「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

The first adhesive 12 is applied in a checker board pattern with a predetermined distance d from each of the perforation lines 7a, 7b, 7c and does not divide the formation direction of the perforation lines 7a, 7b, 7c.例文帳に追加

第１接着剤１２は、各々のミシン目７ａ、７ｂ及び７ｃから所定距離ｄをおいた位置に市松模様状に塗布されるため、ミシン目７ａ、７ｂ及び７ｃの形成方向を分断しない。 - 特許庁

Functions or the like of elements at formation of the electron emission part by forming treatment are checked by the pattern of the element electrodes and the conductive thin film formed outside the region forming the electron emission element group.例文帳に追加

この電子放出素子群形成領域の外側に形成した素子電極，導電性薄膜パターンにて、フォーミング処理によって電子放出部を形成した際の素子の機能等をチェックする。 - 特許庁

To provide a catalyst residue removing agent which achieves formation of an electroless nickel plating coating and is excellent in characteristics to form a good plating coating only on a conductive pattern section on a printed circuit board.例文帳に追加

プリント配線板において、導電性パターン部にのみ良好なめっき皮膜を形成できる特性に優れた無電解ニッケルめっき皮膜の形成を可能にする、触媒残渣除去剤を提供する。 - 特許庁

To provide an image display medium and an image formation method with a hologram image which can be authenticated by visual information and at the same time having hologram images with high forgery prevention effect where individual information is made into a pattern.例文帳に追加

目視情報による認証が可能で、かつ、偽造防止効果の高い、個別情報がパターニングされたホログラム画像を有する画像表示媒体および画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive laminate having high transparency relative to a base material such as a film, excellent in adhesiveness and inconspicuous in pattern formation for a display or a touch panel.例文帳に追加

フィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性を有し、且つパターン形状が目立たない透明導電性積層体を作製し、ディスプレイあるいはタッチパネル向けとして提供する。 - 特許庁

The method further enables formation of a pattern with a higher saturation by performing the first laser irradiation at a high output and performing the second and subsequent laser irradiations at the same or lower outputs.例文帳に追加

本方法において、レーザ照射を高出力で行ったのち、２回目以降のレーザ照射を同出力又は低出力で行うことにより、より彩度の高い紋様を得ることが出来る。 - 特許庁

To realize a method for manufacture wherein a plurality of ceramic green sheets are laminated on a carrier film, and cumulative error for positioning at formation of an internal electrode pattern is reduced.例文帳に追加

キャリアフィルム上において複数のセラミックグリーンシートを積層することができるとともに、内部電極パターン形成時における位置決めの累積誤差を低減することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electroluminescent element, whereby high luminous efficiency, high extraction efficiency, a simplified manufacturing process, and formation of high definition pattern are materialized.例文帳に追加

本発明は、発光効率や取り出し効率の高さ、製造工程の簡便さや高精細なパターンの形成を実現するＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The air assist spray nozzle assembly 11 coping with the efficient formation of the full conical spray distribution, in which the finely atomized particles are distributed to the whole conical spray pattern, more than the conventional one is provided.例文帳に追加

微細に霧化した粒子が円錐状スプレーパターンの全体に分布する全円錐状スプレー分布をこれまでより効率的に生成するのに対応する空気補助スプレーノズル組立体１１。 - 特許庁

As compared with a case having a scanning stage on each head, processes can be simplified, patterning time can be shortened and the acceleration of pattern formation can be realized.例文帳に追加

これにより、各ヘッド毎に走査ステージを有する場合と比較して、工程を簡略化することができると共に、パタニング間の時間を短縮することができ、パターン形成の高速化を実現することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium in which reactivity between a magnetic layer and reactive plasma or ions during the formation of a magnetic recording pattern is enhanced and the blur of an image in the patterning is hardly generated.例文帳に追加

磁気記録パターンの形成時における反応性プラズマまたはイオンと磁性層との反応性を高め、また、パターニングにおける像のぼけが生じにくい磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process for generating the control pulse, when the environmental temperature of a pattern formation device changes, a prescribed length of the signal outputted from the linear scale means is changed, corresponding to the temperature change.例文帳に追加

この制御用パルスを生成する過程で、パターン形成装置の環境温度が変化した場合、その温度変化に応じてリニアスケール手段から出力される信号の所定長が変化する。 - 特許庁

To provide a lens sheet having excellent adhesiveness to a substrate and yellowing resistance and making formation of a high-definition pattern possible by using a photosensitive resin composition having pressure-sensitive adhesiveness, and to provide a method for manufacturing the sheet.例文帳に追加

基板への密着性や耐黄変性に優れ高精細のパターン形成が可能な、粘着性を有する感光性樹脂組成物を用いたレンズシートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method has an etching process wherein a specimen 21 with a resist pattern 30 formed on its top surface is subjected to plasma-aided dry etching for the formation of a layer with its cross section having protrusions.例文帳に追加

上面にレジストパターン３０が形成された試料２１に対して、プラズマによるドライエッチングを行なうことにより、試料２１の上部に断面凸状部を形成するエッチング工程を有している。 - 特許庁

In the irregularity formation step, a solvent S is adhered only to a first region 10b exposed from the internal electrode pattern 12 on the first main surface 10a of the ceramic green sheet 10 to form irregularities.例文帳に追加

凹凸形成工程では、セラミックグリーンシート１０の第１の主面１０ａにおいて内部電極パターン１２から露出する第１の領域１０ｂのみに、溶剤Ｓを付着させて凹凸を形成する。 - 特許庁

To provide a circuit formation method, using the electrophotography method for managing both the increase in the amount of transfer and the disturbance in a circuit pattern by preventing release discharge, while maintaining prescribed electric field strength.例文帳に追加

所定の電界強度を維持しながら剥離放電を防止し、転写量の増加と回路パターンの乱れ防止とを両立できる電子写真法を用いた回路形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a groove pattern formation method in a base layer which enables two groove patterns to be formed in the base layer in fitting state without generating retreat of a fitting part in the base layer or the like.例文帳に追加

下地層等において突合せ部の後退が生じること無く、下地層に突合せ状態で二つの溝パターンを形成することができる、下地層における溝パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After an alignment information 610 of a semiconductor chip having an alignment pattern is scanned and stored (620), the semiconductor chip in which a bump formation surface is coated with a curable under fill coating is generated.例文帳に追加

位置合わせパターンを有する半導体チップの位置合わせ情報６１０をスキャンし記憶６２０した後、硬化可能アンダーフィル・コーティングがバンプ形成面にコーティングされた半導体チップを生成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has good dispersibility, enables uniform film formation even in the case of a thin film, and fulfills an adequate function as an insulating layer with a fine pattern.例文帳に追加

分散性が良好で、薄膜であっても均一な膜形成が可能であり、かつ、微細なパターンを有する絶縁層として十分な機能を発現する感光性組成物を提供すること - 特許庁

To provide a positive resist composition for liftoff which forms a microgroove having a larger degree of bite than a conventional one and is suitable for use in the formation of a metal wiring pattern by a liftoff process.例文帳に追加

従来のものより食い込みの程度が大きいマイクログルーブを形成可能であり、リフトオフ法による金属配線パターンの形成に好適なリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To suppress the generation of particles to be the cause of fine pattern formation defects and to improve the yield of a semiconductor device without lowering productivity when forming a high density plasma CVD film.例文帳に追加

高密度プラズマＣＶＤ膜を形成する際に、生産性を低下させることなく、微細パターン形成不良の原因となるパーティクルの発生を抑制し、半導体デバイスの歩留りを向上する。 - 特許庁

In the second step, a process in which a mask 13A having a pattern shape corresponding to the second magnetic part is provided on the magnetic film 5 via the step is performed for each part between servo region formation planned parts.例文帳に追加

第２工程では、当該過程を経て、第２磁性部に対応したパターン形状を有するマスク１３Ａを磁性膜５上に設けることをサーボ領域形成予定箇所間毎に行う。 - 特許庁

To obtain ink for spacer formation which allows spacer particles to be selectively deposited just on a light shielding film pattern position on a color filter substrate by an ink jet system, and a manufacturing method of a color filter substrate with spacers.例文帳に追加

インクジェット方式によってカラーフィルタ基板上にスペーサ粒子を遮光膜パターン位置の直上に選択的に配置できるスペーサ形成用インク、スペーサ付カラーフィルタ基板の製造方法を得る。 - 特許庁

An example of threshold tables for use in binarization processing is shown in a figure, and this threshold table includes a suppression pattern having higher thresholds set thereto (circled thresholds), in order to suppress formation of pixels.例文帳に追加

同図には２値化処理に用いる際の閾値テーブルの一例が示され、この閾値テーブルには、画素の形成を抑制するために、閾値が高めに設定された抑制パターン（円で囲まれた閾値）が含まれる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having high sensitivity in pattern formation by irradiation with active light and to provide a radiation sensitive composition further having high resolution and excellent also in margin for exposure.例文帳に追加

活性光線の照射によるパターン形成において、高感度を有する感放射線性組成物、また、更に高解像度を有し露光マージンにも優れた感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

A core formation photosensitive resin layer 3A is formed on a surface of an under-cladding layer 2, and then exposed in a predetermined pattern, and an exposed portion is formed in the core 3.例文帳に追加

アンダークラッド層２の表面に、コア形成用の感光性樹脂層３Ａを形成した後、そのコア形成用の感光性樹脂層３Ａを所定パターンに露光し、その露光部分をコア３に形成する。 - 特許庁

A stripping layer 3 is formed on a first support substrate 1, source/drain electrodes 5 are subjected to pattern formation on the surface of the stripping layer 3, and a gate insulating film 7 is formed while covering the source/drain electrodes 5.例文帳に追加

第１支持基板１上に剥離層３を形成し、次いで剥離層３の表面上にソース／ドレイン電極５をパターン形成した後、これを覆う状態でゲート絶縁膜７を形成する。 - 特許庁

The interlayer insulation film between the electric field impressing fuse Fa and the laser fuse Fb incorporates the layout of a passivation film 24b to prevent laser damage due to pattern formation from the first layer metal wiring.例文帳に追加

電界印加フューズＦａとレーザフューズＦｂの間の層間絶縁膜中には第１層メタル配線層を用いてパターン形成されたレーザダメージを防止するための保護膜２４ｂが配置される。 - 特許庁

To provide a polymer compound enabling the curing reaction and pattern formation in the form of a thin film, etc., by heat, light or the presence of a polymerization initiator and provide a monomer for the polymer compound.例文帳に追加

薄膜などに成形した後に熱や光、または重合開始剤の存在によって硬化反応やパターン形成が可能な高分子化合物及びその原料となるモノマーを提供する。 - 特許庁

Screen printing is carried out using the particulate dispersed solution to form a wetting spread suppression part 11 comprising the aggregate of many metal particulates 10 in the pattern formation region 9 (b).例文帳に追加

次いで、前記微粒子分散溶液を使用してスクリーン印刷し、これにより多数の金属微粒子１０の集合体からなる濡れ拡がり抑制部１１をパターン形成領域９に形成する（ｂ）。 - 特許庁

To solve the problem of a conventional magnification processing method performed by insertion or thinning of pixels, in which if insertion or thinning coordinates are determined randomly without a limit, deviation of a dither pattern unstabilizes dot formation in forming of an image.例文帳に追加

画素の挿入・間引きによる変倍処理方法では、挿入・間引き座標を制限なしにランダムに決定するとディザパターンのズレによって、画像形成時のドット形成が不安定になってしまう。 - 特許庁

An electrode pattern is drawn by irradiation with a laser on the glass substrate subjected to film formation with a paste composition, containing silver oxide powder and low melting point glass powder and the silver powder, is fired to the substrate.例文帳に追加

酸化銀粉末及び低融点ガラス粉末を含有するペースト組成物で製膜されたガラス基板上にレーザー照射により電極パターンを描画して銀粉末を基板に焼付ける。 - 特許庁

To provide technique for forming a resin layer which has superior flowability during heat adhesion and superior adhesive strength, after the pattern formation of a photosensitive thermosetting resin composition used for a permanent film.例文帳に追加

永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、接着性が良好な樹脂層を形成できる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an oxide microstructure, facilitating precise formation of an oxide microstructure having a pattern with a fine width and a columnar shape with a high aspect ratio.例文帳に追加

幅が微細なパターンで、かつ、アスペクト比の高い柱状の形状を有する微細酸化物構造体を精密に形成することができる微細酸化物構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate for pattern formation includes forming a coating of ≥1 to <10 nm in film thickness after drying by coating a substrate with a solution containing a surface treating agent having a specific structure.例文帳に追加

基板上に、特定の構造を有する表面処理剤を含む溶液を塗布し、乾燥後膜厚が１ｎｍ以上１０ｎｍ未満である塗膜を形成するパターン形成用基板の製造方法。 - 特許庁

The different scattering areas on the mask is capable of forming an SCALPEL pattern on a wafer by improved critical dimensioned(CD) control, reduced aberration feature formation, and improved yield.例文帳に追加

マスク上の異なる散乱領域は、改善されたクリティカル寸法（ＣＤ）制御，低減された収差フィーチャ形成および改善された歩留りで、ＳＣＡＬＰＥＬパターンをウェハ上に形成することを可能にする。 - 特許庁

In the method for formation of wiring structure, a first organic film 603, a silicon oxide film 604, and a second organic film 605 are sequentially deposited on a semiconductor substrate 600, and then, a mask pattern 608 is formed on the second organic film 605.例文帳に追加

半導体基板６００上に、第１の有機膜６０３、シリコン酸化膜６０４、第２の有機膜６０５を順次堆積した後、第２の有機膜６０５の上にマスクパターン６０８を形成する。 - 特許庁

A foundation part which is subjected to pattern formation for the purpose of forming an orifice plate flat is composed of the same material as an orifice plate constituting material (CR), avoiding a Deep-UV type resist (ODUR).例文帳に追加

オリフィスプレートを平坦に形成する目的でパターン形成する土台部を、Ｄｅｅｐ−ＵＶ型レジスト（ＯＤＵＲ）ではなく、オリフィスプレート構成材料（ＣＲ）と同一の材料にて構成する。 - 特許庁

To provide a nanoimprinting curable composition which is suitable for spin or slit coating, enables formation of a microscopic pattern, achieves high adhesiveness to a substrate after photocuring and facilitates peeling of a resist.例文帳に追加

スピン塗布やスリット塗布に適していて、微細なパターン形成が可能であり、光硬化後の基板に対する密着性が高くて、レジストの剥離が容易であるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The offset quantities between the additive patterns and the main patterns on the reticle 100 are made adequate, by which the resist pattern sizes may be made uniform while the adverse influence on the formation of the element patterns is prevented.例文帳に追加

レチクル１００では，付加パターンと主パターンとのずれ量を適正化することによって，素子パターンの形成への悪影響を防ぎつつ，レジストパターン寸法の均一化を図ることができる。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble photosensitive resin composition of which the pattern formation is easy and which has high heat resistance, high reliability (such as high moisture-resistance reliability), high transparency, and low permittivity.例文帳に追加

パターン形成が容易で、高耐熱性、耐湿信頼性等の高信頼性、更に高い透明性、低誘電率に優れた特性を有するアルカリ可溶性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A step of subjecting a semiconductor device pattern used for performing etching on or impurity injection into a photoresist layer, formed on the surface of a silicon wafer 103 to reduction exposure includes the formation of a reference chip.例文帳に追加

シリコンウエハ１０３表面に形成したフォトレジスト層に、エッチングまたは不純物注入を行うための半導体装置パターンを縮小露光する工程が、基準チップ形成処理を含む。 - 特許庁

Because the lead frame 1 is formed such that only the shape pattern formation region 2 is made thin without making the entire part flexible, a semiconductor element can be mounted without hindrance by using a conventional manufacturing apparatus.例文帳に追加

このリードフレーム１は、全体を撓み易くせずに、形状パターン形成領域２だけを薄くしているので、従来の製造装置によって、半導体素子を支障なく組み付けることが可能である。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having satisfactory sensitively and resolving power in the formation of a contact hole pattern in the production of a semiconductor device and generating few particles in a resist solution.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Such a slit nozzle 2221 injects the inert gas to the substrate W under pattern formation process from the downstream side in the conveyance direction of the substrate W toward the surface vicinity of the substrate W.例文帳に追加

このようなスリットノズル２２２１が、パターン形成処理が行われている基板Ｗに対して、基板Ｗの搬送方向の下流側から基板Ｗの表面近傍に向けて不活性ガスを噴射する。 - 特許庁