| 例文 |
Pattern areaの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3575件
To provide an image processor for performing processing such as various logical arithmetic operations by setting an area where any pattern is not present between adjacent patterns in a tiling pattern function.例文帳に追加
タイリングパターン機能において、隣り合うパターン間にパターンが存在しない領域を設けることができ、種々の論理演算などの処理を可能とした画像処理装置を提供する。 - 特許庁
Then the 2nd pattern data are sent from the CAD system to an electron beam drawing device and a specific area of resist applied onto the reticle is irradiated with an electron beam according to the 2nd pattern data.例文帳に追加
次に、その第二パターンデータをCADシステムから電子ビーム描画装置に送り、電子ビームを第二パターンデータに応じて、レチクル上に塗布されたレジストの所定領域に照射する。 - 特許庁
To make a defective pattern area easily discriminated among a plurality of pattern areas for a display device provided on a color filter substrate in manufacturing a color liquid crystal display device.例文帳に追加
カラー液晶表示装置を製造するに当たり、カラーフィルタ基板上に複数設けられた表示装置用パターンエリアの中から、不良パターンエリアを容易に認識できるようにする。 - 特許庁
The first pattern and the second pattern are alternately arranged in a longitudinal direction, the light sources are arranged at the respective light source arranging positions, and also prism mirrors 5a and 5b are arranged in a photosynthesis area S.例文帳に追加
第1パターンと第2パターンが縦方向に交互に並べられ、各光源配置位置に光源が配されるとともに、光合成領域Sにプリズムミラー5a、5bが配される。 - 特許庁
The predetermined number b (6) of dots are eliminated from a first dot pattern in which the predetermined number a (24) of dots are set corresponding to each segmented area on a substrate to generate a second dot pattern.例文帳に追加
基板上の各区画領域に対応して所定数a(24個)のドットを設定した第1のドットパターンから、所定数b(6個)のドットを消去して第2のドットパターンを生成する。 - 特許庁
A special pattern display device 15 is provided on an almost center position of a game area 11 and respective distributing devices 18 and 19 are provided on the left and right of the special pattern display device 15.例文帳に追加
遊技領域11のほぼ中央位置に特別図柄表示装置15が設けられ、この特別図柄表示装置15の左右には各振り分け装置18、19が設けられている。 - 特許庁
When the plurality of (five) pattern combination effective lines are determined in a variable display device, the effective lines are linked with special patterns to be displayed on a special pattern display area beforehand.例文帳に追加
可変表示器に複数(5本)の図柄組み合わせ有効ラインが定められている場合、特別図柄表示領域に表示可能な特別図柄に有効ラインを予め対応付ける。 - 特許庁
The plotting circuit is provided with a data buffer 42 directly connected to the input/output terminals of a video memory 20, and the reading of plotting pattern data and the writing of the plotting pattern data in a plotting area are performed as a series of operations.例文帳に追加
ビデオメモリ20の入出力端に直結させてデータバッファ42を備え、描画パターンデータの読み出しと描画領域への書き込みとを一連の動作として実行させる。 - 特許庁
On the basis of the output pattern detected by the output pattern detection part 74, an error judgement part 75 judges whether or not abnormality is occurred inside the game area 16a.例文帳に追加
出力パターン検出部74によって検出された出力パターンに基づいて、エラー判定部75は、遊技領域16a内で異常が発生しているか否かを判定する。 - 特許庁
A display controller 39 varies and stops the identification pattern groups ZG of a left column and a right column and vertically varies the identification pattern group ZG of a center column within a normal variation area ZH.例文帳に追加
表示制御装置39は左列および右列の識別図柄群ZGを変動停止させ、中列の識別図柄群ZGを通常変動領域ZH内で縦変動させる。 - 特許庁
To provide a good circuit pattern by preventing generation of variations in wiring film thickness in finishing of polishing and avoiding the reduction of the wiring sectional area caused by the lack of a wiring pattern.例文帳に追加
研磨終了時における配線膜厚のばらつき発生を防止するとともに、配線パターンの欠損に伴う配線断面積の減少を阻止して良好な回路パターンを得る。 - 特許庁
By specifying and designing this pattern gap L, the overlap between the bend of the active area and the gate pattern is avoided so that the difference between element characteristics and a designed value may become large.例文帳に追加
このパターン間隔Lを規定して設計することにより,アクティブ領域の湾曲部がゲートパターンに重ならず,素子特性と設計値との差異が大きくなるのを防ぐことができる。 - 特許庁
The pickup 24 is first moved to a test recording area of an optical disk 22, switching it to a test pattern generating circuit 64 by a switching circuit 62 and a test pattern signal is recorded in the optical disk 22.例文帳に追加
まず、ピックアップ24を光ディスク22のテスト記録領域へ移動し、切り換え回路62でテストパターン発生回路64に切り換えて、テストパターン信号を光ディスク22に記録する。 - 特許庁
The Expression (1) is represented by X={(CL)^2/A}×(100/4π), where A [μm^2]represents an area of a pattern capable of projecting the toner particle two-dimensional-plane-likely, and C [μm] represents a circumferential length of the pattern.例文帳に追加
X={(CL)^2/A}×(100/4π) ・・・ (I)(ただし、A[μm^2]は、トナー粒子を2次元平面状に投影してできる図形の面積であり、CL[μm]は、前記図形の周長である。) - 特許庁
A given number (18 pieces) of dots are eliminated from a first dot pattern in which a given number (30 pieces) of dots are arranged in correspondence with each segment area on a board to generate a second dot pattern.例文帳に追加
基板上の各区画領域に対応して所定数(30個)のドットを設定した第1のドットパターンから、所定数(18個)のドットを消去して第2のドットパターンを生成する。 - 特許庁
An edge detecting circuit 102 performs pattern matching to an inputted binary image for each prescribed pixel group and detects an edge area in the binary image on the basis of the pattern matching result.例文帳に追加
エッジ検出回路102は、入力された2値画像を所定画素群毎にパターンマッチングを行い、そのパターンマッチング結果に基づいて、2値画像中のエッジ領域を検出する。 - 特許庁
Image data are read from a pattern by an image scanner, the pattern is divided into a plurality of areas by each color and, then, the area without requiring embroidery such as a background is designated by the operation of an operator.例文帳に追加
イメージスキャナにより図柄から画像データが読取られ、図柄は、色毎に複数の領域に分割された後、オペレータの操作により背景等の刺繍不要領域が指定される。 - 特許庁
These through holes 13 are formed so as to surround the mounting area 11A of the surface side radiation pattern 11, and connected to the surface side radiation pattern 11 so as to transmit heat.例文帳に追加
そして、スルーホール13は、表面側放熱パターン11の装着領域11Aを囲むように形成され、表面側放熱パターン11と熱伝達可能に接続されている。 - 特許庁
A type-of- flaw discriminating section 2d discriminates the type of a flaw by comparing the characteristic amount imparted to the objective detection area with the luminance distribution changing pattern stored in a pattern storing section 2c.例文帳に追加
疵種判定部2dでは、対象検出領域に付与された特徴量をパターン記憶部2cに記憶された輝度分布の変化パターンに照らし合わせて、疵種の判定を行う。 - 特許庁
This pattern recognition device has a dictionary learning part 23, a filter mask learning part 24, a partial area feature value calculating part 26, a pattern recognition part 28 and a feature vector generating part 29.例文帳に追加
このパターン認識装置は、辞書学習部23、フィルタ・マスク学習部24、部分領域特徴量計算部26、パターン識別部28および特徴ベクトル生成部29を有している。 - 特許庁
Since a soluble layer 2 which continuously covers the circumference of a two-layer resist pattern 5 and the whole body of a first thin film 17Z in an area other than the area covered by the two-layer resist pattern 5 is formed, the mold damage of the resist pattern 5 can be suppressed at the time of performing dry etching and the depositing amount of redeposits 9 can also be reduced.例文帳に追加
2層レジストパターン5の周囲と、この2層レジストパターン5によって覆われた領域以外の領域における第1の薄膜17Zとの全体を連続的に覆う可溶層2を形成するので、ドライエッチング時に2層レジストパターン5の型くずれを抑制でき、再付着物9の付着量も低減できる。 - 特許庁
At a color filter part 24 of the substrate 15, ink drops 23R, 23G, and 23B discharged from the discharge head wet only a pattern area 24a formed of an ink-philic layer 21a and spread to form colored layers 22R, 22G, and 22B in striped pattern corresponding to the shape of the pattern area 24a.例文帳に追加
基板15のうちカラーフィルター部24においては、吐出ヘッド12から吐出されたインク滴23R,23G,23Bが、親インク性層21aからなるパターン領域24a上でのみ濡れ拡がり、パターン領域24aの形状に対応するストライプ状のパターンで各色の着色層22R,22G,22Bが形成される。 - 特許庁
During the execution, the varied counter values pertaining to the variation pattern selected during the execution are replaced with the varied counter values pertaining to the variation pattern already stored in a reserved ball housing area to preferentially store the varied counter values pertaining to the variation pattern higher in the order of preference into the reserved ball housing area.例文帳に追加
その実行中においては、実行中に選ばれた変動パターンに関する各種カウンタ値と、すでに保留球格納エリアに記憶された変動パターンに関する各種カウンタ値とを入換えることで、優先順位の高い変動パターンに関する各種カウンタ値を優先的に保留球格納エリアに記憶していく。 - 特許庁
An aluminium film 14 is stacked on the surface of a substrate 10 on which a fine grating pattern 12 is formed so as to cover the grating pattern 12, a resist layer 16 is applied to the surface of the aluminium film 14 and an aperture 18 is formed in an area of the resist layer 16 except an area in which the grating pattern 12 is formed.例文帳に追加
表面に微細な格子パターン12が形成されている基板10の表面上に格子パターン12を被ってアルミニウム膜14を堆積し、その上にレジスト層16を塗布し、レジスト層16には格子パターン12が形成されている領域以外の領域に開口18を設ける。 - 特許庁
Dummy patterns 2 having areas smaller than a main pattern 1 are formed in an empty space in addition to the main pattern 1, in which the excellent working uniformity cannot be obtained only by the pattern 1 owing to the small ratio of an area, and the areas of plasma-etched sections are expanded up to area ratios, where the excellent working uniformity is obtained.例文帳に追加
面積の比率の小さいためにそれだけでは優れた加工均一性を得ることができない本パターン1に加えて、本パターン1より面積が小さいダミーパターン2を空いているスペースに形成し、優れた加工均一性が得られる面積比率まで、プラズマエッチングされる部分の面積を拡大する。 - 特許庁
In the case of utilizing a highly accurate grid wire pattern for an electromagnetic wave shield or the like, a grid-like pattern is obliquely stored in a storage area defined correspondingly to pixels arranged like a matrix (step S101) and a flexuous printed board plotter is controlled on the basis of the grid-like pattern stored in the storage area (step S102).例文帳に追加
高精細グリッド線パターンを電磁波シールドなどに利用する際、当該格子状パターンを、マトリックス状に配されるピクセルに対応して定義された記憶領域に傾けて記憶させ(ステップS101)、その記憶領域に記憶させた格子状パターンに基づいてフレキソ印刷版描画装置を制御する(ステップS102)。 - 特許庁
To provide a resist pattern which realizes expansion of an area, wherein the incidence quantity of film forming particles is made uniform, in an aperture part of the resist pattern and realizes reduction of an area wherein the incidence quantity is changed, to provide an electrode forming method using the resist pattern, and to provide electronic parts having an electrode formed by using them.例文帳に追加
レジストパターンの開口部内において成膜粒子入射量が均一になる領域を広げ、入射量が変化する領域を少なくすることが可能なレジストパターン、該レジストパターンを用いた電極形成方法、及びそれらを用いて形成された電極を有する電子部品を提供する。 - 特許庁
The magnetic recording medium includes a data track area where a recording track is formed, and a servo pattern area where a servo pattern is formed, wherein a protrusion constituting the servo pattern includes magnetic particles and a grain boundary formed between the magnetic particles, and end parts of the protrusions are formed along the grain boundary.例文帳に追加
本発明の磁気記録媒体は、記記録トラックが形成されたデータトラック領域と、サーボパターンが形成されたサーボパターン領域とを含み、前記サーボパターンを構成する凸部が、磁性粒子と、前記磁性粒子間に形成された粒界とからなり、前記凸部の端部が前記粒界に沿って形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
In the magnetic recording medium having a data track area 20 and a servo pattern area 21 constituted of at least a disk substrate 1A, a magnetic recording layer 5 formed of a predetermined irregular pattern on the disk substrate 1A, and a nonmagnetic layer 6 formed in the recess of the irregular pattern, the problem is solved by forming recessed and projected parts on the surface of the data track area 20.例文帳に追加
少なくともディスク基板1Aと、ディスク基板1A上に所定の凹凸パターンで形成された磁気記録層5と、その凹凸パターンの凹部に形成された非磁性層6とからなるデータトラック領域20及びサーボパターン領域21を有する磁気記録媒体において、データトラック領域20の表面に凹凸を存在させたことにより、上記課題を解決した。 - 特許庁
A document retrieval part 44 assumes an area in the document acquired from a document DB 2, generates a keyword subset with the keyword extracted from the keyword set, generates a keyword appearance pattern (pattern) based on the keyword of the keyword subset which appears in the area and calculates appearance probability of a pattern which appears in the area based on each appearance probability of keywords for each document.例文帳に追加
文書検索部44は文書DB2から取得した文書に領域を仮定し,キーワード集合から抽出したキーワードでキーワード部分集合を生成し,領域に出現するキーワード部分集合のキーワードをもとにキーワード出現パターン(パターン)を生成して,文書ごとにキーワードの個々の出現確率にもとづいて領域に出現するパターンの出現確率を算出する。 - 特許庁
In a remaining area (data area) 6, excluding the character area 4, by arranging the positioning symbols 2 and the timing pattern 5, data cells are arranged two-dimensionally, each cell is either bright or dark colored, and thereby an identification code is displayed.例文帳に追加
コード領域から、記号領域4、位置決め用シンボル2、タイミングパターン5を除いた残りの領域(データ領域)6には、2次元にデータセルが配置され、各データセルを明あるいは暗に色分けすることにより、識別コードが表示される。 - 特許庁
When the splice part is detected, a printing apparatus sets the print prohibited area including the splice part and continues printing by changing a printing order and avoiding the print prohibited area so that a maintenance pattern is printed following the print prohibited area.例文帳に追加
スプライス部が検知されたら、スプライス部を含むプリント禁止領域を設定するとともに、プリント禁止領域に続けて保守パターンがプリントされるようにプリント順序を変更して、プリント禁止領域を避けてプリントを継続する。 - 特許庁
To provide a printing method and its apparatus which can prevent misregistration between the print object area on a substrate and a print pattern forming area to be printed actually caused by the size variation of the print object area in the substrate.例文帳に追加
基板における印刷対象領域のサイズのばらつきによる基板上の印刷対象領域と実際に印刷される印刷パターン形成領域とのずれを防止することができる印刷方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
Further, in the substrate 6, a fluidity assisting pattern 9 for promoting the fluidity of the resin 3 is formed on a semiconductor mounting area 7, which is an area facing the semiconductor element 1, and on an external peripheral part resin application area 8.例文帳に追加
また、基板6における、半導体素子1と対向する領域である半導体素子搭載領域7、および、外周部樹脂塗布領域8には、樹脂3の流動を促進する流動補助パターン9が形成されている。 - 特許庁
The prescribed test pattern includes first and second kinds of density areas arranged alternately and having different density from each other, and at least the first kind of density area includes a narrow area and a wide area.例文帳に追加
所定のテストパターンは、交互に配された互いに濃度の異なる第1種と第2種との濃度領域を含んでおり、かつ、少なくとも第1種の濃度領域が、幅の細い領域と幅の太い領域とを含んでいる。 - 特許庁
While referring to the cell area information 2, the layout data 3 having pattern information and cell quotation information in the same area are collected as one cell definition and a cell quotation to quote this cell definition is added to the relevant area.例文帳に追加
セル領域情報2を参照して、レイアウトデータ3におけるパターン情報およびセル引用情報が同一の領域のものを1つのセル定義としてまとめ、このセル定義を引用するセル引用を、該当する領域に追加する。 - 特許庁
In the semiconductor device where an active area 100 is bent at right angles, a pattern gap L between the active area 100 and a gate 200 is made larger than the arc radius RL of a bend R (portion where a line becomes circular) inside the pattern of the bent active area 100.例文帳に追加
アクティブ領域100が直角に曲折している半導体装置において,アクティブ領域100とゲート200とのパターン間隔Lは,曲折したアクティブ領域100のパターン内側の湾曲部R(ラインが円弧状となった部分)の円弧半径RLより大きくすることを特徴としている。 - 特許庁
After forming a photosensitive material film 44 on the surface of a transparent substrate 41, the first hologram pattern 42 of the first area and the second hologram pattern 43 of the second area with different grating intervals are respectively developed as mask patterns 44a and 44b by a suitable exposure amount corresponding to the grating interval of each area.例文帳に追加
透明基板41の表面に感光材料膜44を形成した後、格子間隔の異なる第1領域の第1ホログラムパターン42および第2領域の第2ホログラムパターン43をマスクパターン44a,44bとして各領域の格子間隔に応じた好適な露光量でそれぞれ現像する。 - 特許庁
A two-dimensional code 70 to be read by a two-dimensional code reading system 1 is configured such that first data including the ID of the two-dimensional code are recorded in a first data area near a specific pattern arranged at a specific corner section, and that second data are recorded in an area separated from the specific pattern in comparison with the first data area.例文帳に追加
二次元コード読み取りシステム1で読み取られる二次元コード70は、規定の角部に配置された特定パターン寄りの第1データ領域に、当該二次元コードのIDを含んだ第1データが記録され、第1データ領域よりも特定パターンから離れた領域に第2データが記録されている。 - 特許庁
To accurately find a delay value without taking into account the effect of a crosstalk caused by a black box or capacity generated between wirings with respect to wiring within the distinct area of a physical wiring pattern when handling the inner area or the outer area of a macro or the like as the black box in which the physical wiring pattern is indistinct.例文帳に追加
マクロ等の内側領域または外側領域を、物理配線パターンが不明であるブラックボックスとして扱う場合に、物理配線パターンの明らかな領域内の配線について、ブラックボックスから受けるクロストークの影響や配線間に生じる容量を考慮せずに、遅延値を正確に求めること。 - 特許庁
Pattern matching with the input image is performed with plural matching patterns, to obtain a moving image from a positional deviation between the positional deviation candidate area of the input picture high in the matching ratio and the area of the matching patterns to re-conduct pattern matching at the same position of the area of the plural matching patterns with the moving image.例文帳に追加
複数のマッチングパターンで入力画像とのパターンマッチングを行って、マッチング率が高い入力画像の位置ずれ候補エリアとマッチングパターンのエリアとの位置ずれ量から移動画像を得て、移動画像で複数のマッチングパターンのエリアと同じ位置において再度パターンマッチングを行うようにしたものである。 - 特許庁
In the polarization inversion forming method for polarization-inverting a desired area 20 of a ferroelectric substrate 1, an electrode pattern or a mask pattern is formed on the desired area on the surface of the ferroelectric substrate 1 as an aggregate of fine patterns and a prescribed voltage is applied to the desired area.例文帳に追加
強誘電体基板1の所望領域20を分極反転させる分極反転形成方法において、該強誘電体基板の表面の該所望領域に対し、電極パターン又はマスクパターンを微細なパターンの集合体として形成し、該所望領域に所定の電圧を印加することを特徴とする。 - 特許庁
The dummy conductor layer comprises: a first region 21 composed of a conductor pattern having a predetermined area ratio corresponding to an area ratio of the conductor layer 11 for products; and a second region 22 disposed adjacent to an inner circumference side of the first region 21 and composed of a conductor pattern with a higher area ratio than that of the first region 21.例文帳に追加
ダミー導体層は、製品用導体層11の面積率に対応する所定の面積率を有する導体パターンからなる第1領域21と、第1領域21の内周側に隣接配置され第1領域21よりも面積率が高い導体パターンからなる第2領域22とから構成される。 - 特許庁
A position information control signal S5 (synchronizing signal area 305, timing signal area 306 and track number identification signal area 307) is recorded on the recording medium by the positioned magnetic head 213a, and a servo pattern 308 is formed together with the servo burst signal area 304.例文帳に追加
位置決めした磁気ヘッド213aにより位置情報制御信号S5(同期信号領域305、タイミング信号領域306、トラック番号識別信号領域307)を記録媒体に記録し、前記のサーボバースト信号領域304とともにサーボパターン308となす。 - 特許庁
Lenses with high sphericity can be obtained by setting an area ratio (S1+S2)/S3 to a range of 7 to 45, wherein S1 is the exposure area of the electrode plate 12, S2 is the projection area of the resist pattern onto the substrate 10, and S3 is the exposure area of the oxygen generating section that includes the substrate 10.例文帳に追加
電極板12の露出面積をS1、レジストパターンの基板10への投影面積をS2、基板10を含む酸素発生部の露出面積をS3としたとき、面積比(S1+S2)/S3を7〜45の範囲内の値に設定すると、真球度の良いレンズが得られる。 - 特許庁
A theoretical dot-number calculation part 124 executes the half-tone processing of a noticed area set by an area setting part 122 by using a screen pattern of maximum density and calculates a theoretical dot number in the noticed area on the basis of density specification information set in the noticed area.例文帳に追加
理論ドット数算出部124は、領域設定部122により設定された注目領域を最高濃度のスクリーンパターンを用いてハーフトーン処理し、注目領域に対して設定された濃度指定情報を基に、注目領域の理論ドット数を算出する。 - 特許庁
Lithography data having the identification display of the cell in which the unit lithography area is included, the size of the unit lithography area, the arrangement position of the cell in a coordinate system, the size of a pattern included in the unit lithography area, and the arrangement position of the unit lithography area in the coordinate system are created.例文帳に追加
単位描画領域が含まれるセルの識別表示と単位描画領域の大きさとセルの座標系に対する配置位置と単位描画領域に含まれるパターンの大きさと単位描画領域の座標系に対する配置位置を有する描画データを作成する。 - 特許庁
When symbol are stopped in the left display area 34a of a special pattern display device 34 and two symbols containing stopped symbols in the left display area 34a are displayed simultaneously and stopped temporarily in the right display area 34c, the symbols are varied in ready for win patterns in the middle display area 34b.例文帳に追加
特別図柄表示器34の左表示領域34aにおいて図柄を停止し、右表示領域34cで左表示領域34aの停止図柄を含む2図柄を同時に表示して仮停止した際に、中表示領域34bでリーチ態様での図柄変動を行う。 - 特許庁
At the time of initial multi-pass print processing, the print object area is enlarged sequentially for each pass from the nozzle area on the downstream side of sheet carriage to the nozzle area on the upstream side and a mask pattern being assigned to the nozzle area of print object is switched sequentially for each pass.例文帳に追加
初期マルチパス印字処理時には、パス毎に用紙搬送下流側のノズル領域から順次上流側のノズル領域まで印字対象領域を拡大していくとともに、パス毎に印字対象のノズル領域に割り当てるべきマスクパターンを順次切り替えていく。 - 特許庁
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