「Z a」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

An initial vector deciding part 4 calculates such a vector as to lower an evaluation function E(z) obtained by making entropy E1(z) after DCT application and a quantization error E2(z) its elements and defines the vector as an initial vector.例文帳に追加

初期ベクトル決定部４は、ＤＣＴ適用後のエントロピＥ_１ （ｚ）と量子化誤差Ｅ_２ （ｚ）を要素とする評価関数Ｅ（ｚ）を低下させるようなベクトルを求め、これを初期ベクトルとする。 - 特許庁

When overlapping, the Z values of Z buffers are compared, and color information and the Z values of a target region are updated so that data of pixels that are nearer than a viewpoint are always displayed.例文帳に追加

重ね合わせる際には、ＺバッファのＺ値を比較し、視点より近い画素のデータが常に表示されるようにターゲット領域の色情報およびＺ値を更新していく。 - 特許庁

At this time, the robot controller 4 separately calculates the arm finger speed T as two sets of an xy directional translation speed and a rotating speed around respective axes (txtyωxωyωz) and a z directional translation speed tz.例文帳に追加

このとき、ロボットコントローラ４は、アーム手先速度Ｔを、ｘｙ方向の並進速度及び各軸回りの回転速度（ｔ_xｔ_yω_xω_yω_z）と、ｚ方向の並進速度（ｔ_z）の２組に分けて算出する。 - 特許庁

With respect to one substrate, positions in a Z direction of respective Z-tilt mechanisms after gap adjustment (or positions at a first prescribed distance from these positions) are stored as registered positions for respective shots of the Z-tilt mechanisms per shot.例文帳に追加

１枚の基板に対して、ショット毎に、ギャップ合わせ後の各Ｚ−チルト機構のＺ方向の位置（又はそれらから第１の所定距離だけ離れた位置）を、各Ｚ−チルト機構の各ショットについての登録位置として記憶する。 - 特許庁

The positive electrode active material for the lithium secondary battery is a material represented by LixMn2-a-bCraMbO4+z, where x≥2, 0.25<a<2, 0<b≤0.3, 0≤z, M is alkali earth metal, transition metal or these mixture.例文帳に追加

Li_xMn_2-a-bCr_aM_bO_4+zに示されるリチウム二次電池用正極活物質(ｘ≧２、０．２５<ａ<２、０<ｂ≦０．３、０≦ｚ、Ｍはアルカリ土金属、遷移金属またはこれらの混合物)。 - 特許庁

In the case that polygons PL1 and PL2 after a geometry processing are provided with the same Z value, a Z shift value is added/ subtracted to/from the Z value of at least one of the polygons.例文帳に追加

ジオメトリ処理後のポリゴンＰＬ１、ＰＬ２が同一のＺ値を有する場合に、少なくとも一方のポリゴンのＺ値にＺシフト値を加減算する。 - 特許庁

The optical layer has a refractive index is 1.55 or more and less than 1.8 and a composition SiTi_xO_yC_z (x=0.05 to 1, y=1.5 to 4 and z=0.05 to 1).例文帳に追加

屈折率が１．５５以上１．８未満（λ＝５５０ｎｍ）であって、層の組成がＳｉＴｉ_xＯ_yＣ_z（ｘ＝０．０５〜１、ｙ＝１．５〜４、ｚ＝０．０５〜１）である光学層とする。 - 特許庁

The metal vanadate apatite comprises a chemical compound represented by the following formula (I): M_10-z(HVO_4)_z(VO_4)_6-z(OH)_2-z wherein M represents a metal element and z is equal to or greater than zero and equal to or smaller than 1.例文帳に追加

金属バナジン酸アパタイトには、下記の組成式（Ｉ） Ｍ_10-z（ＨＶＯ_4）_z（ＶＯ_4）_6-z（ＯＨ）_2-z （Ｉ）（式中、Ｍは金属原子を示し、０≦ｚ≦１である）で表される化合物が含まれる。 - 特許庁

In Table I, the X, Y values are each indicated by the inch, and the Z value is a dimensionless value of 0.05 to 0.95 which is convertible into a Z distance indicated by the inch and obtained by multiplying the Z value by the aerofoil section height indicated by the inch.例文帳に追加

表Ｉにおいて、Ｘ及びＹ値は、インチで表されており、Ｚ値は、該Ｚ値にインチで表した翼形部の高さを乗じることによってインチで表したＺ距離に換算可能な０．０５〜０．９５の無次元値である。 - 特許庁

The Zr precursor is represented by general formula; Zr_x(OR)_yL_z (wherein R is an alkyl group; L is a β-diketonate group; x is 1 or 2; y is 2, 4 or 6; and z is 1 or 2), and is used for depositing thin films of or containing zirconium oxide using an MOCVD technique.例文帳に追加

一般式: Zr_x(OR)_yL_z (式中、Rはアルキル基であり; Lはβ-ジケトネート基であり; x = 1又は2であり; y = 2、4又は6であり; z = 1又は2である。）を有する、MOCVD法を用いて酸化ジルコニウムの薄膜又は酸化ジルコニウムを含む薄膜を堆積させるのに用いるジルコニウム前駆物質。 - 特許庁

The preferred film is expressed by a chemical formula Si_vO_wC_xH_yF_z wherein v+w+x+y+z=100%, v=10-35 atom%, w=10-65 atom%, x=1-30 atom%, y=10-50 atom% and z=0.1-15 atom% without substantial binding between fluorine and carbon.例文帳に追加

好ましい膜は化学式Ｓｉ_vＯ_wＣ_xＨ_yＦ_zによって表され、式中、ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００％、ｖが１０〜３５原子％、ｗが１０〜６５原子％、ｙが１０〜５０原子％、ｘが１〜３０原子％、及びｚが０．１〜１５原子％であり、実質的にフッ素が炭素に結合されていない。 - 特許庁

A preferred film is expressed by the formula Si_vO_wC_xH_yF_z (v+ w+x+y+z=100%, v stands for 10-35 atom.%, w for 10-65 atom.%, y for 10-50 atom.%, x for 2-30 atom.%, and z for 0.1-15 atom.%), and fluorine is not bonded to carbon.例文帳に追加

好適な膜は式Ｓｉ_vＯ_wＣ_xＨ_yＦ_z（ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００％、ｖは１０〜３５原子％、ｗは１０〜６５原子％、ｙは１０〜５０原子％、ｘは２〜３０原子％、およびｚは０．１〜１５原子％）で表わされ、実質的にフッ素は炭素に結合されていない。 - 特許庁

A coordinate calculating device 4 calculates the positions (X,Y,Z) of the heads of the users 1 on three-dimensional coordinates according to the images supplied from the image pickup devices 3, receives signals indicating angles (Rx, Ry, Rz) from the detecting devices 2, and find the positions and angles (X, Y, Z, Rx, Ry, Rz) of the detecting devices 2.例文帳に追加

座標算出装置４は、撮像装置３から供給された画像を基に使用者１の頭部の３次元の座標上の位置（X,Y,Z）を算出し、検出装置２からの角度（Rx,Ry,Rz）を示す信号を受信し、検出装置２の位置および角度（X,Y,Z,Rx,Ry,Rz）を求める。 - 特許庁

This method for removing the allergy-initiating substance is carried out by passing water through activated carbon to remove chromium or one or more chemical substances which could be the allergy-initiating substances generating a mass number (LC/MSMS) selected from the group consisting of about 161 m/z, about 256 m/z, about 284 m/z, and about 365 m/z.例文帳に追加

本発明の方法は、水を活性炭に通液して、アレルギー発症源となる約161m/z、約256m/z、約284m/z、および約365m/zからなる群から選択されるいずれかの質量数（LC/MSMS）を与える１種または２種以上の化学物質、またはクロムを除去することによって実施することができる。 - 特許庁

The regulation means, which regulates the position of the lens block 28 in the subscanning direction Z, is the arc parts 32 which engage with the arc parts 28a, on both the sides in the main scanning direction at a reference temperature, and worm screws 35 to which the lower edge part 28b is abutted against when subscanning direction Z at high temperature.例文帳に追加

そして、レンズブロック28を副走査方向Zに位置規制する規制手段は、基準温度においては主走査方向両側円弧形状部28aと嵌合する円弧部32であり、高温時においては副走査方向Zの下端部28bが当接する虫ビス35である。 - 特許庁

A graphics pipe line performs z buffering and when an anti- aliasing rendering mode is selected, z value bit compression is performed to more efficiently use usable z buffer memory.例文帳に追加

グラフィックスパイプラインはＺバッファリングを行い、アンチエイリアシングレンダリングモードが選択されたとき、利用可能なＺバッファメモリをより効率的に利用するためにＺ値ビット圧縮が行われる。 - 特許庁

Then, the Z value is applied to the set Z value application range, and hidden surface erasure processing within the Z value application range based on the replay camera CM is performed so that a replay image can be generated.例文帳に追加

そして、設定されたＺ値適用範囲にＺ値が適用され、リプレイカメラＣＭに基づくＺ値適用範囲内の隠面消去処理を行うことでリプレイ画像が生成される。 - 特許庁

Namely, the Z-value of a pixel corresponding to each apex of the flat object 3 is read from the Z-buffer, and Y coordinate of each apex is determined from the Z-value.例文帳に追加

つまり、平面状オブジェクト３の各頂点に対応するピクセルのＺ値がＺバッファより読み出され、このＺ値から各頂点のＹ座標が決定される。 - 特許庁

Next, an optimum embed vector deciding part 5 calculates an optimum embed vector (z) minimizing the function E(z) by using, e.g. a BFGS method and embeds the vector (z) in the background part.例文帳に追加

次に、最適埋込みベクトル決定部５は、例えばＢＦＧＳ法を用いて、評価関数Ｅ（ｚ）を最小にする最適埋込みベクトルｚを求め、これを背景部に埋め込む。 - 特許庁

When other m/z signals are detected in the vicinity of the measured target m/z , the FNF range is altered by a given volume to raise the data collection voltage, to see whether the other m/z signals are detected in the vicinity.例文帳に追加

測定目的ｍ／ｚの近傍に他のｍ／ｚ信号を検出したときはＦＮＦの範囲を所定量変更しデータ収集電圧を上げ近傍に他のｍ／ｚ信号が検出されたか判断する。 - 特許庁

An offset Z value processing part 7 adds/subtracts the calculated OffsetZ to/from the Z value (Sz) obtained by the geometry division processing part 5 to calculate a new Z value.例文帳に追加

このオフセットＺ値処理部７は、前記算出されたＯｆｆｓｅｔＺと前記ジオメトリ除算処理部５で得られたＺ値（Ｓｚ）とを加減算して、新たなＺ値を算出する。 - 特許庁

The statistical amount Z is compared to a threshold value Z0, and when the value of the statistical amount is smaller than the threshold value Z0, the signal strength change profiles S1(x_1, y_1) to Sn(x_z, y_z) are smoothed.例文帳に追加

そして、統計量Ｚとしきい値Ｚ０とを比較し、統計量Ｚの値がしきい値Ｚ０よりも小さい場合、信号強度変化プロファイルＳ１（ｘ_１，ｙ_１）〜Ｓｎ（ｘ_ｚ，ｙ_ｚ）を平滑化する。 - 特許庁

An air cylinder 29 supports the weight of the Z-axis spindle 19 by the shaft 25 of the shaft motor 23 and produces a pushing force comparable to the weight of the Z-axis spindle 19 in response to the movement of the Z-axis spindle 19.例文帳に追加

また、エアシリンダ２９は、シャフトモータ２３のシャフト２５によりＺ軸スピンドル１９の重量を支持し、Ｚ軸スピンドル１９の重量に見合う押上力を、Ｚ軸スピンドル１９の移動に応じて発生する。 - 特許庁

They are driven according to detected output by a range finder 16, the Z-axis moving table 11 largely and slowly moves the nozzle in the Z-axis direction, and the high speed Z-axis moving table 26 minutely moves it at high speed.例文帳に追加

これらは距離計１６の検出出力に応じて駆動されるが、Ｚ軸移動テーブル１１はノズルをＺ軸方向に大きくゆっくり移動させ、高速Ｚ軸移動テーブル２６は微少に高速で移動させる。 - 特許庁

A distributed information adding device 20 sends selected numbers (x, i) and (y, i) to storage server devices 10_x and 10_y on the basis of line numbers x, y, z and for each distributed partial data D(z, i) of the line number z.例文帳に追加

分散情報追加装置２０は、行番号ｘ，ｙ，ｚに基づき、行番号ｚの分散部分データＤ（ｚ，ｉ）毎に、選択した番号（ｘ，ｉ）,（ｙ，ｉ）を保存サーバ装置１０_x，１０_yに送出する。 - 特許庁

For the purpose of orienting the components to the optic chip to be described, the +Z crystal axis extends outward from the +Z face, the Z axis being the axis across which a pyroelectric effect is exhibited.例文帳に追加

開示される光素子の部品を方向付ける目的で、＋Ｚ結晶軸が＋Ｚ面から外側に伸び、このＺ軸は、それを横断して熱電気効果が示される軸となる。 - 特許庁

The storage element includes: a magnetic layer which is made principally of composition Fe_xNi_yB_z satisfying x+y+z=1, 0.2x≤y≤4x, and 0.1(x+y)≤z≤0.4(x+y)例文帳に追加

組成式Ｆｅ_ｘＮｉ_ｙＢ_ｚ［但し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０．２ｘ≦ｙ≦４ｘ、０．１（ｘ＋ｙ）≦ｚ≦０．４（ｘ＋ｙ）］を主成分とし、膜面に垂直方向の磁気異方性を有する磁性層を有する記憶素子を構成する。 - 特許庁

Since the Z-clip 20 is held by the Z-clip holding section B for the metal fitting 60 and the angle pinching section A for the metal fitting 60 pinches the through-angle 12, the rotation of the Z-clip 20 can be prevented.例文帳に追加

Ｚクリップ２０は、回転防止金具６０のＺクリップ保持部Ｂに保持され、かつ回転防止金具６０のアングル挟持部Ａが通しアングル１２を挟持するため、Ｚクリップ２０の回転を阻止することができる。 - 特許庁

The positive electrode 12 contains a compound expressed by the general formula Li1+xMnyFezPO4 (in the formula, x, y and z are the values of within the ranges 0<x<0.1, 0.5<y<0.95, and 0.9<y+z≤1, respectively).例文帳に追加

正極１２は一般式Ｌｉ_1+x Ｍｎ_y Ｆｅ_z ＰＯ_4 （式中、ｘ，ｙおよびｚはそれぞれ０＜ｘ＜０．１，０．５＜ｙ＜０．９５，０．９＜ｙ＋ｚ≦１の範囲内の値である）で表される化合物を含んでいる。 - 特許庁

The compositional formula satisfies a=0.05 to 0.65, y=0.2 to 9 at%, z=1 to 12 at%, y+z≤15 at%, and x=(100-y-z) at%.例文帳に追加

前記組成式は、ａ＝０．０５〜０．６５、ｙ＝０．２〜９ａｔ％、ｚ＝１〜１２ａｔ％、ｙ＋ｚ≦１５ａｔ％、かつｘ＝（１００−ｙ−ｚ）ａｔ％を満たす。 - 特許庁

On the side faces of the section 3, in addition, locking members 5b and locking clicks 5c are formed to lock the movement of the coil body Z in the pressed direction of the body Z when the body Z is pressed by means of a pressing section 4.例文帳に追加

また、収容部３の側面には、係止部材５ｂ及び係止爪５ｃが形成され、コイル体Ｚの押圧部４による押圧方向への移動を係止する。 - 特許庁

In addition, the remarkable speedup of a searching process in the object where the Z height of the shape slowly changes and can be predicted are performed by Z height extrapolation based on the Z height of the previous edge point.例文帳に追加

加えて、前のエッジポイントのＺ高さに基づくＺ高さ補外が、特に形状のＺ高さ変化が緩やかで予測できる物体における探索処理の著しいスピードアップを行う。 - 特許庁

A member 20 having nearly the same refractive index as that the substrate 3 has is provided on the -Z-side surface of the substrate 3 so that no terahertz pulsed light reflecting surface may be formed between the -Z-side surface of the member 20 and the +Z-side surface of the substrate 3.例文帳に追加

基板３と略同じ屈折率を有する部材２０が、基板３の−Ｚ側に、部材２０の−Ｚ側の面と基板３の＋Ｚ側の面との間にテラヘルツパルス光の反射面を形成しないように、設けられる。 - 特許庁

The position in a thickness direction Z of one surface 8a in the thickness direction Z of the bonding pad 8 equals to the surface of one Z1 of the thickness direction Z of the element 3.例文帳に追加

ボンディングパッド８の厚み方向Ｚの一表面８ａの厚み方向Ｚにおける位置は、発光素子３の厚み方向Ｚの一方Ｚ１の表面と等しい。 - 特許庁

The piezoelectric material includes an oxide having a tetragonal crystal structure, and expressed by the formula: Ba(Si_xGe_yTi_z)O_3 (wherein 0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤0.5 and x+y+z=1).例文帳に追加

正方晶の結晶構造を有する、Ｂａ（Ｓｉ_ｘＧｅ_ｙＴｉ_ｚ）Ｏ_３（ただし０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦０．５、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表される酸化物からなる圧電材料。 - 特許庁

An Al composition x in the n-type clad layer 13, an Al composition y in the p-type clad layer 19, and an Al composition z in the n-type reflection retarding layer 12 satisfy a relationship of x<z and y<z.例文帳に追加

ｎ型クラッド層１３におけるＡｌ組成ｘ、ｐ型クラッド層１９におけるＡｌ組成ｙ及びｎ型反射抑制層１２におけるＡｌ組成ｚは、ｘ＜ｚで且つｙ＜ｚの関係を満たす。 - 特許庁

Here, X is at least one kind of halogens selected from a group of F, Cl, Br and I, and mole ratios x, y and z are given as 0.02≤x≤1.3, 0.005≤y≤0.5, and 0.01≤z≤0.5.例文帳に追加

Ｌｉ_x（Ｎｉ_1-yＴａ_y）（Ｏ_2-zＸ_z） （１） 但し、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩよりなる群から選ばれる少なくとも1種類のハロゲン元素で、モル比ｘ、ｙ及びｚは０．０２≦ｘ≦１．３、０．００５≦ｙ≦０．５、０．０１≦ｚ≦０．５をそれぞれ示す。 - 特許庁

By combining the X-axis, Y-axis, and Z-axis force components F_X, F_Y, F_Z at a load application point P_0, the magnitude and direction of the load F acting on the load application point P_0 is calculated.例文帳に追加

その結果、荷重作用点Ｐ_0におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の力成分Ｆ_X，Ｆ_Y，Ｆ_Zを合成することによって、荷重作用点Ｐ_Oに作用する荷重Ｆの大きさ及び方向が演算される。 - 特許庁

By spraying steam on or ironing the indented part z2 of the cloth Z that is delivered by a conveyer, the indentation of the cloth Z can be stretched and no indentation can be found in the folded cloth Z.例文帳に追加

コンベアで送られてきた衣服Ｚの圧痕部分ｚにスチームを吹き付けたり、アイロン掛けすることで、衣服Ｚに付いた圧痕を伸ばすことができ、折畳み後の衣服Ｚに圧痕を残すことがない。 - 特許庁

The normal line direction (z'-axis direction) of the incident surface in the X-ray detection element is inclined with respect to a z-axis direction within the zx plane parallel to the irradiation direction (z-axis direction) of the X rays and the feed direction (x-axis direction).例文帳に追加

Ｘ線検出素子における入射面の法線方向（ｚ´軸方向）は、Ｘ線６の照射方向（ｚ軸方向）と搬送方向（ｘ軸方向）とに平行なｚｘ平面内で、ｚ軸方向に対して傾斜させる。 - 特許庁

When a reflected image R_z is detected on the light receiving surface of the Z alignment two-dimensional detection sensor 60, a Z alignment signal processing circuit acquires Z luminance distribution information, and a reflected light discrimination circuit uses the Z luminance distribution information to discriminate whether the reflected light is mirror surface reflection of the cornea or diffuse reflection on an eyelid or a cheek.例文帳に追加

Ｚアライメント２次元検出センサ６０の受光面にて反射像Ｒ_Ｚが検出されると、Ｚアライメント信号処理回路はＺ輝度分布情報を取得し、Ｚ輝度分布情報を用いて反射光判別回路にて反射光が角膜の鏡面反射かまぶたや頬等の乱反射かを判別する。 - 特許庁

The rotational phase detection apparatus 4 comprises: a noise canceller 6f for shifting the phase of Z-phase signals by clock signals and canceling noise contained in the Z-phase signals; a Z-band generator 7f for removing noise which has intruded into an inhibition section except in the vicinity of the phase of generated Z-phase signals; and a Z-phase monitor 9f.例文帳に追加

回転位相検出装置４は、Ｚ相信号をクロック信号により位相シフトしＺ相信号に含まれるノイズをキャンセルするノイズキャンセラー６ｆと、Ｚ相信号の発生位相近傍以外の禁止区間で侵入するノイズを除去するＺバンド発生器７ｆ及びＺ相監視器９ｆを有する。 - 特許庁

Z-Glutamic acid anhydride obtained by protecting the amino group of glutamic acid with a benzyloxycarboxyl group (Z group) and a mixed solution of ethylamine hydrochloride and triethylamine or sodium hydrogencarbonate are added to dimethyl sulfoxide to synthesize Z-γ-ethylamide glutamate acid and the Z group of the obtained Z-γ-ethylamide glutamate is eliminated by catalytic reduction.例文帳に追加

グルタミン酸のアミノ基をベンジルオキシカルボニル基（Ｚ基）で保護したＺ−グルタミン酸無水物を、エチルアミン塩酸塩とトリエチルアミン又は炭酸水素ナトリウムの混液とともに、ジメチルスルホキシド中に加えてＺ−γ−エチルアミドグルタミン酸を合成し、得られたＺ−γ−エチルアミドグルタミン酸のＺ基を接触還元により脱離させてテアニンを製造した。 - 特許庁

When the discharge temperature of the compressor 121 is at a limit value or below, the open degree of motor expansion valve Z is so controlled that overheat degree of the refrigerant on the evaporation side or the suction overheat degree of compressor 121 comes to a specified temperature, while the open degree of motor expansion valve Z is controlled based on the discharge temperature of motor expansion valve Z.例文帳に追加

圧縮機（121）の吐出温度が限界値以下であると、蒸発側の冷媒過熱度又は圧縮機（121）の吸入過熱度が所定温度になるように電動膨張弁（Z）の開度を制御する一方、圧縮機（121）の吐出温度が限界値を越えると、圧縮機（121）の吐出温度に基づいて電動膨張弁（Z）の開度を制御する。 - 特許庁

A calibration device is configured to measure the Ry of the object support with the X interferometer measurement system in at least two different Z positions, measure the Ry of the object support with the Z interferometer measurement system in at least two different Z positions, calibrate the linear Z dependency of the Ry on the basis of the measurements, and calibrating the linear X dependency of Z on the basis of the previous calibration.例文帳に追加

較正デバイスは、Ｘ干渉計測定システムを使用して、少なくとも２つの異なるＺ位置で対象物支持体のＲｙを測定し、Ｚ干渉計測定システムを使用して、少なくとも２つの異なるＺ位置で対象物支持体のＲｙを測定し、測定した測値に基づいてＲｙの一次Ｚ依存性を較正し、且つ、該較正に基づいてＺの一次Ｘ依存性を較正するようになされている。 - 特許庁