「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The deionized water supplied to the upper surface of the wafer W spreads on the upper surface f the wafer W, and is accumulated in the form of a liquid membrane by its surface tension on the wafer W.例文帳に追加

ウエハＷの上面に供給された純水は、ウエハＷの上面に拡がり、その表面張力でウエハＷ上に液膜となって溜められる。 - 特許庁

The table 15 can carry out a rotation maintenance of the substrate W so as to form a clearance G between the substrate W and the table 15, while the projection materials 22 being in contact with the substrate W from a lower part.例文帳に追加

テーブルは、突出部材が基板に下方から接触して、当該基板とテーブルとの間に隙間Ｇを形成するようにして基板を回転保持し得る。 - 特許庁

This demolition equipment for the tower-like structure W crushes the tower-like structure W in order from an upper end thereof by using a crushing machine 2 which is positioned above the tower-like structure W.例文帳に追加

塔状構造物Ｗの解体装置は、塔状構造物Ｗの上方に位置される破砕機２により塔状構造物Ｗをその上端部から破砕する。 - 特許庁

In addition, if thickness is defined as t and the width as w, the metal particle is of plate shape, having an aspect ratio (w/t) of 10 to 100 and width (w) of 10-4,000 μm.例文帳に追加

また、金属粒子は、厚さをｔ、幅をｗとした場合、アスペクト比（ｗ／ｔ）が１０〜１００、幅（ｗ）が１０〜４０００μｍの板状としている。 - 特許庁

While the wafer W is pre-aligned in the chamber 10, the temperature of the wafer W is raised to a value higher than the atmospheric temperature.例文帳に追加

プリアライメント室１０内でのウェハのプリアライメント中に、ウェハＷは大気温度よりも高い温度に昇温される。 - 特許庁

The substrate W can be completely dried out while the substrate W is pulled up in one direction, so that a drying time can be shortened.例文帳に追加

また、基板Ｗを一方向に引き揚げる間に乾燥が終了するため乾燥時間を短縮できる。 - 特許庁

The vertical wall 13 is expanded and contracted in accordance with the wire volume of the wireharness W/H, to make the wireharness W/H flat.例文帳に追加

ワイヤハーネスＷ/Ｈの電線量に対応して垂直壁１３を伸縮させ、ワイヤハーネスＷ/Ｈをフラット化する。 - 特許庁

The sheet metal process work support system is used in a sheet metal process for handling component sheet materials w cut out from a raw sheet material W.例文帳に追加

素材板材Ｗから切り抜き加工された部品板材ｗを取り扱う板金工程に用いられる。 - 特許庁

To provide a W/O/W type double emulsion having excellent temporal stability and excellent in moisture retention and use feeling.例文帳に追加

経時安定性が高く、保湿性および使用感触に優れるＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルションを提供する。 - 特許庁

To provide a W/O/W-type multiple emulsion having excellent percutaneous absorptivity and containing an oil-soluble drug in the oil phase.例文帳に追加

経皮吸収性に優れた、油相に油溶性薬物を含有するＷ/Ｏ/Ｗ型複合エマルションの提供。 - 特許庁

Water W is encapsulated in the hollow section 3 and the gap part not occupied with the water W is substantially vacuum.例文帳に追加

中空部３には水Ｗが封入されており、水Ｗが占めていない空隙部は実質的に真空である。 - 特許庁

The hooking means 18 grasps the articles W in a direction having a clearance d between the articles W by hooking.例文帳に追加

引っ掛け手段１８は、物品Ｗ間に隙間ｄがある方向において物品Ｗを引っ掛けにより把持する。 - 特許庁

Yokota Sakie, 70, and her son met with U.S. President George W. Bush in his office on April 28. 例文帳に追加

４月28日，横田早(さ)紀(き)江(え)さん(70)と彼女の息子がジョージ・W・ブッシュ米大統領と大統領執務室で面会した。 - 浜島書店 Catch a Wave

Consequently, when the workpiece W is carried in the respective areas, there is such advantage that the workpieces W are not needed to be arrayed.例文帳に追加

このため、各エリアにワークＷを搬入した際、ワークＷを整列させる必要がないなどの利点がある。 - 特許庁

In another aspect, this inorganic excipients may include less than about 10% (w/w) of a tricalcium phosphate ingredient.例文帳に追加

別の局面において、この無機性賦形剤は、約１０％（ｗ／ｗ）未満のリン酸三カルシウム成分を含み得る。 - 特許庁

To improve the accuracy in the bending work of a workpiece W while shortening a period of time required for positioning the workpiece W.例文帳に追加

ワークＷの位置決めに要する時間の短縮化を図りつつ、ワークＷの曲げ加工の精度を向上させること。 - 特許庁

This carbonization unit heats organic wastes W by a heater 22 as the heat-generating means installed on the side wall in an oven 20 of closed structure to a carbonization temperature.例文帳に追加

密閉構造の炉体(20)壁面の発熱ヒータ手段(22)によって有機性廃棄物(W) を炭化温度に加熱する。 - 特許庁

Then, a virtual direction is determined between the viewing participant (W') and the viewed object in the immersive virtual environment (100A).例文帳に追加

次いで、没入型仮想環境（100A）における閲覧参加者（W'）と被閲覧オブジェクトの間の仮想方向が求められる。 - 特許庁

Then the water W for storage is irradiated with ultraviolet rays to prevent algae from being produced in the water W for storage.例文帳に追加

続いて、保管用水Ｗに藻が発生することを防止すべく、保管用水Ｗに紫外線を照射する。 - 特許庁

A retaining table 1 retains the wafer W under a condition that a linear expansion in a direction parallel to the surface of the substrate W is permitted.例文帳に追加

保持台１が、基板Ｗを、その表面に平行な方向の熱膨張を許容した状態で保持する。 - 特許庁

As a result, the silicon wafer W can be ground in a high accuracy with fine grinding abrasive grains, thereby reducing working damages to the wafer W.例文帳に追加

よって微細な研磨砥粒でシリコンウェーハＷの面が高精度に研磨され、その時の加工ダメージも抑えられる。 - 特許庁

In the operating liquid W, a bumping source 26 of 0.1-50 wt.% of the liquid W is mixed.例文帳に追加

作動液Ｗには、作動液Ｗの０．１〜５０wt％の突沸発生源２６が混入されていることを特徴とする。 - 特許庁

The substrate W is supported nearly in a horizontal posture while the substrate W is separated upward from a spin base 15 by a prescribed distance.例文帳に追加

スピンベース１５から所定距離だけ上方に離間させた状態で基板Ｗを略水平姿勢で支持する。 - 特許庁

Simultaneously, the W pixels are reset for a plurality of times in an imaging frame so that the photoelectrons of the W pixels are not saturated.例文帳に追加

同時に、Ｗ画素の光電子が飽和しないように、撮像フレーム中に、Ｗ画素に複数回のリセットを掛ける。 - 特許庁

Thereafter, the rotation velocity of the wafer W is accelerated and resist solution supplied in advance is diffused all over the wafer W.例文帳に追加

その後，ウェハＷの回転速度が加速され，先に供給されたレジスト液がウェハＷ全面に拡散される。 - 特許庁

In this state, the corresponding workpiece W is placed on the positioning means, so that the positioning support of the workpiece W can be performed.例文帳に追加

かかる状態で対応するワークＷを載せることにより、そのワークＷを位置決め支持することができる。 - 特許庁

To provide a cosmetic preparation and a dermatological preparation in the form of an O/W emulsion comprising an amino-substituted hydroxybenzophenone.例文帳に追加

本発明は、アミノ置換ヒドロキシベンゾフェノンを含むO/W型エマルションの形態の化粧用製剤および皮膚用製剤に関する。 - 特許庁

To prepare a W/O/W emulsion capable of effectively suppressing the leakage of useful substances contained in an inner aqueous phase.例文帳に追加

内水相中に含まれる有用物質の漏洩を効果的に抑制できるＷ／Ｏ／Ｗエマルションを提供する。 - 特許庁

The wear length a (w) in the tool normal direction of the set unit width dw at each surface position w is removed from the stored surface shape of the grinding wheel 10 so as to calculate the uneven-wear shape of the grinding wheel 10.例文帳に追加

記憶されている砥石車１０の表面形状から、各表面位置wでの設定単位幅dwの工具法線方向摩耗長a(w)を除去することにより、砥石車１０の偏摩耗形状を算出する。 - 特許庁

When a part of the case W is dropped in a space 10 between the first roller 4 and the second roller 5 by releasing the contact between the stopper body 11 and the case W, the case W is rotated and the tilt angle of the case W is increased.例文帳に追加

ストッパ体11とケースＷとの当接を解除してケースＷの一部を第１ローラ４および第２ローラ５間の間隙10内に落下させると、ケースＷが回動してケースＷの傾斜角度が増大する。 - 特許庁

The proximity scanning exposure apparatus 1 irradiates a substrate W transferred in an X direction while approaching a plurality of masks M, with exposure light EL through the plurality of masks M to impart patterns P of the plurality of masks M onto the substrate W by exposure.例文帳に追加

近接スキャン露光装置１は、複数のマスクMに近接しながらX方向に搬送される基板Wに対して複数のマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板Wに複数のマスクMのパターンPを露光する。 - 特許庁

To provide a method for producing fine particles of an Ni-W alloy (or an Ni-W-based alloy), which can control a content of W in the fine particles of the Ni-W alloy to a desired value.例文帳に追加

Ｎｉ−Ｗ合金微粒子中におけるＷの含有量を所望の値にすることが可能であるＮｉ−Ｗ合金（もしくはＮｉ−Ｗ系合金）微粒子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a preparation method of the W/O/W emulsion contrast agent, a W/O emulsion is injected and dispersed in an outer aqueous phase through a porous glass film, wherein the W/O emulsion contains the water-soluble contrast compound in an aqueous phase and an oily contrast compound in an oily phase.例文帳に追加

本発明のＷ／Ｏ／Ｗ型エマルション造影剤の製造方法は、水相中に水溶性造影化合物を含有し、油相中に油性造影化合物を含有するＷ／Ｏ型エマルションを、多孔質ガラス膜を介して外水相中に圧入分散することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a fish-handling method which can ensure to receive fishes w in a fish tank of a fishing boat in trouble-free efficiency, can further efficiently land the fishes w without crushing the fishes w with foots, and can sanitarily carry the fishes w to a destination in good freshness.例文帳に追加

漁船において漁獲物ｗを支障のない能率で魚倉内に収容できることを確保した上で、漁獲物ｗを踏みつぶすことなく能率的に水揚げしたり、鮮度良く衛生的に目的地まで搬送することを可能とする。 - 特許庁

As only the wafer W in the identical group is housed in one cassette C, the variation in thickness of the plurality of wafers W in the cassette C is in the predetermined range.例文帳に追加

一つのカセットＣには同じグループのウエハＷだけが収容してあるので、カセットＣ内における複数枚のウエハＷについての厚さのバラツキは所定範囲内に収まっている。 - 特許庁

A glass plate W is inserted in and held by a movable glass holding table 4 having a glass supporting means 8 to position the substantially rectangular glass plate W in an erected state, and support the glass plate W in a put-in and -out manner.例文帳に追加

大略矩形状のガラス板Ｗを起立状態で位置決めし且つガラス板Ｗを出し入れ自在に支持するガラス支持手段８を備える移動自在のガラス保持台４に、ガラス板Ｗを投入して保持させる。 - 特許庁

In machining a film with a transparent conductive membrane, the focal length f12 of a laser beam machining device 1 is adjusted, and in the conditional range where a machining width radius w becomes smaller than the focal beam radius wo, the machining width radius w is determined (machining width adjustment step).例文帳に追加

透明導電膜付フィルムの加工に際し、レーザー加工装置1の焦点距離f_12を調整し、加工幅半径wが焦点ビーム半径w_oより小さくなる条件範囲において、加工幅半径wを決定する（加工幅調節ステップ）。 - 特許庁

Since a wafer W is stored in a cassette C by rotating the wafer W from a direction in which cutting grooves or a modified layer is formed by a prescribed angle, the wafer W can be securely stored without generating a warp on the wafer W.例文帳に追加

ウェーハＷを、切削溝、または改質層の形成されている方向より所定の角度回転させてカセットＣへ収納することにより、ウェーハＷに撓みを生じさせず、安全にウェーハＷを収納することが可能となる。 - 特許庁

By substituting the air in the casing 20 with an inert gas by means of the gas substitution unit, the kiln body 10 can conduct reduction firing of green bodies W, W..., and by using the air in the casing 20, can conduct oxidization firing of the green bodies W, W....例文帳に追加

炉本体１０は、ガス置換ユニットによってケーシング２０内の空気を不活性ガスに置換することにより、素地Ｗ、Ｗ…を還元焼成することができ、ケーシング２０内の空気により、素地Ｗ、Ｗ…を酸化焼成することができる。 - 特許庁

Substrates W are carried in a cleaning unit 11 from cartridges CA accommodated in carried-in/out chambers 15 and 16, and contaminants adsorbed to the surfaces of the substrates W are desorpted by heating the substrates W.例文帳に追加

搬出入室１５、１６に収容されたカートリッジＣＡからクリーニングユニット１１に基板Ｗを搬出し、ここで基板Ｗを加熱して基板Ｗ表面に吸着した汚染物質を脱離する。 - 特許庁

The system comprises a cleaning device 4 for cleaning the work W in the vertical state, a drying device 5 for drying the work W in the vertical state, and a conveying device 2 for conveying the work W in the vertical state.例文帳に追加

即ち、ワークＷを垂直な状態で洗浄する洗浄装置４，ワークＷを垂直な状態で乾燥させる乾燥装置５，ワークＷを垂直な状態で搬送する搬送装置２を設けた。 - 特許庁

An annular body 1 is formed in nearly the same shape as the end face w of two steel materials W to be joined and with nearly the same material as the steel materials W, and is of a structure in which a degassing means 2 is provided in the annular body 1.例文帳に追加

接合する２本の鋼材Ｗの端面ｗと略同形状で且つ鋼材Ｗと略同材で環本体１を形成すると共に、該環本体１にガス抜き手段２を設けた構造とする。 - 特許庁

The liquid W reserved in the liquid filter can be water.例文帳に追加

液体フィルタに貯留される液体Ｗは水とすることができる。 - 特許庁

The control section reads out an execution command group stored in a storage section and controls the R/W device section in response to an execution command corresponding to the execution mode.例文帳に追加

制御部は記憶部に格納された実行コマンド群を読み出し、前記実行モードに対応した実行コマンドでR/Wデバイス部を制御する。 - 特許庁

There are provided a lower plate 2 disposed in opposition to a lower surface of a wafer W, and an upper plate 3 disposed in opposition to an upper surface of the wafer W.例文帳に追加

ウエハＷの下面に対向配置される下プレート２と、ウエハＷの上面に対向配置される上プレート３とを備えている。 - 特許庁