「atom」に関連した英語例文の一覧と使い方(101ページ目) - Weblio英語例文検索

A carbon based reducing agent (A) (e.g., carbon black and active carbon), and a metal compound (B) reducible by the carbon based reducing agent (A) (particularly, metal oxide such as copper oxide) are allowed to react in the presence of a compound (C) capable of coordinating to a metal atom composing the metal compound (B).例文帳に追加

炭素系還元剤（Ａ）（カーボンブラック、活性炭など）と、この炭素系還元剤（Ａ）により還元可能な金属化合物（Ｂ）（特に、酸化銅などの金属酸化物）とを、前記金属化合物（Ｂ）を構成する金属原子に配位可能な化合物（Ｃ）の存在下で反応させる。 - 特許庁

In the purified cellulose fiber production process, a cellulose raw material is dissolved in a solution comprising an ionic liquid having an anion moiety represented by formula (A1) or (A2) and spun [in formula, R^11, R^12 and R^13 respectively and independently represent an alkyl group, and R^14 represents a hydrogen atom or an alkyl group].例文帳に追加

式（Ａ１）又は（Ａ２）で表されるアニオン部を有するイオン液体を含む液へセルロース原料を溶解、紡糸する精製セルロース繊維の製造方法［Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３は、それぞれ独立にアルキル基であり、Ｒ^１４は水素原子又はアルキル基である］。 - 特許庁

In a nonaqueous secondary battery comprising a positive active material, a negative electrode material, and a nonaqueous electrolyte, the positive active material is a transition metal oxide capable of inserting and releasing lithium, and as the negative electrode material, a compound containing a silicon atom is used.例文帳に追加

正極活物質、負極材料、非水電解質からなる非水二次電池に於いて、該正極活物質は、リチウムを挿入放出可能な遷移金属酸化物であり、該負極材料として、ケイ素原子を含む化合物を用いることを特徴とする非水二次電池。 - 特許庁

The fullerene derivative is prepared by introducing a proper amount of one or more kinds of organic groups selected from the group consisting of an organic group containing an alicyclic hydrocarbon group, and an organic group containing a hydrocarbon group containing a sulfur atom to a hydroxy group of an aromatic hydrocarbon compound having the hydroxy group as an additional substituent.例文帳に追加

付加置換基としてのヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物のヒドロキシル基に、脂肪族環状炭化水素基を含む有機基、硫黄原子を含有する炭化水素基を含む有機基からなる群より選ばれる１種以上の有機基を適当量導入する。 - 特許庁

This method for producing the 2,6-dichlorophenol compound represented by formula (2) comprises reacting a phenol compound represented by formula (1) (wherein R is a 3,3-dihalo-2-propenyl group or a benzyl group which may be substituted with a halogen atom) with sulfuryl chloride in the presence of a secondary amine.例文帳に追加

式（１） （式中、Ｒは３，３−ジハロ−２−プロペニル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいベンジル基を表す。）で示されるフェノール化合物と塩化スルフリルとを第二級アミンの存在下で反応させることにより、式（２）で示される２，６−ジクロロフェノール化合物の製造することができる。 - 特許庁

A chemically amplified resist composition contains (A) a high molecular compound having a structure in which hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group is substituted for a group having a non-acid decomposable polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and (B) a compound generating acid by irradiation of an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。 - 特許庁

This method for producing the dialkyl carbonate is characterized in that when producing the dialkyl carbonate by using the carbon monoxide, the oxygen and the alcohol as starting raw materials, a catalyst comprising (i) a copper compound free from a halogen atom and (ii) an alkoxy compound capable of forming a copper alkoxide by reacting with the copper compound is used.例文帳に追加

一酸化炭素、酸素およびアルコールを出発原料として、炭酸ジアルキルを製造するに際して、(i)ハロゲン原子を含まない銅化合物と、(ii)前記銅化合物(i)と反応して銅アルコキシドを生成しうるアルコキシド化合物とからなる触媒を使用する炭酸ジアルキルの製造方法。 - 特許庁

In the general formula (1), R^1, R^2, R^4 and R^5 are each independently 1C-22C hydrocarbon group, R^3 is a 1C-6C hydrocarbon group, R^6 and R^7 are each independently hydrogen atom or 1C-15C hydrocarbon group, and n is an integer of 1-5.例文帳に追加

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に炭素数１〜２２の炭化水素基、Ｒ^３は炭素数１〜６の炭化水素基、Ｒ^６及びＲ^７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜１５の炭化水素基を表し、ｎは１〜５の整数である。 - 特許庁

The manufacturing method of the light-emitting layer for the inorganic electroluminescence includes a process of film-forming ZnS:Cu, obtained by adding Cu of 1.0 atom% or more to ZnS on a substrate, a process of making the Cu component as chloride not contained in ZnS crystal grain, and a process of removing the chloride through rinsing.例文帳に追加

基体上にＺｎＳへ１．０ａｔｏｍｉｃ％以上のＣｕが添加されたＺｎＳ：Ｃｕを成膜する工程、該ＺｎＳ結晶粒に含有されないＣｕ成分を塩化物とする工程、該塩化物を水洗にて除去する工程、を有することを特徴とする無機エレクトロルミネッセンス用発光層の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a fluorinated 1,3-dioxolan-2-one in a short time while maintaining a high yield in a liquid-liquid reaction in the production method of using a 1,3-dioxolan-2-one derivative having a halogen atom other than fluorine as a starting material and fluorinating the same by a fluorinating agent.例文帳に追加

フッ素以外のハロゲン原子を有する１，３−ジオキソラン−２−オン誘導体を出発物質とし、これをフッ素化剤でフッ素化する製造方法において、液−液反応で高収率を維持しながら短時間でフッ素化１，３−ジオキソラン−２−オンを製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

The oxazolidinone derivative is represented by formula (I) [wherein R^1 and R^2 are each a substituted phenyl group; R^3 and R^4 are each a hydrogen atom or a lower alkyl group; R^5 is a lower alkyl group, a lower alkyl-sulfinyl-lower alkyl group or a lower alkylsulfonyl-lower alkyl group; n is an integer of 1 to 6].例文帳に追加

一般式（Ｉ）<chemistry num="1"> </chemistry>［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、置換されたフェニル基；Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子、低級アルキル基；Ｒ^５は、低級アルキル基、低級アルキルスルフィニル低級アルキル基、低級アルキルスルホニル低級アルキル基；ｎは、１乃至６の整数；］ - 特許庁

An atom trapping device includes: a trapping part 101 made of a superconducting material and formed on a flat plate; a cooling part 102 for cooling the trapping part 101 below the superconducting transition temperature; and a magnetic-field application part 103 for applying a uniform magnetic field 131 to the trapping part 101.例文帳に追加

原子捕捉装置は、超伝導材料から構成されて平板上に形成された捕捉部１０１と、捕捉部１０１を超伝導転移温度以下に冷却する冷却部１０２と、捕捉部１０１に均一な磁場１３１を印加する磁場印加部１０３とを備える。 - 特許庁

Thus, since impurities adhered to the surface Si, C of the surface of the substrate can be simultaneously removed for several atom layers by exposing the surface of an SiC substrate with a high temperature and low oxygen partial pressure, a defect is made very small at the oxide film formation time, and the clean surface can be exposed.例文帳に追加

ＳｉＣ基板表面を高温かつ低酸素分圧下に晒すことにより、表面に付着した不純物と基板表面のＳｉ、Ｃを数原子層分除去することが同時にできるので、酸化膜形成時には欠陥が少なく極めて清浄な表面を露出させることができる。 - 特許庁

The charging member includes a surface layer, and at least the most outer surface portion of the surface layer contains oxygen and at least one metallic element selected out of a group composed of Ga and In and the oxygen content contained in at least the most outer surface portion of the surface layer is ≥15 atom%.例文帳に追加

表面層を有し、該表面層の少なくとも最表面部に、酸素と、金属元素としてＧａ及びＩｎからなる群より選択される少なくとも１つを含み、前記表面層の少なくとも最表面部に含まれる前記酸素の含有量が１５原子％以上である。 - 特許庁

The method for producing the optical recording material comprises subjecting a first raw material compound selected from silicon alkoxides, metal alkoxides, and the like, and the organic coloring matter or a second raw material compound obtained by binding the organic coloring matter molecule to the silicon or the metal atom of the first raw material compound, to a sol-gel method.例文帳に追加

珪素アルコキシド、金属アルコキシド等から選ばれる第１原料化合物と、有機色素か、又は第１原料化合物の珪素又は金属原子に有機色素分子を結合させた第２原料化合物とを用いてゾルゲル法を行う光記録材料の製造方法。 - 特許庁

As a result of this setup, a γ-type bismuth oxide phase containing excess oxygen atom can be segregated stably in the surface layer, the surface layer can be made higher in resistance, oxygen atoms are restrained from breaking away from the surface layer and grain boundaries by a high electric field, and the voltage nonlinear resistor can be improved in energy tolerated dose.例文帳に追加

これにより過剰の酸素原子を含むγ型酸化ビスマス相を表面相に安定して偏析させることができ、表面層の抵抗が大きくなり、また高電界による酸素原子の表面・粒界からの離脱を抑制し、エネルギー耐量を向上させることができる。 - 特許庁

A compound which has a group shown by H_2C=CR- (wherein R denotes a hydrogen atom or a methyl group), and a sulfur part in which reaction is possible to a carbon-carbon double bond of a diene-based rubber in the molecule is made to react with carbon black by electron beam irradiation with the carbon black, thus obtaining a modified carbon black.例文帳に追加

カーボンブラックに対する電子線照射により、分子内にＨ_２Ｃ＝ＣＲ−（但し、Ｒは水素原子又はメチル基）で表される基とジエン系ゴムの炭素−炭素二重結合に反応可能な硫黄部とを有する化合物をカーボンブラックに反応させて、変性カーボンブラックを得る。 - 特許庁

In order to enhance an effect by only a modification by a plasma processing and only a modification by a thermal annealing processing, a plasma based on a processing gas containing a rare gas and an oxygen atom is used, and a modification processing which combines the plasma processing with the thermal annealing processing is performed on the insulating film, to modify the insulating film.例文帳に追加

プラズマ処理による改質のみ、熱アニール処理のみによる改質による効果を向上する為に、希ガスと酸素原子を含む処理ガスに基ずくプラズマを用いて、絶縁膜にプラズマ処理と熱アニール処理を組み合わせた改質処理を施すことで、該絶縁膜を改質する。 - 特許庁

In the formula, R^1 denotes a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxymethyl group, L denotes -CO-, -SO2-, -COO- or -CONH-, A denotes -(OCH_2CH_2)_n- or -(OCH_2CH(OH)CH_2)_n-, m denotes an integer of 1-3, and n denotes an integer of 0-10.例文帳に追加

（式中、Ｒ^１は、水素原子、メチル基又はヒドロキシメチル基を表す。Ｌは、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯＯ−又は−ＣＯＮＨ−を表す。Ａは、−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ−又は−（ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２）_ｎ−を表す。ｍは１〜３の整数を示し、ｎは０〜１０の整数を示す。）。 - 特許庁

In the high speed sliding mechanism, a high speed sliding member A which is coated with a DLC containing hydrogen of 10 atom% or less and a high speed sliding member B which has a Ra of 0.2μm or less and a Rsk of 0-4μm slide on the surface of a metal member which has a Ra of 0.005-0.1μm.例文帳に追加

Ｒａ０．００５〜０．１μｍである金属部材表面に、水素を１０原子％以下含有するＤＬＣが被覆された高速摺動部材Ａと、Ｒａ０．２μｍ以下且つＲｓｋ０〜４μｍである高速摺動部材Ｂとが摺動して成る高速摺動機構である。 - 特許庁

An organic semiconductor film containing the precursor of a compound represented by general formula (1) having at least one desorption group (in the formula, R_1-R_28 represent hydrogen atom or substituent) is formed, and then the desorption group is desorbed from the precursor thus transforming the compound as represented by general formula (1).例文帳に追加

脱離基を少なくとも一つ有する下記一般式（１）で表される化合物の前駆体を含有する有機半導体膜を形成後、該前駆体の脱離基を脱離することによって一般式（１）で表される化合物に変換することを特徴とする有機半導体膜。 - 特許庁

The control of the absorption coefficient is carried out by adding an optimum quantity of a rare earth atom such as Yb which absorbs an InGaAs semiconductor laser beam and generates heat, has no effect on the transmission characteristics of a visible region and does not deteriorating the display characteristics of glass for display into the material.例文帳に追加

吸収係数制御を、材料にＩｎＧａＡｓ半導体レーザ光を吸収発熱し、かつ可視域の透過特性に影響せず、表示器用ガラスの表示特性を悪化させないＹｂのような希土類原子を最適量添加することによって実現する。 - 特許庁

The curable composition contains the following components (A) to (C): (A) a particle having an average primary particle diameter of 10-100 nm and composed mainly of a phosphorus-containing tin oxide, (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, and (C) a compound containing a fluorine atom in the molecule.例文帳に追加

下記成分（Ａ）〜（Ｃ）：（Ａ）平均一次粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍである、リン含有酸化錫を主成分とする粒子（Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有する化合物を含有する硬化性組成物。 - 特許庁

The zeolite used has (1) a framework density of 17.0 T/1000Å^3 or less and (2) a Si/M ratio (wherein M represents an atom which is a constituent of the framework of the zeolite and is selected from groups III through XIV in the periodic table excluding Si and C (carbon)) of 5 or more.例文帳に追加

（１）フレームワーク密度が１７．０Ｔ／１０００Å^3以下であり、且つ、（２）Ｓｉ／Ｍ（Ｍは、ゼオライトの骨格を構成する原子のうち、周期表の第３〜１４族から選ばれるＳｉ及びＣ（炭素）以外の原子を表わす）比が５以上であるゼオライトを用いる。 - 特許庁

(In the formula (1), R^1, R^2, and R^3 represent an arbitrary substituent group, independently, X represents an atom selected from 16 group elements, a ring 1 is a condensed polycyclic which may have a substituent group, and at least one ring forming the condensed polycyclic is an aromatic ring.)例文帳に追加

（式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３はそれぞれ独立に、任意の置換基を示し、Ｘは１６族元素から選ばれる原子を表し、環１は置換基を有してもよい縮合多環であり、該縮合多環を形成する少なくとも１つの環は芳香環である。） - 特許庁

The compound is a pyridine compound represented by formula (I) [wherein, R^1 is a (substituted) 1-7C haloalkyl or the like; R^2 is H, cyanomethyl or the like; R^3 is a 1-7C chain hydrocarbon or the like optionally substituted with halogen atom(s); and n is an integer of 0-3].例文帳に追加

本発明は、式（Ｉ）で表されるピリジン化合物〔Ｒ^1は置換されていてもよいＣ１−Ｃ７ハロアルキル基等を表し、Ｒ^2はシアノメチル基、水素原子等を表し、Ｒ^8はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ７鎖式炭化水素基等を表し、ｎは０〜３の整数を表す。 - 特許庁

In the formula (1), Ar^1 is a 1-30C aromatic ring group that may include a substituted group; Ar^2 is a 2-30C condensed aromatic ring group that may include a substituted group; and R^1-R^6 are each independently a hydrogen atom or a substituted group.例文帳に追加

（式（１）中、Ａｒ^１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の芳香環基を表す。Ａｒ^２は、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０の縮合芳香環基を表す。Ｒ^１〜Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。） - 特許庁

In the formula (I) and the formula (II), Q represents a partial structure of which the acid dissociation constant (pKa) when being turned to be -Q-H is in the range of 0 to 20, each of R^1 to R^3 denotes hydrogen atom or monovalent organic group independently and each of (A) and (B) denotes bivalent organic connection group independently.例文帳に追加

Ｑは、−Ｑ−Ｈとなったときの酸解離定数（ｐＫａ）が０以上２０以下である部分構造を表し、Ｒ^１〜Ｒ^３はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を表し、Ａ及びＢはそれぞれ独立に２価の有機連結基を表す。 - 特許庁

A chromene compound has an indeno(2,1-f)naphtho(1,2-b)pyran structure as a basic skeleton as a compound represented by the formula and a substituent having an absolute Hammett σ_p value of ≥0.01 such as a methyl group on the 8th-position carbon atom of the indeno(2,1-f)naphtho(1,2-b)pyran structure.例文帳に追加

下記式で示される化合物のように、インデノ（２，１−ｆ）ナフト（１，２−ｂ）ピラン構造を基本骨格として有し、該インデノ（２，１−ｆ）ナフト（１，２−ｂ）ピラン構造の８位の炭素原子にメトキシ基等のＨａｍｍｅｔｔ数σ_ｐの絶対値が０．０１以上の置換基を有するクロメン化合物。 - 特許庁

Here, R^1 to R^4 represent hydrogen atoms, and a direct coupling to spacer group Z^1 or monovalent groups; n represents 1 to 4; A1 represents a hydrogen atom or a specific cross-linking group; however, at least one A^1 in a molecule is a cross-linking group; and E^1 is -O-R^0 or -Ar^2.例文帳に追加

（Ｒ^１〜Ｒ^４は、水素原子、連結基Ｚ^１への直接結合または１価の基。ｎは１〜４。Ａ^１は、水素原子または特定の架橋基を示す。但し、一分子中において、少なくとも１つのＡ^１は架橋基である。Ｅ^１は、−Ｏ−Ｒ^０または−Ａｒ^２。） - 特許庁

The polysilane has constituent units represented by the formula: -(R^1R^2Si)_n- (wherein R^1 is a substituted or unsubstituted sulfur-containing heterocyclic ring; R^2 is hydrogen atom, a 1-3C alkyl group, an aryl group, or a substituted or unsubstituted sulfur-containing heterocyclic ring; and (n) is an integer of 5 to 100,000).例文帳に追加

−（Ｒ^１Ｒ^２Ｓｉ）_ｎ−（１）（式中、Ｒ^１は置換もしくは無置換の硫黄原子を含む複素環を表し、Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基、アリール基、又は置換もしくは無置換の硫黄原子を含む複素環を表し、ｎは５〜 １００，０００の整数を表す。） - 特許庁

A mixture of 1,3-divinyltetramethyl-disiloxane/1,3,5,7- tetravinyl-1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane at a molar ratio of 10/1-1/5 is allowed to react with platinum halide at an equivalent ratio of 5-50 of the vinyl groups in the siloxane mixture per 1 atom of platinum in the presence of a basic compound.例文帳に追加

モル比が10／１〜１／５の範囲内である1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン／1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン混合物と、白金１原子あたりの該シロキサン混合物のビニル基の比率が５〜50当量となるような量のハロゲン化白金を、塩基性化合物の存在下で反応させる。 - 特許庁

The vinyl-based polymer can be purified by bringing the vinyl- based polymer in a state of presence of a halide into contact with an adsorbent without separating the formed halide formed in a process for treating the halogen group of the vinyl-based polymer produced by an atom transfer radical polymerization.例文帳に追加

原子移動ラジカル重合により製造されるビニル系重合体のハロゲン基処理工程で生成するハロゲン化物を分別することなしに、ハロゲン化物が共存する状態でビニル系重合体を吸着剤に接触させることによりビニル系重合体が精製できる。 - 特許庁

Provided are the ink composition for the ink-jet recording, characterized by comprising (A) an aliphatic (meth)acrylate compound having a secondary hydroxyl group, (B) a compound having a nitrogen atom and a polymerizable unsaturated bond in the molecule, and (C) a radical polymerization initiator; and the ink-jet recording method using the ink composition.例文帳に追加

（Ａ）２級水酸基を有する脂肪族（メタ）アクリレート化合物と、（Ｂ）分子内に窒素原子及び重合性不飽和結合を有する化合物と、（Ｃ）ラジカル重合開始剤と、を含有することを特徴とするインクジェット記録用インク組成物、及び、該インク組成物を用いたインクジェット記録方法。 - 特許庁

The curable resin composition for coating materials contains a vinyl polymer having a repeating unit represented by formula (1) (in the formula, R^1 is a 2-8C alkylene group; R^2 is a hydrogen atom or a methyl group; and m is a positive integer) and a urethane (meth)acrylate.例文帳に追加

下記式（１）：［式中、Ｒ^１は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子またはメチル基、ｍは正の数である］で示される繰返し構造単位を有するビニル系重合体と、ウレタン（メタ）アクリレートとを含有することを特徴とするコート材用硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a heat-resistant resin composition which can hold a chlorine atom content within a thermoplastic resin composition to ≤900 ppm, which is an unprecedentedly low level, and has both heat-resistance and flame retardancy, and to provide its production process and an electronic component for surface mounting.例文帳に追加

熱可塑性樹脂組成物中の塩素原子含有率を９００ｐｐｍ以下という従来になく低い水準にコントロールすることができると共に、耐熱性及び難燃性を兼備した耐熱性樹脂組成物、その製造方法、及び、表面実装用電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a cyclized product of a trihalogenoacetyl halide with a compound having a carbon-carbon multiple bond or a carbon-hetero atom multiple bond by which the cyclized product can be produced without requiring the activation treatment of metallic zinc in an industrially easily usable solvent in high yield.例文帳に追加

金属亜鉛の活性化処理が不要であり、且つ工業的に使用が容易な溶媒中でも高い収率が得られるような、トリハロゲノアセチルハライドと、炭素−炭素多重結合又は炭素−ヘテロ原子多重結合を有する化合物との環化物の製造方法を提供する。 - 特許庁

NEW PHOSPHORUS ATOM-CONTAINING PHENOL RESIN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF, RESIN COMPOSITION FOR PRINTED WIRING BOARD, PRINTED WIRING BOARD, RESIN COMPOSITION FOR FLEXIBLE WIRING BOARD, RESIN COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR SEALING MATERIAL, AND RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATING MATERIAL FOR BUILDUP SUBSTRATE例文帳に追加

新規リン原子含有フェノール樹脂、その製造方法、硬化性樹脂組成物、その硬化物、プリント配線基板用樹脂組成物、プリント配線基板、フレキシブル配線基板用樹脂組成物、半導体封止材料用樹脂組成物、及びビルドアップ基板用層間絶縁材料用樹脂組成物 - 特許庁

During the plasm process, carbon atoms C and/or nitrogen atom N collides with a plurality of exposed surfaces of the nano-sized features 12, and infiltrates from the exposed surfaces to react with the silicon Si, thereby forming the hardened shell 20 made of the silicon carbide, the silicon nitride, or charring silicon nitride.例文帳に追加

プラズマ処理中は炭素原子Ｃ及び／又は窒素原子Ｎが極小形状部12の複数の露出面に衝突してそれらが露出面から浸透し、シリコン（Ｓｉ）と反応して炭化ケイ素、窒化ケイ素または炭化窒化ケイ素からなる硬化外殻20が形成される。 - 特許庁

The dendrimer is composed of a regularly branched structure formed by alternately esterifying a triol expressed by formula (a) with a dicarboxylic acid, where the starting point of the esterification is a functional group of a core molecule such as a dicarboxylic acid (in the formula, R_1 is a hydrogen atom or a 1-5C alkyl group).例文帳に追加

本発明のエステル型デンドリマーは、ジカルボン酸等のコア分子の官能基を起点として、一般式（ａ）（式中Ｒ_１は水素原子又は炭素数が１〜５のアルキル基を示す）で示されるトリオールとジカルボン酸とが交互にエステル結合して規則的な分岐構造をなしている。 - 特許庁

The method for producing the halogenated transition metal complex represented by formula (4) (wherein, X^4 and X^5 represent each a halogen atom) is characterized by reacting a cyclopentadiene compound with a base, then reacting the resultant compound with a dihalogenated diamide transition metal complex and further reacting the resultant compound with a halogenated silyl compound.例文帳に追加

シクロペンタジエン化合物と塩基を反応させた後、ジハロゲン化ジアミド遷移金属錯体を反応させ、さらにハロゲン化シリル化合物を反応させることを特徴とする、式（４）（Ｘ^４及び、Ｘ^５はハロゲン原子を表す。）で示されるハロゲン化遷移金属錯体の製造方法。 - 特許庁

The organic electroluminescence device contains an electronic transportation material having a carbazole ring structure, as a partial structure, to the N-atom position of which one of rings of a hetero aromatic 5-membered ring which may have a hydrocarbon aromatic ring or a hetero aromatic ring as a condensed ring is singly bonded.例文帳に追加

炭化水素芳香環または複素芳香環を縮合環として有してもよい複素芳香族５員環の前記いずれかの環がＮ原子位に単結合したカルバゾール環構造を部分構造として有する電子輸送材料を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁

This method for producing the olefinic compound comprises reacting an organic boron compound of which the boron atom has an organic radical with an acetylenic compound in the presence of a transition metal catalyst (such as a group 8 element in the periodic table, a group 9 element therein, and a group 10 element therein) so as to produce the olefinic compound to which the organic radical is added.例文帳に追加

遷移金属触媒（周期表８族元素、周期表９族元素および周期表１０族元素など）の存在下、ホウ素原子上に有機基を有する有機ホウ素化合物とアセチレン系化合物とを反応させ、前記有機基が付加したオレフィン系化合物を製造する。 - 特許庁

Provided is an adhesive film with a support, produced by detachably laminating an adhesive film on a support, wherein the adhesive film with a support has a ≤4.0% silicon atom amount on the surface of the adhesive film on the support side observed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).例文帳に追加

接着フィルムが剥離可能に支持体上に積層された支持体付き接着フィルムであって、前記支持体側の前記接着フィルムの表面において、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）で観察されるケイ素原子の量が４．０％以下である、支持体付き接着フィルム。 - 特許庁

Respective embodiments or the like are preferable wherein the adhered amount of material element of the discharge wire used in EDM is not more than 5×10^10 atom/cm^2, the bending strength measured by the bending strength test method (JIS 1601) is not less than 700 MPa, and the density is not less than 2.9 g/cm^3.例文帳に追加

放電加工で使用した放電ワイヤーの素材元素の付着量が５×１０^１０原子／ｃｍ^２以下、前記曲げ強さ試験法（ＪＩＳ １６０１）により測定した曲げ強度が７００ＭＰａ以上、前記密度が２．９ｇ／ｃｍ^３以上である各態様などが好ましい。 - 特許庁