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atomic methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 635件
METHOD OF FORMING MULTI-DOMAINS ON ALIGNMENT FILM WITH ATOMIC BEAM, METHOD FOR MANUFACTURING WIDE-FIELD-ANGLE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME, WIDE-ANGLE-OF-FIELD LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT DEVICE例文帳に追加
原子ビームで配向膜にマルチドメインを形成する方法、これを利用した広視野角液晶表示装置の製造方法、広視野角液晶表示装置及び液晶配向装置 - 特許庁
To provide a method for forming a thin film which can enhance the quality and productivity not depending upon a reaction furnace capacity, in a method for growing the thin film controlling an atomic layer (hereinafter referred to as the ALD).例文帳に追加
原子層制御薄膜成長法(以下ALD)に於いて、反応炉容量に依らず品質及び生産性を向上することができる薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁
Thereby, the method makes diversifisication of usable precursors compatible with forming the superior atomic layer of metal oxide at a low temperature.例文帳に追加
従って、本発明によれば、使用可能な前駆体の多様化と低温で優れた金属酸化物の原子層を形成させることの両立が図られる。 - 特許庁
To provide a growth method of fine particles and a growth apparatus thereof which permits the growth of the fine particles with the accuracy of atomic layer order in the radial direction.例文帳に追加
動径方向に原子層オーダーの精度で微粒子の成長を行うことができる微粒子の成長方法および成長装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of controlling the light source of an atomic oscillator which controls a DC bias current into a point with the minimum intensity of transmission light.例文帳に追加
透過光強度が最小となる点に直流バイアス電流を追い込むことが可能な原子発振器の光源を制御する方法を提供する。 - 特許庁
The deposition method can also be made to have a process step of depositing the atomic layer of first species at a temperature nearly optimum for deposition of the first species on the substrate.例文帳に追加
堆積方法はまた、基板上に、第1スピーシの堆積にほぼ最適な温度で、第1スピーシを原子層堆積する工程を有することができる。 - 特許庁
To form a film consisting of metal oxide and metal nitride more quickly, while retaining high-quality characteristics, generated by atomic layer growing method, as they are.例文帳に追加
原子層成長法による高品質な特性を保持したまま、より迅速に金属酸化物や金属窒化物からなる膜が形成できるようにする。 - 特許庁
The second barrier layer 14, which is formed on the first barrier layer 13 by an atomic layer deposition method, is made of a second inorganic material having water vapor barrier properties.例文帳に追加
第2のバリア層14は、第1のバリア層13の上に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する第2の無機材料からなる。 - 特許庁
To provide a method and a structure for feeding a vaporized reactant to a vapor phase deposition reactor such as an atomic layer deposition (ALD) reactor from a liquid source.例文帳に追加
液体ソースから原子層堆積(ALD)反応炉などの気相堆積反応炉に気化反応物を供給する方法および構造を提供すること。 - 特許庁
To provide an atomic layer deposition method for improving a film forming speed, while suppressing decrease in the reaction between a material gas and a reaction gas.例文帳に追加
原料ガスと反応ガスとの反応が低下するのを抑制しつつ、成膜速度を向上させることができる原子層堆積装置を提供する。 - 特許庁
To acquire a method for characterizing a probe of an atomic force microscope by a characterization structure having two inclined sidewalls opposed to each other.例文帳に追加
互いに対向する二つの傾斜側壁を持つ特徴づけ構造によって原子間力顕微鏡の探針を特徴づけるための方法を得る。 - 特許庁
The hetero structure is manufactured by the bonding which controls atomic attraction force of a nano scale substance, different from a conventional manufacturing method using etching.例文帳に追加
従来行われてきたエッチングによる作製法と異なり、ナノスケール物質の原子的引力を制御した接着によりヘテロ構造を作製する。 - 特許庁
A method is disclosed that uses a low temperature atomic layer deposition (ALD) process to manufacture an Sr_xTi_yO_3 based metal-insulator-metal (MIM) capacitor.例文帳に追加
低温原子層堆積(ALD)法を用いて、Sr_xTi_yO_3ベースの金属−絶縁体−金属(MIM)キャパシタを製造する方法が開示される。 - 特許庁
METHOD OF TREATING SEA SAND AND SEA SLUDGE PRODUCED FROM ATOMIC POWER AND THERMAL POWER PLANTS AND CONVERTING SLUDGE TO ORGANIC FERTILIZER AND ORGANIC FERTILIZER MANUFACTURING APPARATUS USED FOR THE SAME例文帳に追加
原子力・火力発電所から発生する海砂・海汚泥の処理と汚泥の有機肥料への転換方法及びそれに用いる有機肥料製造装置。 - 特許庁
To provide a quantitative determination method of a trace titanium element with high sensitivity and high accuracy by a graphite furnace atomic absorption spectrometry.例文帳に追加
本発明は、極微量なチタン元素を黒鉛炉原子吸光分析装置により高感度、高精度に定量する手法を提供することを課題とする。 - 特許庁
Such a silicon nitride film is formed in such a manner that a silicon nitride film including ≥15 atomic% of hydrogen is formed by a chemical vapor deposition method, and an upper portion of the silicon nitride film is nitrided.例文帳に追加
このような窒化シリコン膜は、化学気相成長法により、水素を15atomic%以上含む窒化シリコン膜を形成し、その上部を窒化することで形成される。 - 特許庁
To provide a cleaving method capable of forming a clean cleaving surface having a flat wide region in an atomic order with high reproducibility, and a cleavage device.例文帳に追加
原子オーダで平坦な広い領域を持つ清浄な劈開面を高い再現性で作製することができる劈開方法および劈開装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for improving the analysis sensitivity of flameless atomic absorption spectrometry on a small amount of aluminum contained in a hydrogen fluoride-containing aqueous solution.例文帳に追加
フッ化水素を含有する水溶液に含まれる微量なアルミニウムのフレームレス原子吸光法における分析感度を向上させる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a cantilever driven by a dynamic mode; to provide an atomic force microscope; and to improve measuring precision of an interatomic force in a method of measuring the interatomic force.例文帳に追加
ダイナミックモードで駆動されるカンチレバー、原子間力顕微鏡、および原子間力の測定方法において、原子間力の測定精度を高める。 - 特許庁
To provide a compact atomic oscillator whose oscillating frequency is stable even if external magnetic field varies, and to provide a method of stabilizing the oscillating frequency.例文帳に追加
外部磁場の変動によっても発振周波数の安定した小型の原子発振器および発振周波数を安定化する方法を提供すること。 - 特許庁
CONSTANT-SPEED CONTROL AND POSITIONING CONTROL METHOD FOR EXTREMELY HIGHLY STABLE ROTARY SYSTEM ADOPTING ATOMIC FREQUENCY STANDARD FOR REFERENCE OSCILLATOR FOR MACHINE CONTROL例文帳に追加
機械制御用基準発振器に原子周波数標準器を採用した超高安定な回転系の定速制御および位置決め制御方法 - 特許庁
The method is preferably carried out by using plasma enhanced atomic layer deposition, plasma enhanced chemical vapor deposition, and plasma enhanced cyclic chemical vapor deposition.例文帳に追加
この方法は、好ましくは、プラズマ原子層堆積、プラズマ化学気相成長、及びプラズマサイクリック化学気相成長を用いることによって実行される。 - 特許庁
To provide a new discrimination method and a device therefor capable of discriminating surely a nano-air bubble from other foreign matters by using an atomic force microscope.例文帳に追加
原子間力顕微鏡を用いてナノ気泡を確実にその他の異物から判別することのできる、新たな判別方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
To provide an explosion disposal method and the device for decomposing an organic chlorine compound contained in incineration ash into the atomic level to make it harmless.例文帳に追加
焼却灰中に含まれる有機塩素化合物を原子レベルまで分解して無害化する爆発廃棄処理方法および装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming silicon nitride containing hydrogen less than 13 atomic %, using gaseous chemical substances argon(Ar), nitrogen (N2) and silane(SiH4).例文帳に追加
ガス状化学物質であるアルゴン(Ar)、窒素(N_2)、およびシラン(SiH_4)を使用して、水素含量が13原子パーセント未満の窒化珪素を形成する方法を提供する。 - 特許庁
The method for enhancing hydrogenation of the oxide-encapsulated material includes forming an injection layer having a low reflectivity of monatomic hydrogen on the oxide-encapsulated material, and hydrogenating the material with an atomic hydrogen source such as a hydrogen plasma.例文帳に追加
単原子水素の反射率が低い注入層を酸化物カプセル化材料上に形成した後、水素プラズマ等の原子水素源で水素化する。 - 特許庁
To provide a method for effectively preventing stress corrosion cracking in stainless steel used for piping and the like particularly in an atomic power plant.例文帳に追加
スレンレス鋼、特に、原子力発電プラントにおいて、配管等として使用されるステンレス鋼の応力腐食割れを効果的に防止する方法の提供。 - 特許庁
AGGLUTINATION SIMULATOR FOR CONTACT MODE ATOMIC FORCE MICROSCOPE, AGGLUTINATION SIMULATION PROGRAM, RECORDING MEDIUM RECORDED WITH AGGLUTINATION SIMULATION PROGRAM, AND AGGLUTINATION SIMULATION METHOD例文帳に追加
接触モード原子間力顕微鏡の凝着シミュレータ、凝着シミュレーションプログラム、凝着シミュレーションプログラムを記憶した記録媒体及び凝着シミュレーション方法 - 特許庁
To provide an atomic absorptiometer of high sensitivity constituted so as to correct a background by a Zeeman system and using a hydride producing and analyzing method.例文帳に追加
ゼーマン方式によりバックグラウンド補正を行うとともに、水素化物発生分析法による高感度な原子吸光光度計を提供することにある。 - 特許庁
To provide a vertical section machining method for forming a vertically machined surface by mechanical machining using an atomic force microscope (AFM) technique, in a more positive and easier manner than ever.例文帳に追加
原子間力顕微鏡(AFM)技術を用いた機械的な加工で垂直な加工面を従来よりも確実かつ簡便な方法で得られるようにする。 - 特許庁
To provide a method for producing a self-organizing monomolecular film having reduced columnar molecular voids and pits caused by the falling of a gold surface atomic layer.例文帳に追加
列状分子空げきや金表面原子層の脱落に伴うピットなどの欠陥の少ない自己組織化単分子膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a neutral-beam-utilizing atomic layer vapor deposition apparatus wherein a workpiece is irradiated with a neutral beam formed by neutralizing a radical flux, i.e., an ion beam, generated by converting a second gas into a plasma, and to provide an atomic layer vapor deposition method utilizing the apparatus.例文帳に追加
第2の反応ガスをプラズマ化して発生されたラジカルのフラックス、すなわち、イオンビームを中性ビーム化して被処理基板に照射するようにした中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for preparing bis(pentamethylcyclopentadienyl)strontium on a large scale which is a suitable raw material for forming a membrane comprising strontium oxide by a chemical vapor deposition method or by an atomic layer deposition method.例文帳に追加
酸化ストロンチウムを含有する膜を化学気相成長法や原子層堆積法により形成するための好適な原料であるビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ストロンチウムを量産することができる製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photo-electron measuring method and a system capable of reducing the error of the atomic position by shortening a measuring time and by enlarging correction effect relative to distortion of an atomic image caused by anisotropy of electron scattering, and requiring the use of no special facility.例文帳に追加
測定時間を短く、かつ、電子散乱の異方性による原子像の歪みに対する補正効果を大きくすることにより原子位置の誤差を小さくすることができ、かつ、特別な施設を使用する必要がない、光電子測定方法及びシステムを提供する。 - 特許庁
A method for forming an insulation film includes: a step of forming the insulation film on a substrate; and a step of exposing the insulation film to atomic state oxygen O* or atomic state hydrogen nitride NH* which is generated with a plasma of an inert gas Kr or Ar to convert the film quality.例文帳に追加
基板上に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をKrあるいはArを不活性ガスとしたプラズマに伴い生成された原子状酸素O*あるいは原子状窒化水素NH*に曝し、膜質を改変する工程とよりなる絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
In the cleaning method of an oxide substrate, at least one of atomic hydrogen and atomic deuterium is brought into contact with the surface of the oxide substrate to clean the surface of the oxide substrate without heating the oxide substrate placed in a vacuum atmosphere.例文帳に追加
真空雰囲気中に置いた酸化物基板を加熱することなしに、その表面に原子状水素および原子状重水素のうち少なくとも一方を接触させて該酸化物基板の表面を清浄化処理することを特徴とする酸化物基板の清浄化方法。 - 特許庁
To provide a metal oxide thin film deposition method capable of generating various kinds of metal oxide thin films, in particular, compound metal oxide thin films consisting of metals of different kinds by using the ALD (Atomic Layer Deposition)method without affecting the film deposition speed.例文帳に追加
成膜速度に影響を及ぼすことなく、多種の金属酸化物薄膜、特に異なる種類の金属からなる複合金属酸化物薄膜をALD法を利用して生成する。 - 特許庁
This method is a method in which a film is extracted with an extrapure water, and then the extracted liquid is measured using an ion chromatography, an in-liquid particle counter, a combined induction plasma-mass spectrometer, and an atomic absorption photometer.例文帳に追加
フィルムを超純水で抽出し、その抽出液をイオンクロマトグラフ、液中パーティクルカウンター、結合誘導プラズマ−質量分析計、原子吸光分光光度計により測定する方法である。 - 特許庁
The raw material for chemical vapor deposition is suitable for a raw material for depositing a silicon-containing thin film, preferably, a silicon oxide- containing thin film by the chemical vapor deposition method, in particular, an ALD (Atomic Layer Deposition) method on a substrate.例文帳に追加
該化学気相成長用原料は、基体上に化学気相成長法、特にALD法により、ケイ素含有薄膜、好ましくは酸化ケイ素薄膜を形成する原料として好適である。 - 特許庁
To provide an analysis method capable of measuring a trace amount of silicon contained in an organic silicon compound with high sensitivity and excellent reproducibility by a graphite furnace atomic absorption method.例文帳に追加
本発明にあっては、黒鉛炉原子吸光法により有機ケイ素化合物中に含まれる極微量なケイ素を高感度で再現よく測定する分析方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a method for producing the precursor solution of a solid electrolyte which is excellent in control of atomic ratio in the crystal of the solid electrolyte and suitable for grain refinement, and a method for producing the solid electrolyte.例文帳に追加
固体電解質の結晶中における原子比率の制御に優れ、かつ微粒子化に適した固体電解質の前駆体溶液の製造方法と、固体電解質の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of optimizing the supply amount of a raw material precursor to deposit a thin film while highly accurately realizing film thickness control at an atom layer level by an atomic layer deposition (ALD method).例文帳に追加
原子層堆積法(ALD法)により原子層レベルでの膜厚制御を高精度に実現しながら薄膜を堆積するために、原料プレカーサの供給量を最適化する方法を提供する。 - 特許庁
As a surface analysis method, an XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) analysis method or the like is enumerated, and when being used together with an ICP-AES (Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectroscopy) analysis, a result which is unmeasurable in the ICP-AES analysis can be supplemented.例文帳に追加
表面分析方法としては、XPS分析法等が挙げられ、ICP−AES分析と併用すれば、ICP−AES分析では測定不可能だった結果を補足することも出来る。 - 特許庁
A grow discharge atomic emission spectrometry method is preferable for this analyzing method, and the components contained in the molten metal can be analyzed with high accuracy up to the limit of a very small amount and all elements are simultaneously analyzed on line.例文帳に追加
分析方法としてはグロー放電発光分光法が好ましく、溶融金属に含有される成分を微量域まで高精度で全元素同時にオンライン分析することができる。 - 特許庁
To provide a thin film forming method using an atomic layer evaporation method, which is applied to the formation of a gate insulating film that has a high permittivity, is thermally stable, hard to be crystallized, and superior in film characteristics.例文帳に追加
比誘電率が高く、熱的に安定で結晶化し難い、膜特性の良好なゲート絶縁膜の形成に適用される原子層蒸着法を用いた薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁
To solve the problem wherein a calculation method based on Fourier transform is adopted in order to reconstitute a three-dimensional structure of atomic arrangement in a conventional electronic holography method, but reproduction of the three-dimensional structure from a single wave hologram is difficult in the method.例文帳に追加
従来の電子ホログラフィー法では原子配列の立体構造を再構成するためにフーリエ変換を基本とした計算方法がなされてきたが、この方法では単波長ホログラムからの立体構造を再現するのは難しい。 - 特許庁
This ZnOx semiconductor layer is formed by using various thin film forming techniques such as a spin coat method, a DC sputtering method, an RF sputtering method, a metal organic vapor phase deposition (MOCVD) or an atomic layer deposition (ALD).例文帳に追加
このZnOx半導体層を、スピンコート法、DCスパッタリング法、RFスパッタリング法、有機金属気相成長法(MOCVD)または原子層堆積法(ALD)のような様々な薄膜形成技術を用いて形成する。 - 特許庁
Then, platinum is diffused to a wafer that has been subjected to the RTA heat treatment, and platinum concentration is measured by the DLTS method, thus obtaining atomic void concentration V.例文帳に追加
次にこのRTA熱処理を行ったウェーハに白金を拡散しDLTS法にて白金濃度を測定することにより原子空孔濃度Vを求める。 - 特許庁
The cross-sectional shape of the cavity 25 is, for example, a boat-like concave shape and a surface A of the cavity 25 is covered with a film X that is formed by an atomic layer deposition method.例文帳に追加
キャビティ25の断面形状は、例えば舟形凹状であり、キャビティ25の表面Aは、原子層堆積法により形成された膜Xで被覆されている。 - 特許庁
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