溝パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

After an alignment information 610 of a semiconductor chip having an alignment pattern is scanned and stored (620), the semiconductor chip in which a bump formation surface is coated with a curable under fill coating is generated.例文帳に追加

位置合わせパターンを有する半導体チップの位置合わせ情報610をスキャンし記憶620した後、硬化可能アンダーフィル・コーティングがバンプ形成面にコーティングされた半導体チップを生成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has good dispersibility, enables uniform film formation even in the case of a thin film, and fulfills an adequate function as an insulating layer with a fine pattern.例文帳に追加

分散性が良好で、薄膜であっても均一な膜形成が可能であり、かつ、微細なパターンを有する絶縁層として十分な機能を発現する感光性組成物を提供すること - 特許庁

A method has an etching process wherein a specimen 21 with a resist pattern 30 formed on its top surface is subjected to plasma-aided dry etching for the formation of a layer with its cross section having protrusions.例文帳に追加

上面にレジストパターン30が形成された試料21に対して、プラズマによるドライエッチングを行なうことにより、試料21の上部に断面凸状部を形成するエッチング工程を有している。 - 特許庁

In the irregularity formation step, a solvent S is adhered only to a first region 10b exposed from the internal electrode pattern 12 on the first main surface 10a of the ceramic green sheet 10 to form irregularities.例文帳に追加

凹凸形成工程では、セラミックグリーンシート10の第1の主面10aにおいて内部電極パターン12から露出する第1の領域10bのみに、溶剤Sを付着させて凹凸を形成する。 - 特許庁

As compared with a case having a scanning stage on each head, processes can be simplified, patterning time can be shortened and the acceleration of pattern formation can be realized.例文帳に追加

これにより、各ヘッド毎に走査ステージを有する場合と比較して、工程を簡略化することができると共に、パタニング間の時間を短縮することができ、パターン形成の高速化を実現することができる。 - 特許庁

In the second step, a process in which a mask 13A having a pattern shape corresponding to the second magnetic part is provided on the magnetic film 5 via the step is performed for each part between servo region formation planned parts.例文帳に追加

第2工程では、当該過程を経て、第2磁性部に対応したパターン形状を有するマスク13Aを磁性膜5上に設けることをサーボ領域形成予定箇所間毎に行う。 - 特許庁

The method further enables formation of a pattern with a higher saturation by performing the first laser irradiation at a high output and performing the second and subsequent laser irradiations at the same or lower outputs.例文帳に追加

本方法において、レーザ照射を高出力で行ったのち、2回目以降のレーザ照射を同出力又は低出力で行うことにより、より彩度の高い紋様を得ることが出来る。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for liftoff which forms a microgroove having a larger degree of bite than a conventional one and is suitable for use in the formation of a metal wiring pattern by a liftoff process.例文帳に追加

従来のものより食い込みの程度が大きいマイクログルーブを形成可能であり、リフトオフ法による金属配線パターンの形成に好適なリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To suppress the generation of particles to be the cause of fine pattern formation defects and to improve the yield of a semiconductor device without lowering productivity when forming a high density plasma CVD film.例文帳に追加

高密度プラズマCVD膜を形成する際に、生産性を低下させることなく、微細パターン形成不良の原因となるパーティクルの発生を抑制し、半導体デバイスの歩留りを向上する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter for easily manufacturing the color filter whose quality is high without having the intrusion of air bubbles and the occurrence of cracks by appropriately setting the cross-sectional inclined angle of each formation pattern.例文帳に追加

各形成パターンの断面傾斜角が適切で、気泡混入やクラックのない高品質なカラーフィルターを容易に製造することができるカラーフィルターの製造方法を提供すること。 - 特許庁

A dielectric film of SiO2 is then deposited on the entire surface of the an n-type contact layer 13 followed by formation of a stripe mask pattern 25 extending in the (1-100) direction on the upper surface of n-type contact layer 13.例文帳に追加

次に、n型コンタクト層13の上に全面にSiO_2 からなる誘電体膜を堆積し、n型コンタクト層13の上面の(1−100)方向に延びるストライプ状のマスクパターン25を形成する。 - 特許庁

To improve surface roughness (Ra) of a flat part of a mold made of resin used for a nano imprinting method and to reduce defects of formation of a pattern of a magnetic recording medium so as to enhance the productivity.例文帳に追加

ナノインプリント法に用いられる樹脂製モールドの平坦部の表面粗さ(Ra)を改善し、磁気記録媒体のパターンの形成不良を低減し、生産性を向上させることができるようにする。 - 特許庁

To stationarily control the concn. of an etching soln. in real time, to improve the stability of the formation of an etching pattern and the forming dimensional precision and to suppress the generation of the defect in etching caused by the fluctuation of the compsn. of the etching soln.例文帳に追加

エッチング液の濃度をリアルタイムで定常的に管理し、エッチングパターン形成の安定性、形成寸法精度の向上を図り、エッチング液組成変動によるエッチング不良の発生を抑制する。 - 特許庁

To realize a method for manufacture wherein a plurality of ceramic green sheets are laminated on a carrier film, and cumulative error for positioning at formation of an internal electrode pattern is reduced.例文帳に追加

キャリアフィルム上において複数のセラミックグリーンシートを積層することができるとともに、内部電極パターン形成時における位置決めの累積誤差を低減することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit formation method, using the electrophotography method for managing both the increase in the amount of transfer and the disturbance in a circuit pattern by preventing release discharge, while maintaining prescribed electric field strength.例文帳に追加

所定の電界強度を維持しながら剥離放電を防止し、転写量の増加と回路パターンの乱れ防止とを両立できる電子写真法を用いた回路形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lens sheet having excellent adhesiveness to a substrate and yellowing resistance and making formation of a high-definition pattern possible by using a photosensitive resin composition having pressure-sensitive adhesiveness, and to provide a method for manufacturing the sheet.例文帳に追加

基板への密着性や耐黄変性に優れ高精細のパターン形成が可能な、粘着性を有する感光性樹脂組成物を用いたレンズシートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The first adhesive 12 is applied in a checker board pattern with a predetermined distance d from each of the perforation lines 7a, 7b, 7c and does not divide the formation direction of the perforation lines 7a, 7b, 7c.例文帳に追加

第1接着剤12は、各々のミシン目7a、7b及び7cから所定距離dをおいた位置に市松模様状に塗布されるため、ミシン目7a、7b及び7cの形成方向を分断しない。 - 特許庁

To provide a film folding unit capable of preventing the formation of an unintended local fold line in a film, and capable of restraining dislocation of a printing pattern of a label to a bottle.例文帳に追加

フィルムに意図しない局部的な折れ目がついてしまうことを防止するとともに、ラベルの印刷模様がボトルに対してずれてしまうことを抑制することが可能なフィルム折りユニットを提供すること。 - 特許庁

To provide a catalyst residue removing agent which achieves formation of an electroless nickel plating coating and is excellent in characteristics to form a good plating coating only on a conductive pattern section on a printed circuit board.例文帳に追加

プリント配線板において、導電性パターン部にのみ良好なめっき皮膜を形成できる特性に優れた無電解ニッケルめっき皮膜の形成を可能にする、触媒残渣除去剤を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive laminate having high transparency relative to a base material such as a film, excellent in adhesiveness and inconspicuous in pattern formation for a display or a touch panel.例文帳に追加

フィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性を有し、且つパターン形状が目立たない透明導電性積層体を作製し、ディスプレイあるいはタッチパネル向けとして提供する。 - 特許庁

In the process for generating the control pulse, when the environmental temperature of a pattern formation device changes, a prescribed length of the signal outputted from the linear scale means is changed, corresponding to the temperature change.例文帳に追加

この制御用パルスを生成する過程で、パターン形成装置の環境温度が変化した場合、その温度変化に応じてリニアスケール手段から出力される信号の所定長が変化する。 - 特許庁

To obtain ink for spacer formation which allows spacer particles to be selectively deposited just on a light shielding film pattern position on a color filter substrate by an ink jet system, and a manufacturing method of a color filter substrate with spacers.例文帳に追加

インクジェット方式によってカラーフィルタ基板上にスペーサ粒子を遮光膜パターン位置の直上に選択的に配置できるスペーサ形成用インク、スペーサ付カラーフィルタ基板の製造方法を得る。 - 特許庁

A core formation photosensitive resin layer 3A is formed on a surface of an under-cladding layer 2, and then exposed in a predetermined pattern, and an exposed portion is formed in the core 3.例文帳に追加

アンダークラッド層2の表面に、コア形成用の感光性樹脂層3Aを形成した後、そのコア形成用の感光性樹脂層3Aを所定パターンに露光し、その露光部分をコア3に形成する。 - 特許庁

A stripping layer 3 is formed on a first support substrate 1, source/drain electrodes 5 are subjected to pattern formation on the surface of the stripping layer 3, and a gate insulating film 7 is formed while covering the source/drain electrodes 5.例文帳に追加

第1支持基板1上に剥離層3を形成し、次いで剥離層3の表面上にソース/ドレイン電極5をパターン形成した後、これを覆う状態でゲート絶縁膜7を形成する。 - 特許庁

An example of threshold tables for use in binarization processing is shown in a figure, and this threshold table includes a suppression pattern having higher thresholds set thereto (circled thresholds), in order to suppress formation of pixels.例文帳に追加

同図には2値化処理に用いる際の閾値テーブルの一例が示され、この閾値テーブルには、画素の形成を抑制するために、閾値が高めに設定された抑制パターン(円で囲まれた閾値)が含まれる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium in which reactivity between a magnetic layer and reactive plasma or ions during the formation of a magnetic recording pattern is enhanced and the blur of an image in the patterning is hardly generated.例文帳に追加

磁気記録パターンの形成時における反応性プラズマまたはイオンと磁性層との反応性を高め、また、パターニングにおける像のぼけが生じにくい磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electroluminescent element, whereby high luminous efficiency, high extraction efficiency, a simplified manufacturing process, and formation of high definition pattern are materialized.例文帳に追加

本発明は、発光効率や取り出し効率の高さ、製造工程の簡便さや高精細なパターンの形成を実現するEL素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The air assist spray nozzle assembly 11 coping with the efficient formation of the full conical spray distribution, in which the finely atomized particles are distributed to the whole conical spray pattern, more than the conventional one is provided.例文帳に追加

微細に霧化した粒子が円錐状スプレーパターンの全体に分布する全円錐状スプレー分布をこれまでより効率的に生成するのに対応する空気補助スプレーノズル組立体11。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having high sensitivity in pattern formation by irradiation with active light and to provide a radiation sensitive composition further having high resolution and excellent also in margin for exposure.例文帳に追加

活性光線の照射によるパターン形成において、高感度を有する感放射線性組成物、また、更に高解像度を有し露光マージンにも優れた感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymer compound enabling the curing reaction and pattern formation in the form of a thin film, etc., by heat, light or the presence of a polymerization initiator and provide a monomer for the polymer compound.例文帳に追加

薄膜などに成形した後に熱や光、または重合開始剤の存在によって硬化反応やパターン形成が可能な高分子化合物及びその原料となるモノマーを提供する。 - 特許庁

The interlayer insulation film between the electric field impressing fuse Fa and the laser fuse Fb incorporates the layout of a passivation film 24b to prevent laser damage due to pattern formation from the first layer metal wiring.例文帳に追加

電界印加フューズFaとレーザフューズFbの間の層間絶縁膜中には第1層メタル配線層を用いてパターン形成されたレーザダメージを防止するための保護膜24bが配置される。 - 特許庁

Because the lead frame 1 is formed such that only the shape pattern formation region 2 is made thin without making the entire part flexible, a semiconductor element can be mounted without hindrance by using a conventional manufacturing apparatus.例文帳に追加

このリードフレーム1は、全体を撓み易くせずに、形状パターン形成領域2だけを薄くしているので、従来の製造装置によって、半導体素子を支障なく組み付けることが可能である。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having satisfactory sensitively and resolving power in the formation of a contact hole pattern in the production of a semiconductor device and generating few particles in a resist solution.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide technique for forming a resin layer which has superior flowability during heat adhesion and superior adhesive strength, after the pattern formation of a photosensitive thermosetting resin composition used for a permanent film.例文帳に追加

永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、接着性が良好な樹脂層を形成できる技術を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a conventional magnification processing method performed by insertion or thinning of pixels, in which if insertion or thinning coordinates are determined randomly without a limit, deviation of a dither pattern unstabilizes dot formation in forming of an image.例文帳に追加

画素の挿入・間引きによる変倍処理方法では、挿入・間引き座標を制限なしにランダムに決定するとディザパターンのズレによって、画像形成時のドット形成が不安定になってしまう。 - 特許庁

To provide a production method of a component built-in substrate capable of forming an electrolytic capacitor part and a wiring pattern on an aluminum formation foil sheet, separately and independently, without deteriorating the electric characteristics of the capacitor.例文帳に追加

アルミニウム化成箔シートに電解コンデンサ部と配線パターンをコンデンサの電気特性を劣化させずに分離独立に形成することができる部品内蔵基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A metal film 40 is formed on the surface of the board 10, the through-hole 14 is filled up with metal material, the wiring groove 16 is filled up with metal material for the formation of a wiring pattern.例文帳に追加

基板10の表面に金属膜40を形成して、スルーホール14に金属材料を充填するとともに、配線溝16を金属材料で充填して配線パターンを形成する。 - 特許庁

Then, the support is etched in the state of the upper part of the support in the SOI formation region being covered with a resist pattern to form an opening surface in the support for exposing part of the end of the SiGe layer 3.例文帳に追加

そして、SOI形成領域の支持体上をレジストパターンで覆った状態で支持体をエッチングすることにより、支持体にSiGe層3の端部の一部を露出させる開口面を形成する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition comprising a pigment multimer, which is capable of forming a cured film having excellent color purity, light resistance, heat resistance and solvent resistance, as well as reduced color migration and good pattern formation properties.例文帳に追加

色純度、耐光性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移りが少なく、パターン成形性の良好な硬化膜を形成し得る、色素多量体を用いてなる着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

例文

To prevent a film formation from fine particles produced in a laser CVD as a CVD nucleus and the film edge from swelling outside the laser irradiation pattern in a conventional correction method of fine clear defect.例文帳に追加

従来び白欠陥の修正方法では、レーザCVD時に生成した微粒子がCVDの核となり膜が形成され、レーザ光の照射形状の外側に膜のエッジが膨らんでしまう。 - 特許庁




  
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