「Pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The insulation film 1 is etched with the pattern 3a as a mask, a trench 1a for embedding wiring is formed at the surface side of the insulating film 1, and at the same time the pattern 3a is eliminated from the area on the insulating film 1.例文帳に追加

パターン３ａをマスクにして絶縁膜１をエッチングし、絶縁膜１の表面側に埋め込み配線用のトレンチ１ａを形成すると共に、絶縁膜１上からパターン３ａを除去する。 - 特許庁

The pattern image corrected so that the area of the white part is Sq is formed on a liquid crystal light valve 114, and the corrected pattern image is enlarged and projected to be displayed on a screen.例文帳に追加

液晶ライトバルブ１１４上には、白色部分の面積がＳｑに修正されたパターン画像が形成され、その修正されたパターン画像がスクリーン上に拡大投射されて表示される。 - 特許庁

To provide a screen mask capable of drastically shortening the ball sorting processing time by making the pattern opening area as large as possible, as a result of examination of various combination ways of pattern opening shape.例文帳に追加

パターン開口形状の組み合わせ方を各種検討した結果、パターン開口面積をできるだけ大きくしてボール選別処理時間を大幅に短縮できるようにした篩用マスクを得る。 - 特許庁

In the liquid crystal display device, a display pattern is formed in an area where a first electrode 12 and a second electrode 16 overlap each other, and the display pattern has at least one acute-angle corner 30.例文帳に追加

この液晶表示装置は、第１電極１２と第２電極１６が重なる領域において表示パターンが形成され、当該表示パターンには少なくとも１つの鋭角な隅部３０がある。 - 特許庁

To provide a biological pattern imaging device capable of preventing a biological region from contact with the imaging device or reducing an area in contact with the device when guiding a biological pattern to the imaging position.例文帳に追加

生体パターンを撮像位置へとガイドする際に、生体部位が撮像装置に接触しないように、あるいは、装置に接触する面積を小さくすることができる生体パターン撮像装置を提供する。 - 特許庁

The method for forming a pattern on the turbo machine (2) component includes adding of a material to a selected surface area of the turbo machine (2) component, and the material is arranged in a prescribed pattern.例文帳に追加

ターボ機械（２）構成部品上にパターンを形成する方法が、ターボ機械（２）構成部品の選択された表面領域に材料を加えることを含み、材料は所定のパターンで配置される。 - 特許庁

The exposed photosensitive resin layer 50 is developed in the bright room environment and the pattern of the emboss structure is formed in a part formed in a pattern area 51 of the photosensitive resin layer 50.例文帳に追加

露光された感光性樹脂層５０は、明室環境下において現像されて、感光性樹脂層５０のうち絵柄領域５１に形成された部分にエンボス構造のパターンが形成される。 - 特許庁

The jackpot performance pattern corresponding to the jackpot is determined from the performance aspects of multiple kinds based on the jackpot pattern displayed in the display area 16a of the liquid crystal display device.例文帳に追加

そして、液晶表示装置の表示領域１６ａに表示される大当り図柄に基づいて、大当りに対応する大当り演出パターンが複数種類の演出態様から決定される。 - 特許庁

The isolation film is one by one isotropically and anisotropiccally etched to have a boundary aligned on a side wall of floating-gate pattern, and a recessed area formed lower than the floating-gate pattern.例文帳に追加

素子分離膜は等方性エッチングと異方性エッチングとを順次に実施して前記浮遊ゲートパターンの側壁に整列された境界を有し、前記浮遊ゲートパターンより低く凹んだ領域を形成する。 - 特許庁

To provide an in-print method and an in-print device with which a mold pattern can be transferred all over the press plane with high uniformity by equally pressing the mold pattern of a wide area.例文帳に追加

広い面積の鋳型パタンを均等にプレスすることを可能にし、プレス面全域において均一性の高い鋳型パタンの転写が行えるインプリント方法及びインプリント装置を提供すること。 - 特許庁

As for a plurality of gradation levels in the density area where it is difficult to measure the density of the patch pattern by the sensor, the patch pattern is formed by mixing two kinds of toners having the same color but different in density.例文帳に追加

ここで、パッチパターンの濃度のセンサによる測定が困難な濃度域における複数の階調レベルについては、同一色で濃度の異なる２種類のトナーを混色してパッチパターンを生成する。 - 特許庁

A management server generates a pattern file for detection based on activation information circulating on a network and registers the generated pattern file for detection in an activation information storage area.例文帳に追加

管理サーバが、ネットワーク上に流出しているアクティベーション情報に基づいて検出用パターンファイルを作成し、作成した検出用パターンファイルをアクティベーション情報格納領域に登録する。 - 特許庁

Subsequently, a resist pattern 21 and the third insulation layer 3 having an open area ratio varied in correspondence with the gap shape are etched simultaneously thus transferring the resist pattern 21 to the third insulation layer 3.例文帳に追加

ギャップ形状に対応して開口率を変化させたレジストパターン２１及び第３の絶縁層３を同時にエッチングすることにより、レジストの形状が第３の絶縁膜３に転写されていく。 - 特許庁

This control device 4 for controlling swing motion, includes an air conditioning state determining section 41a, a swing pattern memory area 42, a swing pattern selecting section 41b, and a control command creating section 41e.例文帳に追加

制御装置４は、スイング動作を制御する制御装置であって、空調状態判定部４１ａとスイングパターン記憶領域４２とスイングパターン選択部４１ｂと制御指令生成部４１ｅとを備える。 - 特許庁

A cloth 6A is arranged at the adjusting area Aa of a support surface 21 of a cutting table 2, after the adjustment of the position of the cutting pattern 7 is carried out, and arrangement data for presenting the cutting pattern 7 is generated.例文帳に追加

裁断テーブル２の支持面２１の調整領域Ａａに布地６Ａを配置し、裁断パターン７の位置の調整が行われた後、裁断パターン７を表す配置データを作成する。 - 特許庁

Whether each division area of each fault is an abnormal part is determined by an abnormality determination part 28, and the pattern of the abnormal part is generated for each fault by a pattern generation part 30.例文帳に追加

異常判定部２８によって、各断層の各分割領域について、異常箇所であるか否かを判定し、パターン生成部３０によって、異常箇所のパターンを各断層について生成する。 - 特許庁

To provide a design method of a dummy pattern capable of suppressing operation failure which is caused by a parasitic resistance of a metal wiring pattern PT of a semiconductor integrated circuit device, while suppressing increase in chip area.例文帳に追加

チップ面積の増大を抑えつつ半導体集積回路装置の金属配線パターンＰＴの寄生抵抗に起因する動作不良を抑制可能なダミーパターンの設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and a method for it which can finely set an area where a high accuracy inspection is required, suppress detection of untrue defects and rapidly inspect a pattern.例文帳に追加

高精度の検査が必要なエリアをきめ細かく設定し、かつ擬似欠陥の検出を抑制しつつ、迅速にパターン検査をすることが可能なパターン検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

A pattern extracting device extracts character string areas from a color picture by using a method to extract large characters on a background of a plurality of colors, and extracts a pattern in each character string area (S91).例文帳に追加

パターン抽出装置は、まず、複数色の背景上の大きな文字を抽出する方法を用いて、カラー画像から文字列領域を抽出し、各文字列領域内のパターンを抽出する（Ｓ９１）。 - 特許庁

To provide a pattern layout device that effectively and precisely extracts a shape and a critical area value from patterns that is a parameter required for calculating the yield of the wiring pattern.例文帳に追加

ある形状の配線パターンから、その歩留まりを計算するために必要なパラメータであるクリティカルエリアの面積値と形状を効率的かつ高精度に抽出するパターンレイアウト装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography simulation method capable of accurately verifying a transcription pattern even though a calculating area of the lithography simulation is narrowed to achieve a good balance between a reduction of calculation time and an accuracy of the pattern verification, and to provide a program for making a computer execute the method.例文帳に追加

リソグラフィ・シミュレーションの計算領域を狭くしても転写パターンを正確に検証することができ、計算時間の短縮とパターン検証の正確性との両立をはかる。 - 特許庁

Because a dot pattern printed on the version-recognition area is different for each version of the form, the version recognition device recognizes the version of the form by using the pattern.例文帳に追加

バージョン認識用エリアに印刷されたドットパターンは、電子ペン用帳票のバージョン毎に異なるものであるので、バージョン認識装置は、これを利用して電子ペン用帳票のバージョンを認識する。 - 特許庁

Also, on the valid line L including the valid line L2, the pattern combination composed of the pattern '7' displayed in the display area H1 and the patterns displayed in the display areas H2 and H3 is recognized.例文帳に追加

また、有効ラインＬ２を含む有効ラインＬでは、表示領域Ｈ１に表示された図柄「７」と表示領域Ｈ２，Ｈ３に表示される図柄で構成される図柄パターンが認識される。 - 特許庁

To provide a latent image carrier where an area having different characteristic from that of the periphery can be formed in an optional pattern with good positioning accuracy and a mark for positioning, a pattern for correcting an exposing dot position or the like can be formed.例文帳に追加

周囲と特性の異なる領域を任意のパターンで位置精度良く作成可能であり、位置決め用マークや露光ドット位置補正用パターン等を作成可能とした潜像担持体を提供する。 - 特許庁

In performing the correction of proximity effect to a design pattern with which the structural layer of a semiconductor device can be designed, first, a plurality of divided areas DA are formed by dividing the whole area of a design pattern.例文帳に追加

半導体装置の構成層を設計する設計パターンに近接効果の補正をするにあたって、まず、設計パターンの領域全体を等分して複数の分割領域ＤＡを生成する。 - 特許庁

A binarization part 21 cuts out a picture in a color area of a comparison decision object from color picture data as a binary picture and a pattern matching part 22 decides similarity between the cut out binary picture and a reference pattern.例文帳に追加

２値化部２１はカラー画像データから比較判定対象のカラー領域の画像を２値画像として切り出し、パターンマッチング部２２は切り出された２値画像と基準パターンの類似性を判断する。 - 特許庁

When the special picture patterns are arrayed on all the display areas, the picture pattern fades out of a certain display area and after all the special picture patterns disappear, the final special picture pattern fades in and is displayed.例文帳に追加

そして、総ての表示領域に特別図柄が配列されると、ある表示領域からフェードアウトして行き、総ての特別図柄が消えた後、最終の特別図柄がフェードインして表示される。 - 特許庁

An area corresponding to a range to form the circuit pattern 14 of the substrate 11 are all covered with the magnetic substance core 12, while the circuit pattern 14 is exposed outside the range covered by the core 12.例文帳に追加

基板１１の回路パターン１４の形成範囲に対応する領域は、すべて磁性体コア１２により覆われるが、回路パターン１４は、コア１２に覆われる範囲より外側に露出する。 - 特許庁

A display screen in the center of a game area is provided with a special pattern display part L1 notifying a big win determination result, and demonstration pattern display parts D1-D3 attracting the player's attention more than that.例文帳に追加

遊技領域中央の表示画面には、大当たり判定の結果を報知する特別図柄表示部Ｌ１と、それよりも遊技者の目を惹くデモ図柄表示部Ｄ１〜Ｄ３が設けられている。 - 特許庁

At this time after establishment of an effective line, further a pattern memory means 122 stores a display pattern where a new effective line including a display area being not located on the effective line is established.例文帳に追加

このとき、パターン記憶手段１２２は、有効ラインが設定された後、更に、その有効ライン上に位置しない表示領域を含む新たな有効ラインが設定される表示パターンを記憶する。 - 特許庁

And an operation of writing an image pattern on the photoreceptor is started by an exposure device at a time T4, and developing is executed in accordance with the image pattern from a time T5 when the leading end of the exposure area reaches the developing part.例文帳に追加

そして、時刻Ｔ４で感光体に露光器で画像パターンの書き込みを開始し、現像部に露光領域の先頭が到達する時刻Ｔ５から、画像パターンに応じて現像される。 - 特許庁

To provide a periodicity pattern-inspecting apparatus and a periodicity pattern-inspecting method for accurately measuring an opening area even if the luminance distribution of a light source and the sensitivity distribution of a camera exist in an imaging system.例文帳に追加

撮像系において光源の輝度分布やカメラの感度分布が存在する場合であっても、開口面積を正確に計測することができる周期性パターン検査装置と方法とを提供する。 - 特許庁

Then, a resist pattern 5 is formed on the polycrystalline silicon film 3 and impurities 6 are implanted inside the polycrystalline silicon film 3 in an area to form the NMOS with the resist pattern 5 as a mask.例文帳に追加

次に、多結晶シリコン膜３上にレジストパターン５を形成し、このレジストパターン５をマスクとしてＮＭＯＳを形成すべき領域の多結晶シリコン膜３内に不純物６を注入する。 - 特許庁

Next, pixel values inside the pattern image are hierarchically and successively calculated from the values of these density cooccurence matrix and conditional density cooccurence matrix and all pixel values inside pattern image area are determined (S5-S9).例文帳に追加

次に、該濃度共起行列と該条件付き濃度共起行列の値から模様画像内の画素値を階層的に順次算出し、模様画像領域の全ての画素値を決定する（Ｓ５〜Ｓ９）。 - 特許庁

To provide an antenna pattern correction method for a synthetic aperture radar capable of acquiring a backward scattering coefficient more accurately by correcting the antenna pattern accurately even on an area having the greatly-changing ground surface altitude.例文帳に追加

地表面高度が大きく変化するエリアであっても、アンテナパターンを正しく補正して、後方散乱係数をより正確に得られる合成開口レーダーのアンテナパターン補正方法を提供すること。 - 特許庁

For each small-area dither matrix, an arrangement pattern of dots is generated based upon the threshold data and arrangement data over a range of values that the image data possibly take, and the arrangement pattern is recorded in a conversion table.例文帳に追加

そして、各小領域ディザマトリクスについて、画像データの取り得る値の範囲に亘って、前述した閾値データと配置データとに基づきドットの配置パターンを生成し、これを変換テーブルに記録する。 - 特許庁

The forefront end of the insulating film pattern 11 is positioned in the extended area of the tip part 14a(1) of an upper pole chip 14a.例文帳に追加

絶縁膜パターン１１の最前端は、上部ポールチップ１４ａのうちの先端部１４ａ(1) の延在領域内に位置するようにする。 - 特許庁

A speed detection pattern 10-3 is added to the servo area 10 of a disk 12, and the speed of a head is detected at the frequency of a reproducing signal.例文帳に追加

デイスク（１２）のサーボエリア（１０）に速度検出パターン（１０−３）を付与し、再生信号の周波数でヘッドの速度を検出する。 - 特許庁

A mask generation part 40 specifies an area unfit for stereoscopic processing in a reference image 24 of the object and prepares a mask pattern 28.例文帳に追加

マスク生成部４０は、対象物の基準画像２４においてステレオ処理に不向きな領域を特定し、マスクパターン２８を作成する。 - 特許庁

To realize illumination suitable for an exposure device by which a pattern is transferred without lowering a throughput even in the case of a large exposure area.例文帳に追加

露光領域が大きな場合でもスループットを低下させずにパターンを転写できる露光装置に好適な照明を実現する。 - 特許庁

To provide an operational amplifier from which a large output current can be obtained in spite of a low power supply voltage VDD and a small pattern area.例文帳に追加

低い電源電圧ＶＤＤと小さなパターン面積で、大きな出力電流を得ることができる演算増幅器を提供する。 - 特許庁

To provide a developing apparatus capable of forming a preformat pattern having high uniformity while hardly generating development unevenness in a recording area.例文帳に追加

記録領域における現像むらを生じにくく均質性の高いプリフォーマットパターンを形成可能な原盤の現像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a protection circuit having a small pattern area for countermeasure of an electrostatic discharge damage capable of passing an electrostatic discharge damage test of a human body model and a machine model.例文帳に追加

人体モデルとマシンモデルの両方の静電破壊試験をパスするとともにパターン面積の小さな保護回路を提供する。 - 特許庁

When a cutter, with which the margin around an image recorded area is cut, is equipped, the calibration pattern is printed in the margin to be cut off.例文帳に追加

画像記録エリアの周りの余白を切断するカッタを備えている場合には、切断される余白にキャリブレーションパターンを印画する。 - 特許庁

The film pattern 40 is irradiated with laser light 50 emitted from a laser body 51 with an irradiation spot having an enlarged irradiation spot area.例文帳に追加

レーザ本体５１から出射されるレーザ光５０は照射スポット面積を広くした照射スポットで膜パターン４０に照射される。 - 特許庁